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イノテック株式会社

Intel® Atom® プロセッサー搭載 組込み向けCPUボード AX-1020

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■特長 ・組込み向けCPUボード ・Intel® Atom® Elkhart Lake搭載 ・2031年までの長期供給 ・0~+60℃に対応可能 ・125 (W) ×140 (D) mmの小型サイズ ・Windows/...

5種類の品番

Intel® Atom® プロセッサー搭載 組込み向けCPUボード AX-1020
Intel® Atom® プロセッサー搭載 組込み向けCPUボード AX-1020
Intel® Atom® プロセッサー搭載 組込み向けCPUボード AX-1020
Intel® Atom® プロセッサー搭載 組込み向けCPUボード AX-1020
Intel® Atom® プロセッサー搭載 組込み向けCPUボード AX-1020

株式会社豊港

窒化アルミニウム(AlN)単結晶

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豊港化学では、窒化アルミニウム(AlN)単結晶を取り扱っております。 主な取扱製品: ・窒化アルミニウム(AlN)単結晶基板 ・Sapphire on AlScNテンプレー...

44種類の品番

窒化アルミニウム(AlN)単結晶
窒化アルミニウム(AlN)単結晶
窒化アルミニウム(AlN)単結晶
窒化アルミニウム(AlN)単結晶
窒化アルミニウム(AlN)単結晶
窒化アルミニウム(AlN)単結晶

ムサシノ電子株式会社

精密研磨システム 試料保持ユニット eタイプ研磨装置用試料保持アタッチメント

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精密研磨装置による自動研磨作業には、試料ホルダーを保持する試料保持ユニットが必要となります。 使用する試料ホルダーに合わせた試料保持ユニットをお選...

3種類の品番

精密研磨システム 試料保持ユニット eタイプ研磨装置用試料保持アタッチメント
精密研磨システム 試料保持ユニット eタイプ研磨装置用試料保持アタッチメント
精密研磨システム 試料保持ユニット eタイプ研磨装置用試料保持アタッチメント

北野精機株式会社

有機EL試作用デバイス製造装置 有機EL成膜・評価装置Ⅱ OED R&D SystemⅡ

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■特徴 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1~3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド構造 ・基盤加熱ヒタ...

2種類の品番

有機EL試作用デバイス製造装置 有機EL成膜・評価装置Ⅱ OED R&D SystemⅡ
有機EL試作用デバイス製造装置 有機EL成膜・評価装置Ⅱ OED R&D SystemⅡ

高千穂交易株式会社

MultiFlex®シリーズ MultiFlex®CPU (組み込み用小型CPUモジュール) Multi Flex 8M CPU

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■製品概要 2G/3G/4G/マルチフレックスシリーズコンピュータはARMコアテクノロジをベースとしたコンシューマ、インダストリアル、車載まで幅広いアプリケーシ...

3種類の品番

MultiFlex®シリーズ MultiFlex®CPU (組み込み用小型CPUモジュール) Multi Flex 8M CPU
MultiFlex®シリーズ MultiFlex®CPU (組み込み用小型CPUモジュール) Multi Flex 8M CPU
MultiFlex®シリーズ MultiFlex®CPU (組み込み用小型CPUモジュール) Multi Flex 8M CPU

株式会社渡辺商行

半導体製造装置 高生産性連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (AMAX1200)

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量産向け NSG (SiO2) /PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (12インチウェハ対応) 「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜...

2種類の品番

半導体製造装置 高生産性連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (AMAX1200)
半導体製造装置 高生産性連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (AMAX1200)

株式会社魁半導体

真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD

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業界初、液体原料から直接成膜する安全なプラズマ CVD。 ■製品概要 ・魁半導体独自の「DH-CVD」技術を応用した薄膜形成装置 ・有機金属系の材料も危険なガス...

2種類の品番

真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD
真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD

ヤマナカアドバンスマテリアル株式会社

半導体材料 CVD・拡散・SiCコーティング材料

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CVD・拡散工程など、薄膜生成のために不可欠な高純度材料の製品をお客様のご要望にお応えし、製造・開発しております。

ナノテック株式会社

PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>

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イオン化蒸着法によるDLC成膜を基本として、幅広いアプリケーションに対応すべく新開発のPSII電源を標準で搭載し、その放電パラーメータによるDLC膜の塑性制...

9種類の品番

PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>
PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>
PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>
PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>
PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>
PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>

アスザック株式会社

セラミックス 吸着ハンド UniZac-air®

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■吸着ハンドとは 中空一体成型技術を用い、接着材を一切使わずに真空ラインを形成した 真空チャック式セラミックスハンドです。 セラミックスの特性を活かし...

株式会社新陽

シリコンエピタキシャルウェハー

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Φ8inchまでの各種Si Epi wafer を供給いたします。

2種類の品番

シリコンエピタキシャルウェハー
シリコンエピタキシャルウェハー

ネオアーク株式会社

マスクレス露光装置 PALET 大型ステージモデル DDB-701-DL4

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■フォトリソを、もっと身近に かつて「産業のコメ」と呼ばれた半導体。その半導体プロセスの根幹を支えた技術が「フォトリソグラフィ」です。時代とともにフ...

3種類の品番

マスクレス露光装置 PALET 大型ステージモデル DDB-701-DL4
マスクレス露光装置 PALET 大型ステージモデル DDB-701-DL4
マスクレス露光装置 PALET 大型ステージモデル DDB-701-DL4

アイスモス・テクノロジー・ジャパン株式会社

SiSi Wafer

330人以上が見ています

従来の厚エピや反転エピなど、パワーデバイスやPiNダイオード用に従来使用されていた材料の代替として用いることができ、費用対効果が高い材料です。直接ウエ...

4種類の品番

SiSi Wafer
SiSi Wafer
SiSi Wafer
SiSi Wafer

株式会社アイデン

薄膜生成機器・ナノテク機器 簡易型 スピンコータ SPIN COATER SC8002

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■簡易型スピンコータ SPIN COATER 型式:SC8002 ・簡単設定、小型、2段回転速度MAX8000RPM。 ・二重構造になっているため、内皿は取り出して出来ます。 ・目...

4種類の品番

薄膜生成機器・ナノテク機器 簡易型 スピンコータ SPIN COATER SC8002
薄膜生成機器・ナノテク機器 簡易型 スピンコータ SPIN COATER SC8002
薄膜生成機器・ナノテク機器 簡易型 スピンコータ SPIN COATER SC8002
薄膜生成機器・ナノテク機器 簡易型 スピンコータ SPIN COATER SC8002

価格 (税抜)

442,000 円〜

株式会社協同インターナショナル

ナノパターン露光装置"PhableR 100"

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■PhableR 100は、300nmピッチ以下の高解像度を実現 ・PhableR 100 は、EULITHA社独自の露光技術であるPHABLE (Photonics Enablerの短縮形) に基づいたシステ...

4種類の品番

ナノパターン露光装置"PhableR 100"
ナノパターン露光装置"PhableR 100"
ナノパターン露光装置"PhableR 100"
ナノパターン露光装置"PhableR 100"

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