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半導体製造に含まれる33カテゴリ一覧です。半導体露光装置・半導体製造装置・露光装置など幅広く、製品・メーカー・代理店を探すことができます。
1,319 点の製品中 5ページ目
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北野精機株式会社
470人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
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24.9時間 返答時間
■特徴 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1～3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド構造 ・基盤加熱ヒタ...
2種類の品番
ムサシノ電子株式会社
500人以上が見ています
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返信のとても早い企業
5.0 会社レビュー
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精密研磨装置による自動研磨作業には、試料ホルダーを保持する試料保持ユニットが必要となります。 使用する試料ホルダーに合わせた試料保持ユニットをお選...
3種類の品番
イノテック株式会社
700人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
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62.5時間 返答時間
■特長 ・組込み向けCPUボード ・Intel® Atom® Elkhart Lake搭載 ・2031年までの長期供給 ・0~+60℃に対応可能 ・125 (W) ×140 (D) mmの小型サイズ ・Windows/...
5種類の品番
ヤマナカアドバンスマテリアル株式会社
340人以上が見ています
最新の閲覧: 20時間前
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CVD・拡散工程など、薄膜生成のために不可欠な高純度材料の製品をお客様のご要望にお応えし、製造・開発しております。
株式会社魁半導体
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業界初、液体原料から直接成膜する安全なプラズマ CVD。 ■製品概要 ・魁半導体独自の「DH-CVD」技術を応用した薄膜形成装置 ・有機金属系の材料も危険なガス...
2種類の品番
高千穂交易株式会社
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返信の比較的早い企業
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■製品概要 2G/3G/4G/マルチフレックスシリーズコンピュータはARMコアテクノロジをベースとしたコンシューマ、インダストリアル、車載まで幅広いアプリケーシ...
3種類の品番
アスザック株式会社
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■吸着ハンドとは 中空一体成型技術を用い、接着材を一切使わずに真空ラインを形成した 真空チャック式セラミックスハンドです。 セラミックスの特性を活かし...
ナノテック株式会社
1080人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
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イオン化蒸着法によるDLC成膜を基本として、幅広いアプリケーションに対応すべく新開発のPSII電源を標準で搭載し、その放電パラーメータによるDLC膜の塑性制...
9種類の品番
株式会社渡辺商行
490人以上が見ています
返信の比較的早い企業
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量産向け NSG (SiO2) /PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (12インチウェハ対応) 「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜...
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Semi Next株式会社
490人以上が見ています
■生産効率大幅アップ。治具ごとに自由にバーンイン条件を設定でき、研究開発にも便利 弊社の『 バーンイン装置』は、チャンバー式ではなく、治具ごとに温度や...
タツモ株式会社
750人以上が見ています
最新の閲覧: 16分前
高度な3次元実装、デバイス薄化の脆弱性対策等を目的としたウェーハの極薄化を支援し、半導体パッケージングの更なる小型化、省 エネを進めるために開発/設計...
4種類の品番
株式会社東設
830人以上が見ています
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■HDD業界全社に磁性膜めっき装置の納入実績あり フェイスアップ式は、HDD磁気ヘッド用途の磁性薄膜形成プロセスにおいて、30年の長きにわたり採用されている...
2種類の品番
コスモ技研株式会社
400人以上が見ています
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返信のとても早い企業
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2.9時間 返答時間
コンパクト設計の卓上式UV (紫外線) オゾン洗浄改質装置「CUVDシリーズ」シリコーンウェハー、半導体部品等の有機汚染物質除去に プラスチック部品に限らず...
3種類の品番
ワイエイシイガーター株式会社
440人以上が見ています
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トレイから供給されたデバイスを電気特性・外観検査の結果から良品のみをテーピングする装置です。トレイ交換時間短縮により、製造ライン全体の生産効率の向...
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株式会社マイクロフェーズ
350人以上が見ています
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61.4時間 返答時間
CNT合成,カーボン成膜,ナノセラミック成膜,窒化,カルコゲナイド成膜等に ■目的 CNTを合成したり、粉体試料にカーボンを成膜したり、各種CVD成膜するための汎...
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