フォトリソグラフィ用材料 (フォトレジスト) 2層リフトオフプロセス用下層材料 BLXシリーズ-BLXシリーズ
フォトリソグラフィ用材料 (フォトレジスト) 2層リフトオフプロセス用下層材料 BLXシリーズ-ナガセケムテックス株式会社

フォトリソグラフィ用材料 (フォトレジスト) 2層リフトオフプロセス用下層材料 BLXシリーズ
ナガセケムテックス株式会社

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この製品について

めまぐるしく進展する昨今の超微細半導体やフラットパネル製造の世界において、その製造プロセスも多様化が進み、適用可能材料の迅速な開発力が必要とされています。弊社ではリフトオフプロセスに対応した特徴的なフォトレジスト (感光性材料) を開発しています。 リフトオフプロセスは金属エッチング処理による配線加工工程が不要なメリットがあり、工程短縮や使用材料の削減に貢献します。お客様の個別のニーズ、細かなご要望にあわせた材料開発もご相談を承ります。

■特徴

・様々な上層レジストにインターミキシング無く適用可能 ・上下層で様々な膜厚設計が可能 ・プロセス条件によりサイドエッチング量は任意に調整可能 ・良好な剥離性 ・既存製品の代替が可能

■用途

化合物半導体、光学デバイス、RFデバイス、難エッチング材料

  • シリーズ

    フォトリソグラフィ用材料 (フォトレジスト) 2層リフトオフプロセス用下層材料 BLXシリーズ

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フォトリソグラフィ用材料 (フォトレジスト) 2層リフトオフプロセス用下層材料 BLXシリーズ 品番1件

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BLXシリーズ

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

ナガセケムテックス株式会社は、1970年に設立された樹脂製品メーカーです。 帯電防止剤の製造販売、透明電極形成材料の製造販売、ペースト添加剤の製造販売、フォトリソグラフィ用材料の製造販売、金属イオン除去剤の製造販売、接...

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  • 本社所在地: 大阪府
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