半導体製造

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ChemFine International Co., Ltd.

光開始剤s 3076はTriaryl Hexafluoroantimonyの硫酸塩イオン創始者Cas 89452-37-9を混合した

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高い感光性の液体のphenyl hexafluoroantimoniumの酸のカチオンのphotoinitiatorおよびよく効率を厚いフィルムの治す。 ◼︎導入一連の高性能の感光性創始者...

ハイソル株式会社

真空ガス置換ポリイミドキュアオーブン 450PB8-2P-CP

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真空環境、不活性ガス雰囲気下 (N2, Ar etc) での加熱処理が可能な卓上型バッチ式オーブンです。装置前面のタッチパネルスクリーンで容易に温度制御レシピを...

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ハイソル株式会社

ラッピング・ポリッシング装置 PM6/LP70シリーズ卓上型精密研磨装置 LP70

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PM6/LP70は、ラッピング (粗研磨) とポリッシングを1台で行うことが出来る精密研磨装置です。耐薬品モデルを使用することにより、CMP (ケミカルメカニカルポ...

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伊原電子工業株式会社

プリント基板ビルドアップ基板

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体層を1層ずつ積み上げてレーザーVIAで層間接続を取るビルドアップ構造により、VIAによる配線スペースの占有を大幅に少なくできます。配線の自由度が高くなり...

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伊原電子工業株式会社

プリント基板貫通樹脂埋め基板 (Pad on Via)

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スルーホールに専用の樹脂や金属ペーストを埋め込み、その上に蓋めっきをしてパッドを設けることによって配線スペースの節約が可能となります。狭ピッチBGAな...

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ハイソル株式会社

ウエハーボンディング装置 WSB2 ウエハーボンダー 1WBS2 (4インチタイプ)

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研磨業界において50年以上の歴史を持つ、ロジテック社 (英国) が提供するウエハーボンダーが研磨の問題を解決します。研磨の前に行う、サンプルと支持基板...

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ハイソル株式会社

卓上型マニュアルウエッジワイヤーボンダー MODEL-7476D (7400D仕様)

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■概要モデル7476D (7400D仕様) は卓上型のマニュアルウエッジワイヤーボンダーです。新機構X-Y-Z 3軸マニピュレーター (特許) を標準装備しているので抜群...

ハイソル株式会社

ラッピング・ポリッシング装置ウエハー洗浄装置 ParticleClean

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研究開発用に最適な卓上型の洗浄装置です。CMPといった研磨後のウエハー洗浄など、手洗いの代替としてご使用頂けます。 ■特徴・スクラブと2流体 (ミスト) ...

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京セラ株式会社

セラミックパッケージガスセンサ用パッケージ／リッド (半導体式)

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主要なガスセンサ方式の一つである半導体式ガスセンサは、可燃ガスや毒ガスなどを検知でき、長期安定性や耐久性の高さがメリットです。近年MEMSタイプが登場...

北野精機株式会社

薄膜作製装置電子ビーム蒸着装置大型EB蒸着装置

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■特徴本装置は電子ビーム (EB) を用いた高融点金属蒸着装置です。本装置には高い材料使用効率と高い膜特性を実現するために自転・公転型プラネタリーを使用...

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京セラ株式会社

セラミックパッケージガスセンサ用パッケージ (NDIR式)

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NDIR (Non Dispersive InfraRed：非分散型赤外線吸収法) 式のガスセンサはCO₂の検出に多く使用されています。NDIR式は赤外線を放射する「発光素子」と、赤外...

北野精機株式会社

薄膜作製装置 PVD装置ハイブリッド蒸着装置

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■特徴本装置はPVD手法からなるマグネトロンスパッタ源4個とEB蒸着源2個とMBE用K-CELL装備したハイブリッド型蒸着装置です。高融点材料や酸化物など多種多様...

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株式会社MSAファクトリー

真空制御・加熱/Vacuum Oven 真空はんだ付けリフロー炉 PH224シリーズ

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■主な用途真空はんだ付けリフローとして、また、真空ベーク、真空乾燥炉としてご使用いただけます。タッチパネル式温度コントローラにより、簡単な操作にて...

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北野精機株式会社

薄膜作製装置 4元マグネトロンスパッタリング装置

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本装置はDCマグネトロンスパッタ源を用いたブレーナー型マグネトロンスパッタリング装置です。弊社独自のロードロック室を設けた、超高真空対応型です。成膜...

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北野精機株式会社

薄膜作製装置マグネトロン・スパッタリング蒸着装置

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■特徴本装置はDCマグネトロンスパッタ源を用いたブレーナー型マグネトロンスパッタリング超高真空薄膜作製装置です。均一な成膜が可能なサンプルホルダー回...

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