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顕微鏡観察用ステージ、デバイス・MEMS評価ステージとして。小型角度ステージ、傾斜ステージ カスタマイズ対応品、在庫品 様々なバリ...
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■主な用途 スプレーコーティングなどフィルム・薄いガラス基板などの加熱工程、液体、噴霧を伴う加熱工程に、最高温度600℃まで。 ■多孔...
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■特徴 リニアガイドとボールねじ駆動による大型・高耐荷重手動ステージです。重量物 (50kg) の位置調整用途向けに商品化いたしました。 ...
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超高温ホットプレス、ホットプレートでのノウハウで最高温度600℃までラインナップしています。 ■油圧プレスによる高推力 油圧プレスシ...
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■中強度タイプSHXYシリーズ 駆動軸シャフトにダブルブッシュを採用した中強度タイプのXYステージです。耐荷重10kg、より耐荷重 (重量物...
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■主な用途 材表研究・評価、無機材料熱処理、耐熱性評価、ベーキング等 ■MSAファクトリー加熱ノウハウ 素材 (超耐熱プレート、熱歪対策...
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■主な用途 幅広い温度評価用ヒートステージバキュームチャック機能付きステージ ■デジタル温度コントローラ MSAファクトリー標準温度コ...
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特注対応、真空ホットプレートチャンバー、PH225最高温度800℃まで。 ■主な用途 真空加熱用実験器具として、また、真空ベーク、真空乾燥...
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■主な用途 大型基板、ガラス加熱用リフター、カバー付きホットプレートPA-LIFシリーズの他、ウエハ加熱 (RPシリーズ) 、材表研究・評価...
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■高精度温調は、MSAFactoryデジタルコントローラで 高精度ホットプレート、ヒートブロックをはじめ各種の温度調整のアプリケーションに...
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超高温ホットプレス、ホットプレートでのノウハウで最高温度800℃までラインナップしています。 ■空圧プレスによる小推力・高精度 空圧...
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■主な用途 真空はんだ付けリフローとして、また、真空ベーク、真空乾燥炉としてご使用いただけます。タッチパネル式温度コントローラに...
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■主な用途 ウエハ加熱をはじめ、材料のベーキング、評価等に最適です。空気加熱等に比較し、ホットプレートによる熱伝導での加熱ですの...
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■主な用途 真空加熱プロセス、真空ベーク、真空乾燥炉、VCDとしてご使用いただけます。カラータッチパネル式温度コントローラ/PCC118-HV...
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■主な用途 両面加熱:ホットプレートを上下に挟み込んで加熱するタイプです。通常タイプとBP (ウラ面加熱タイプ) の2つの使用で同等の加...
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■主な用途 大型基板、ガラス加熱用カバー付きホットプレートPA-CCシリーズの他、ウエハ加熱 (RPシリーズ) 、リフター付き (PA-LIFシリー...
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■主な用途 分析機器、装置内の精密温調ユニット、温度コントローラ別置きタイプ。温調ブース、クリーンブース内の精密温調 デジタルコ...
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■主な用途 材料研究・評価、無機材料熱処理、耐熱性評価、ベーキング等 ■MSAファクトリー加熱ノウハウ 素材 (超耐熱プレート、熱歪対策...
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■豊富な形状 様々なウェットプロセスに対応できるよう、形状、サイズを標準化しています。 ■安価・短納期 標準品・在庫品ですので、安...
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■主な用途 ウエハ用温度特性試験、プローブ搭載用ホットチャックガラスチャック、基板電気特性試験 ■デジタル温度コントローラ MSAファ...
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■主な用途 ウエハ加熱 (RPシリーズ) 、材表研究・評価、無機材料熱処理、耐熱性評価、ベーキング等、RPシリーズには、両面加熱や石英製...
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■主な用途 真空チャンバー内にて、ご使用いただけるホットプレート。 ■MSAファクトリー真空加熱用ホットプレート 最高温度 600℃まで、...
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真空圧コントローラ/定圧チャンバー、真空チャンバー・装置、最高温度800℃ ■主な用途 定圧コントローラは、一定圧力環境を高精度で維...
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■主な用途 低酸素濃度雰囲気での加熱を小型ホットプレートにて行えます。冷却装置 (冷却水、チラー) などの設備を必要とせずに、卓上設...
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■主な用途 材表研究・評価、無機材料熱処理、耐熱性評価、ベーキング等 ■MSAファクトリー加熱ノウハウ 素材 (超耐熱プレート、熱歪対策...
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■主な用途 高密度ヒータ容量設計のホットプレートに冷却ファンを内蔵した高速昇温6℃/sec高速降温3℃/secおよび水冷ペルチェでの冷却付き...
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■主な用途 超高速昇温・高速降温・温度プロセス向け ■高温時での温度精度 面内分布±1%以下高精度ホットプレート ■超高速昇温 MSAホッ...
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■豊富なプレス構成 平行平板タイプ:用途、平たいワーク (板状、フィルム状) の荷重加熱、金型の荷重加熱等粉体焼成タイプ:金型を使用...
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■主な用途 スプレーコーティングなどフィルム・薄いガラス基板などの加熱工程、液体、噴霧を伴う加熱工程に、最高温度600℃まで。 ■多孔...
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■主な用途 真空加熱用実験器具として、また、真空ベーク、真空乾燥炉としてご使用いただけます。安価に真空加熱プロセスを構築いただけ...
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