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成膜装置 メーカー34社

成膜装置のメーカー34社一覧企業ランキングを掲載中!成膜装置関連企業の2025年8月注目ランキングは1位:長州産業株式会社、2位:新明和工業株式会社、3位:ジャパンクリエイト株式会社となっています。 成膜装置の概要、用途、原理もチェック!

34成膜装置メーカー

成膜装置 2025年8月のメーカーランキング


業界別

🧪 化学 💻 電子・電気機器

項目別

使用用途

#半導体製造

#光学部品製造

#太陽電池製造

#ディスプレイ製造

#電池材料開発

#センサ開発

#薄膜トランジスタ開発

#表面改質

#機能性材料研究

#MEMS製造

#医療機器製造

#材料評価

成膜方式

蒸着法

スパッタリング法

CVD法

ALD法

溶液法

構成環境

真空型

低圧型

プラズマ利用有無

プラズマ無し

プラズマ援用型

高周波プラズマ型

基板搬送方式

固定基板型

回転基板型

ロール搬送型

到達圧力 Pa

0 - 0.01

0.01 - 1

1 - 10

基板サイズ mm

25 - 50

50 - 100

100 - 150

150 - 200

200 - 300

300 - 400

400 - 500

500 - 650

設置面積 m²

1 - 5

5 - 10

10 - 20

所要電力 kVA

10 - 15

15 - 20

20 - 25

25 - 30

30 - 35

真空槽 mm

500 - 800

800 - 1,000

基板バイアス V

0 - 5,000

5,000 - 25,000

196 点の製品中 5ページ目

196 点の製品中 5ページ目

株式会社オプトラン

メタルモードスパッタ装置 NSC-2350

20人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

145.6時間 返答時間

NSC-2350は大型基板に対応した光学薄膜用メタルモード・スパッタ装置です。モバイル端末や車載パネルのAR+AS膜の生産に適しています。 ...


株式会社シンクロン

様々な電極の成膜に用いられています 透明電極、金属電極用スパッタ装置 BSC

30人以上が見ています

100.0% 返答率

194.7時間 返答時間

■用途 電子、電気の制御 ■特徴 ・低抵抗な電極が成膜できます ・誘電体と金属の多層構造が可能です


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 縦型リアクタ SV2003

100人以上が見ています

最新の閲覧: 18時間前

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料におい...


北野精機株式会社

薄膜作製装置 4元マグネトロンスパッタリング装置

360人以上が見ています

最新の閲覧: 10時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.9時間 返答時間

本装置はDCマグネトロンスパッタ源を用いたブレーナー型マグネトロンスパッタリング装置です。弊社独自のロードロック室を設けた、超高...


北野精機株式会社

薄膜作製装置 マグネトロン・スパッタリング蒸着装置

410人以上が見ています

最新の閲覧: 16時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.9時間 返答時間

■特徴 本装置はDCマグネトロンスパッタ源を用いたブレーナー型マグネトロンスパッタリング超高真空薄膜作製装置です。均一な成膜が可能...


株式会社オプトラン

メタルモードスパッタ装置 OWLS-1800

30人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

145.6時間 返答時間

OWLS-1800は半導体光学に向け、新たに開発した水平型メタルモード・スパッタ成膜装置です。最大12インチのウェハーに対応し、両面同時成...


株式会社昭和真空

ロードロック式 スパッタリング装置 SPH-2500T-Ⅱ

30人以上が見ています

最新の閲覧: 3時間前

■二種類の膜を両面に成膜可能なスパッタリング装置 本装置は水晶振動子のベース電極成膜を目的として開発したロードロック式スパッタリ...


株式会社シンクロン

材料探索向けスパッタ装置の最高峰 研究開発向け小型多元スパッタ装置 P-RAS

20人以上が見ています

100.0% 返答率

194.7時間 返答時間

■用途 電子、電気の制御 ■概要 独自開発したプログラマブルデジタル制御器のもと、多元スパッタ源を複合的に制御できるDPDRS (Digitall...


有限会社渕田ナノ技研

ガスデポジション (GD) 装置 高周波誘導加熱10kw ノズル径φ0.3mm×1

20人以上が見ています

■概要 ガス中で作製されたナノ粒子はガス搬送され、ノズルから対向する基材へ噴射堆積される。活性なナノ粒子を膜形成に利用するために...


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 縦型リアクタ SVS2001

110人以上が見ています

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料におい...


株式会社昭和真空

ロードロック式通過型スパッタリング装置 SPH-2410-Ⅱ

30人以上が見ています

最新の閲覧: 3時間前

■二種類の膜を両面に成膜可能なスパッタリング装置 本装置は水晶振動子のベース電極成膜を目的として開発したロードロック式通過型スパ...


株式会社昭和真空

ロードロック式カルーセル型スパッタリング装置 SPC-2507-Ⅱ

30人以上が見ています

最新の閲覧: 3時間前

■二種類の膜を片面ずつ成膜可能なスパッタリング装置 基板反転機構を利用し両面成膜機構を採用した小型カルーセル式スパッタリング装置...


株式会社シンクロン

RASシリーズ最高の生産性を誇る最新機種 大型基板用スパッタ装置 RAS-2200

30人以上が見ています

100.0% 返答率

194.7時間 返答時間

■概要 RASシリーズ史上最高の生産性を実現することを目的に開発された装置です。 ドラムの大型化と装置のコンパクト化の両立を実現させ...


株式会社オプトラン

原子層堆積装置 ALDER-800P

40人以上が見ています

最新の閲覧: 34分前

100.0% 返答率

145.6時間 返答時間

ALDER-800Pはプラスチック基板への光学多層成膜を可能としたプラズマALD装置です。 ■特長 ・レンズ全周や3D構造物へのコンフォーマル成...


有限会社渕田ナノ技研

ガスデポジション (GD) 装置 高周波誘導加熱30kw ノズル径φ1mm×1

10人以上が見ています

■概要 ガス中で作製されたナノ粒子はガス搬送され、ノズルから対向する基材へ噴射堆積される。活性なナノ粒子を膜形成に利用するために...


北野精機株式会社

薄膜作製装置 電子ビーム蒸着装置 大型EB蒸着装置

360人以上が見ています

最新の閲覧: 18時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.9時間 返答時間

■特徴 本装置は電子ビーム (EB) を用いた高融点金属蒸着装置です。本装置には高い材料使用効率と高い膜特性を実現するために自転・公転...


北野精機株式会社

薄膜作製装置 PVD装置 ハイブリッド蒸着装置

410人以上が見ています

最新の閲覧: 16時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.9時間 返答時間

■特徴 本装置はPVD手法からなるマグネトロンスパッタ源4個とEB蒸着源2個とMBE用K-CELL装備したハイブリッド型蒸着装置です。高融点材料...


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 縦型リアクタ SVS3001

120人以上が見ています

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料におい...


株式会社オプトラン

原子層堆積装置 ALDER-800T

30人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

145.6時間 返答時間

ALDER-800T (A800T) は大容量ロードロック機構を有し、高いスループット、高い均一性、優れた再現性を実現するサーマルモードALD装置で...


株式会社日本シード研究所

CVD装置 プラズマCVD装置

30人以上が見ています

最新の閲覧: 3時間前

■概要 ・容量結合型プラズマ方式のCVD装置です。 ・加熱機構を備えており、任意の温度に基板を加熱して成膜することが可能です。 ・直感...


株式会社昭和真空

カルーセル型高速スパッタ重合装置 SPP-155TC

20人以上が見ています

■小ロット・短いサイクルタイムで回せるスパッタリング装置 本装置は大型の製品にスパッタ・重合成膜が可能にもかかわらずハイサイクル...


株式会社オプトラン

原子層堆積装置 ALDER-1000

30人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

145.6時間 返答時間

ALDER-1000は従来の成膜手法では成しえなかった光学特性を実現します。立体形状への成膜が可能で、カメラレンズへのAR膜はゴースト・フ...


株式会社シンクロン

AFS (Anti-Fingerprint and Scratch) 用バッチ蒸着装置 ACE

30人以上が見ています

100.0% 返答率

194.7時間 返答時間

■概要 タッチパネルの指紋付着防止等、防汚膜の成膜に活用されています。 ■用途 表面の制御 ■特徴 耐スクラッチ性に優れたAFS膜の成膜...


有限会社渕田ナノ技研

ガスデポジション (GD) 装置 高周波誘導加熱10kw ノズル径φ0.8mm×1

40人以上が見ています

■概要 ガス中で作製されたナノ粒子はガス搬送され、ノズルから対向する基材へ噴射堆積される。活性なナノ粒子を膜形成に利用するために...

2種類の品番


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 縦型リアクタ SVS4001

110人以上が見ています

最新の閲覧: 23時間前

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料におい...


株式会社日本シード研究所

CVD装置 金属熱CVD装置

30人以上が見ています

最新の閲覧: 12時間前

■概要 ・コールドウォール式の熱CVD装置です。最高800℃の加熱制御が行えます。 ・成膜基板およびその近傍を加熱する構造の為、原料を効...


株式会社昭和真空

射出成型機連動型高速スパッタ・重合システム SPP Series

20人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

■樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能 射出成型機と本装置を連動させて成形→金属膜 (Al) →保護膜 (SiOx) を簡単に全自動成膜...


株式会社昭和真空

バッチ式真空蒸着装置 SDC-1300F

20人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

■加飾膜などに適したスタンダードモデル 各種金属膜の成膜が可能です。基板台車を2台付属しており、成膜中に基板交換、蒸着材料交換が可...


有限会社渕田ナノ技研

ガスデポジション (GD) 装置 抵抗加熱650° ノズル径φ0.8mm×2

20人以上が見ています

■概要 ガス中で作製されたナノ粒子はガス搬送され、ノズルから対向する基材へ噴射堆積される。活性なナノ粒子を膜形成に利用するために...


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 縦型リアクタ SVS2003

130人以上が見ています

最新の閲覧: 10時間前

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料におい...


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