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成膜装置のメーカー34社一覧や企業ランキングを掲載中！成膜装置関連企業の2025年8月注目ランキングは1位:長州産業株式会社、2位:新明和工業株式会社、3位:ジャパンクリエイト株式会社となっています。 成膜装置の概要、用途、原理もチェック！
成膜装置とは、その名の通り膜を作成するための装置のことです。
薄膜の厚さや純度、有機物・無機物に応じて、さまざまな種類の成膜装置が開発されており、例えば半導体関連の材料のように高純度で均一な膜が必要な場合は、高真空の成膜装置が利用されます。
一方、フィルムのような大面積で大量生産が求められる製品に対しては、ロールトゥロール式やバッチ式などの方法が選択されます。また、溶液を乾燥させて成膜する際には、スピンコート式やインクジェット式といった装置が活用され、溶液を塗布した後、乾燥させて成膜を行うことが可能です。
成膜装置は、用途や条件に応じて適切なタイプを選択することが重要です。その選択によって、より効率的で高品質な製品の開発が可能となります。
2025年8月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | 長州産業株式会社 |
11.5%
|
| 2 | 新明和工業株式会社 |
9.2%
|
| 3 | ジャパンクリエイト株式会社 |
9.2%
|
| 4 | ジオマテック株式会社 |
6.9%
|
| 5 | 株式会社コメット |
6.1%
|
| 6 | サムコ株式会社 |
5.3%
|
| 7 | 株式会社オプトラン |
3.8%
|
| 8 | JSWアフティ株式会社 |
3.1%
|
| 9 | 株式会社パスカル |
3.1%
|
| 10 | アルバック機工株式会社 |
3.1%
|
項目別
使用用途
#半導体製造
#光学部品製造
#太陽電池製造
#ディスプレイ製造
#電池材料開発
#センサ開発
#薄膜トランジスタ開発
#表面改質
#機能性材料研究
#MEMS製造
#医療機器製造
#材料評価
成膜方式
蒸着法
スパッタリング法
CVD法
ALD法
溶液法
構成環境
真空型
低圧型
プラズマ利用有無
プラズマ無し
プラズマ援用型
高周波プラズマ型
基板搬送方式
固定基板型
回転基板型
ロール搬送型
到達圧力 Pa
0 - 0.01
0.01 - 1
1 - 10
基板サイズ mm
25 - 50
50 - 100
100 - 150
150 - 200
200 - 300
300 - 400
400 - 500
500 - 650
設置面積 m²
1 - 5
5 - 10
10 - 20
所要電力 kVA
10 - 15
15 - 20
20 - 25
25 - 30
30 - 35
真空槽 mm
500 - 800
800 - 1,000
基板バイアス V
0 - 5,000
5,000 - 25,000
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本装置は、対向陰極型マグネトロンスパッタ装置で、2対の陰極を設置し、基板回転によって2種類の薄膜を交互に成膜が可能です。
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