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成膜装置のメーカー32社一覧や企業ランキングを掲載中！成膜装置関連企業の2025年6月注目ランキングは1位:ジャパンクリエイト株式会社、2位:長州産業株式会社、3位:株式会社TMEICとなっています。 成膜装置の概要、用途、原理もチェック！
成膜装置とは、その名の通り膜を作成するための装置のことです。
薄膜の厚さや純度、有機物・無機物に応じて、さまざまな種類の成膜装置が開発されており、例えば半導体関連の材料のように高純度で均一な膜が必要な場合は、高真空の成膜装置が利用されます。
一方、フィルムのような大面積で大量生産が求められる製品に対しては、ロールトゥロール式やバッチ式などの方法が選択されます。また、溶液を乾燥させて成膜する際には、スピンコート式やインクジェット式といった装置が活用され、溶液を塗布した後、乾燥させて成膜を行うことが可能です。
成膜装置は、用途や条件に応じて適切なタイプを選択することが重要です。その選択によって、より効率的で高品質な製品の開発が可能となります。
2025年6月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | ジャパンクリエイト株式会社 |
19.5%
|
| 2 | 長州産業株式会社 |
11.0%
|
| 3 | 株式会社TMEIC |
9.8%
|
| 4 | 新明和工業株式会社 |
8.5%
|
| 5 | 住友精密工業株式会社 |
6.1%
|
| 6 | 株式会社コメット |
4.9%
|
| 7 | ジオマテック株式会社 |
4.9%
|
| 8 | サムコ株式会社 |
4.9%
|
| 9 | ミヤ通信工業株式会社 |
3.7%
|
| 10 | 東邦機械工業株式会社 |
3.7%
|
項目別
使用用途
#半導体製造
#光学部品製造
#太陽電池製造
#ディスプレイ製造
#電池材料開発
#センサ開発
#薄膜トランジスタ開発
#表面改質
#機能性材料研究
#MEMS製造
#医療機器製造
#材料評価
到達圧力 Pa
0 - 0.01
0.01 - 1
1 - 10
基板サイズ mm
25 - 50
50 - 100
100 - 150
150 - 200
200 - 300
300 - 400
400 - 500
500 - 650
設置面積 m²
1 - 5
5 - 10
10 - 20
所要電力 kVA
10 - 15
15 - 20
20 - 25
25 - 30
30 - 35
真空槽 mm
500 - 800
800 - 1,000
基板バイアス V
0 - 5,000
5,000 - 25,000
株式会社シンクロン
10人以上が見ています
■用途 光学 ■概要 TiO2/SiO2282層33μmの多層膜において、ラフネスを抑え「低Hazeを実現」。 ■特徴 ・低散乱 (低Haze) な超多層膜を実...
テルモセラ・ジャパン株式会社
270人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
29.2時間 返答時間
■MiniLab ʻPlug & Playʼ 感覚でコンポーネントを組合せるモジュラーデザイン。必要な成膜条件を満たす専用機のセミカスタムメイドが可能...
株式会社日本シード研究所
最新の閲覧: 14時間前
■概要 ・超伝導トンネル接合に適合するニオブ、アルミまたこれらの化合物膜を連続成膜することができます。 ・トランスファーロッドによ...
株式会社日本シード研究所
最新の閲覧: 1日前
■概要 ・プレーナーカソードを備えた縦型スパッタ成膜装置です。 ・長尺物や立体物、処理数量の多い試料に対して均一性の高い成膜が行え...
北野精機株式会社
300人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
26.8時間 返答時間
■特徴 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1～3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド...
TP技研株式会社
230人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
33.7時間 返答時間
本器は、塗料、ワニス等を一つのテスターで5種類の種類の塗膜を塗工することにより、粘性、垂れ性、隠蔽性、適正膜厚等を調べます。
株式会社シンクロン
10人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
■概要 蒸着室を成膜のたびに大気にさらすことなく、成膜プロセス室を常に高真空に保つことが可能。そのため、屈折率が安定し、高品位な...
アリオス株式会社
380人以上が見ています
最新の閲覧: 13時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
2.4時間 返答時間
■概要 小型スパッタ装置 SS-DC RF301 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色...
株式会社オプトラン
10人以上が見ています
OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...
株式会社昭和真空
10人以上が見ています
最新の閲覧: 5時間前
バッチ間成膜再現性を追求した高性能モデル ■用途・応用例 光学多層膜フィルター (IRカットフィルター，バンドパスフィルターなど) 、各...
有限会社渕田ナノ技研
10人以上が見ています
■概要 セラミックスの常温成膜装置である。微粒子を密閉容器に入れ、ガスを導入し、エアロゾルを作る。巻き上げられた粒子は、ガスと共...
ナノテック株式会社
730人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
16.8時間 返答時間
低摩擦係数で高硬度を持つダイヤモンド・ライク・カーボン (DLC) 膜の生成をベースに各種蒸発源を併用することによりDLC膜の密着力の...
3種類の品番
株式会社MPS
240人以上が見ています
最新の閲覧: 13時間前
100.0% 返答率
57.6時間 返答時間
■概要 実験用のスパッタ装置です。4インチの円形マグネトロンカソードを最大4個搭載可能です。お客様の要求性能、ご予算に合わせた最適...
北野精機株式会社
280人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
26.8時間 返答時間
■蒸着室/特徴 ・超高真空蒸着 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大9本取付可能 ・基盤サイズ1～3インチと幅広く選択が可能 ・...
株式会社エピクエスト
170人以上が見ています
最新の閲覧: 10時間前
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100.0% 返答率
18.7時間 返答時間
ハイグレードな研究に。より高度な研究から、準生産用に最適なMBE装置です。標準Ⅲ-Ⅴ族用に加え、Ⅱ-Ⅵ族用、Si系、金属系など種々の材料に...
テルモセラ・ジャパン株式会社
130人以上が見ています
最新の閲覧: 14時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
29.2時間 返答時間
特徴 ■高品質膜 研究開発の現場で求められる均一性の高い「高品質」な薄膜を作成するための様々な条件を揃えます。nanoシリーズは魂魄と...
株式会社昭和真空
10人以上が見ています
バッチ間成膜再現性を追求した高性能モデル ■用途・応用例 光学多層膜フィルター (IRカットフィルター，バンドパスフィルターなど) 、各...
アリオス株式会社
330人以上が見ています
最新の閲覧: 12時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
2.4時間 返答時間
■概要 CVDとは、Chemical Vapor Deposition (化学蒸着装置) の略称で、ガスで原料を供給し、これをプラズマや熱などで分解し、その成分...
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OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...
TP技研株式会社
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100.0% 返答率
33.7時間 返答時間
本機はアプリケーター、サグテスター等で一定厚の塗膜を作成する場合、このプレート上 (フロートガラス) に試験片を吸引密着させ平滑を...
株式会社シンクロン
10人以上が見ています
■概要 眼鏡レンズの反射防止膜に特化した専用機 ■用途 光学 ■特徴 ・眼鏡レンズや、曲率のあるレンズ全面に均一な成膜が可能です ・無...
有限会社渕田ナノ技研
10人以上が見ています
■概要 セラミックスの常温成膜装置である。微粒子を密閉容器に入れ、ガスを導入し、エアロゾルを作る。巻き上げられた粒子は、ガスと共...
アリオス株式会社
280人以上が見ています
最新の閲覧: 14時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
2.4時間 返答時間
■概要 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色は、基板に飛来する粒子が比較...
株式会社オプトラン
10人以上が見ています
OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...
株式会社MPS
310人以上が見ています
最新の閲覧: 19時間前
100.0% 返答率
57.6時間 返答時間
■概要 実験用の熱フィラメントCVD装置です。貴社のご要望に応じて装置を設計します。
北野精機株式会社
330人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
26.8時間 返答時間
■特徴 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1～3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド...
株式会社エピクエスト
140人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
18.7時間 返答時間
ハイグレードな研究に。より高度な研究から、準生産用に最適なMBE装置です。標準Ⅲ-Ⅴ族用に加え、Ⅱ-Ⅵ族用、Si系、金属系など種々の材料に...
株式会社シンクロン
10人以上が見ています
■概要 独自開発のRAS方式により、優れた生産性・安定性を発揮。シンクロンが独自に開発したRAS (RadicalAssistedSputtering) 方式により...
株式会社昭和真空
10人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
■金属蒸着のスタンダードモデル φ4インチ及びφ6インチウエハに対して電極膜及び酸化膜の成膜が可能です。蒸着物のウエハへの入射角が垂...
株式会社シンクロン
10人以上が見ています
■用途 光学 ■特徴 ・分割ドームを用いて、一度に大量のレンズを成膜することができます ・低温成膜に最適な基板加熱方式を採用するとと...
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