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成膜装置のメーカー34社一覧や企業ランキングを掲載中!成膜装置関連企業の2025年8月注目ランキングは1位:長州産業株式会社、2位:新明和工業株式会社、3位:ジャパンクリエイト株式会社となっています。 成膜装置の概要、用途、原理もチェック!
成膜装置とは、その名の通り膜を作成するための装置のことです。
薄膜の厚さや純度、有機物・無機物に応じて、さまざまな種類の成膜装置が開発されており、例えば半導体関連の材料のように高純度で均一な膜が必要な場合は、高真空の成膜装置が利用されます。
一方、フィルムのような大面積で大量生産が求められる製品に対しては、ロールトゥロール式やバッチ式などの方法が選択されます。また、溶液を乾燥させて成膜する際には、スピンコート式やインクジェット式といった装置が活用され、溶液を塗布した後、乾燥させて成膜を行うことが可能です。
成膜装置は、用途や条件に応じて適切なタイプを選択することが重要です。その選択によって、より効率的で高品質な製品の開発が可能となります。
2025年8月の注目ランキングベスト10
順位 | 会社名 | クリックシェア |
---|---|---|
1 | 長州産業株式会社 |
11.5%
|
2 | 新明和工業株式会社 |
9.2%
|
3 | ジャパンクリエイト株式会社 |
9.2%
|
4 | ジオマテック株式会社 |
6.9%
|
5 | 株式会社コメット |
6.1%
|
6 | サムコ株式会社 |
5.3%
|
7 | 株式会社オプトラン |
3.8%
|
8 | JSWアフティ株式会社 |
3.1%
|
9 | 株式会社パスカル |
3.1%
|
10 | アルバック機工株式会社 |
3.1%
|
項目別
使用用途
#半導体製造
#光学部品製造
#太陽電池製造
#ディスプレイ製造
#電池材料開発
#センサ開発
#薄膜トランジスタ開発
#表面改質
#機能性材料研究
#MEMS製造
#医療機器製造
#材料評価
成膜方式
蒸着法
スパッタリング法
CVD法
ALD法
溶液法
構成環境
真空型
低圧型
プラズマ利用有無
プラズマ無し
プラズマ援用型
高周波プラズマ型
基板搬送方式
固定基板型
回転基板型
ロール搬送型
到達圧力 Pa
0 - 0.01
0.01 - 1
1 - 10
基板サイズ mm
25 - 50
50 - 100
100 - 150
150 - 200
200 - 300
300 - 400
400 - 500
500 - 650
設置面積 m²
1 - 5
5 - 10
10 - 20
所要電力 kVA
10 - 15
15 - 20
20 - 25
25 - 30
30 - 35
真空槽 mm
500 - 800
800 - 1,000
基板バイアス V
0 - 5,000
5,000 - 25,000
アリオス株式会社
400人以上が見ています
最新の閲覧: 11時間前
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100.0% 返答率
2.2時間 返答時間
■概要 本装置は、ダイヤモンド合成を本格的に行うためのホットフィラメント型CVD装置です。基本システムに加え各種オプションを選択する...
北野精機株式会社
260人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
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100.0% 返答率
24.9時間 返答時間
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ハイソル株式会社
390人以上が見ています
最新の閲覧: 11時間前
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100.0% 返答率
29.2時間 返答時間
本装置はHMDS (ヘキサメチルジシラザン) の蒸着成膜 (ベーパープライミング) に特化しており、装置の各種パラメータはあらかじめHMDS専...
株式会社シンクロン
30人以上が見ています
100.0% 返答率
194.7時間 返答時間
■概要 半導体・電子市場に適したCtoC対応クラスター型RAS方式成膜装置 ■特徴 ・ロードロック構造により高スループットで誘電体成膜を実...
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260人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
100.0% 返答率
75.6時間 返答時間
■C&Vテクニクスの成膜装置ロールコーターとは ロールコーターとは、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に表面処理する装置の...
株式会社昭和真空
40人以上が見ています
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バッチ間成膜再現性を追求した高性能モデル ■用途・応用例 光学多層膜フィルター (IRカットフィルター,バンドパスフィルターなど) 、各...
株式会社シンクロン
30人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
194.7時間 返答時間
■用途 光学 ■概要 TiO2/SiO2282層33μmの多層膜において、ラフネスを抑え「低Hazeを実現」。 ■特徴 ・低散乱 (低Haze) な超多層膜を実...
テルモセラ・ジャパン株式会社
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株式会社日本シード研究所
20人以上が見ています
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■概要 ・超伝導トンネル接合に適合するニオブ、アルミまたこれらの化合物膜を連続成膜することができます。 ・トランスファーロッドによ...
株式会社日本シード研究所
20人以上が見ています
最新の閲覧: 21時間前
■概要 ・プレーナーカソードを備えた縦型スパッタ成膜装置です。 ・長尺物や立体物、処理数量の多い試料に対して均一性の高い成膜が行え...
北野精機株式会社
400人以上が見ています
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■特徴 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1~3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド...
TP技研株式会社
270人以上が見ています
最新の閲覧: 15時間前
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33.7時間 返答時間
本器は、塗料、ワニス等を一つのテスターで5種類の種類の塗膜を塗工することにより、粘性、垂れ性、隠蔽性、適正膜厚等を調べます。
株式会社シンクロン
30人以上が見ています
最新の閲覧: 13時間前
100.0% 返答率
194.7時間 返答時間
■概要 蒸着室を成膜のたびに大気にさらすことなく、成膜プロセス室を常に高真空に保つことが可能。そのため、屈折率が安定し、高品位な...
アリオス株式会社
460人以上が見ています
最新の閲覧: 17分前
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2.2時間 返答時間
■概要 小型スパッタ装置 SS-DC RF301 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色...
株式会社オプトラン
40人以上が見ています
最新の閲覧: 13時間前
100.0% 返答率
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OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...
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バッチ間成膜再現性を追求した高性能モデル ■用途・応用例 光学多層膜フィルター (IRカットフィルター,バンドパスフィルターなど) 、各...
有限会社渕田ナノ技研
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ナノテック株式会社
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100.0% 返答率
16.8時間 返答時間
低摩擦係数で高硬度を持つダイヤモンド・ライク・カーボン (DLC) 膜の生成をベースに各種蒸発源を併用することによりDLC膜の密着力の...
3種類の品番
株式会社MPS
270人以上が見ています
100.0% 返答率
48.0時間 返答時間
■概要 実験用のスパッタ装置です。4インチの円形マグネトロンカソードを最大4個搭載可能です。お客様の要求性能、ご予算に合わせた最適...
北野精機株式会社
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24.9時間 返答時間
■蒸着室/特徴 ・超高真空蒸着 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大9本取付可能 ・基盤サイズ1~3インチと幅広く選択が可能 ・...
株式会社エピクエスト
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ハイグレードな研究に。より高度な研究から、準生産用に最適なMBE装置です。標準Ⅲ-Ⅴ族用に加え、Ⅱ-Ⅵ族用、Si系、金属系など種々の材料に...
テルモセラ・ジャパン株式会社
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特徴 ■高品質膜 研究開発の現場で求められる均一性の高い「高品質」な薄膜を作成するための様々な条件を揃えます。nanoシリーズは魂魄と...
株式会社昭和真空
20人以上が見ています
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■概要 CVDとは、Chemical Vapor Deposition (化学蒸着装置) の略称で、ガスで原料を供給し、これをプラズマや熱などで分解し、その成分...
株式会社オプトラン
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OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...
TP技研株式会社
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33.7時間 返答時間
本機はアプリケーター、サグテスター等で一定厚の塗膜を作成する場合、このプレート上 (フロートガラス) に試験片を吸引密着させ平滑を...
有限会社渕田ナノ技研
20人以上が見ています
■概要 セラミックスの常温成膜装置である。微粒子を密閉容器に入れ、ガスを導入し、エアロゾルを作る。巻き上げられた粒子は、ガスと共...
アリオス株式会社
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■概要 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色は、基板に飛来する粒子が比較...
株式会社オプトラン
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145.6時間 返答時間
OTFCシリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸...
株式会社MPS
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100.0% 返答率
48.0時間 返答時間
■概要 実験用の熱フィラメントCVD装置です。貴社のご要望に応じて装置を設計します。
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