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成膜装置 メーカー34社

成膜装置のメーカー34社一覧企業ランキングを掲載中!成膜装置関連企業の2025年8月注目ランキングは1位:長州産業株式会社、2位:新明和工業株式会社、3位:ジャパンクリエイト株式会社となっています。 成膜装置の概要、用途、原理もチェック!

34成膜装置メーカー

成膜装置 2025年8月のメーカーランキング


業界別

🧪 化学 💻 電子・電気機器

項目別

使用用途

#半導体製造

#光学部品製造

#太陽電池製造

#ディスプレイ製造

#電池材料開発

#センサ開発

#薄膜トランジスタ開発

#表面改質

#機能性材料研究

#MEMS製造

#医療機器製造

#材料評価

成膜方式

蒸着法

スパッタリング法

CVD法

ALD法

溶液法

構成環境

真空型

低圧型

プラズマ利用有無

プラズマ無し

プラズマ援用型

高周波プラズマ型

基板搬送方式

固定基板型

回転基板型

ロール搬送型

到達圧力 Pa

0 - 0.01

0.01 - 1

1 - 10

基板サイズ mm

25 - 50

50 - 100

100 - 150

150 - 200

200 - 300

300 - 400

400 - 500

500 - 650

設置面積 m²

1 - 5

5 - 10

10 - 20

所要電力 kVA

10 - 15

15 - 20

20 - 25

25 - 30

30 - 35

真空槽 mm

500 - 800

800 - 1,000

基板バイアス V

0 - 5,000

5,000 - 25,000

196 点の製品中 6ページ目

196 点の製品中 6ページ目

株式会社昭和真空

インライン式スパッタリング装置 SPH-5000 Series

40人以上が見ています

■大型基板量産用スパッタリング装置 本装置は大型基板へ金属膜、保護膜、透明導電膜等を成膜するインライン式スパッタリング装置です。 ...


株式会社日本シード研究所

CVD装置 熱CVD装置

20人以上が見ています

最新の閲覧: 22時間前

■概要 ・ホットウォール式の熱CVD装置です。最高900℃の加熱制御が行えます。 ・石英ガラス等の管状炉になっています。 ・化合物半導体の...


有限会社渕田ナノ技研

ガスデポジション (GD) 装置 高周波誘導加熱20kw/5kw

20人以上が見ています

■概要 ガス中で作製されたナノ粒子はガス搬送され、ノズルから対向する基材へ噴射堆積される。活性なナノ粒子を膜形成に利用するために...


有限会社渕田ナノ技研

ガスデポジション (GD) 装置 高周波誘導加熱5kw ノズル径φ0.8mm×1

10人以上が見ています

■概要 ガス中で作製されたナノ粒子はガス搬送され、ノズルから対向する基材へ噴射堆積される。活性なナノ粒子を膜形成に利用するために...


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 横型リアクタ SH2001

90人以上が見ています

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

SHシリーズは、窒化物半導体用として特別に開発された横型ステンレス製リアクタを採用しています。シミュレーション技術により設計され...


株式会社昭和真空

枚葉式スパッタリング装置 SPM Series

30人以上が見ています

枚葉式の大型スパッタリング装置 ■用途・応用例 各種ウエハ電子部品へのメタル成膜 ■特長 ・φ8インチウエハ対応が可能です。 ・スパッ...


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 横型リアクタ SH3001

110人以上が見ています

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

SHシリーズは、窒化物半導体用として特別に開発された横型ステンレス製リアクタを採用しています。シミュレーション技術により設計され...


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 横型リアクタ SH4001

160人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

SHシリーズは、窒化物半導体用として特別に開発された横型ステンレス製リアクタを採用しています。シミュレーション技術により設計され...


株式会社エピクエスト

MOCVD装置 横型リアクタ SH2003

130人以上が見ています

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

SHシリーズは、窒化物半導体用として特別に開発された横型ステンレス製リアクタを採用しています。シミュレーション技術により設計され...


株式会社エピクエスト

液体原料供給MOCVD装置 小型研究用 MPC1100V

120人以上が見ています

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間


株式会社エピクエスト

液体原料供給MOCVD装置 研究用 MPC2100H

120人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間


株式会社エピクエスト

液体原料供給MOCVD装置 研究用・準生産用 MPC6100

120人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間


株式会社エピクエスト

高温CVD装置 SiC用CVD装置 HTC3001

100人以上が見ています

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間


株式会社エピクエスト

高温CVD装置 オール・イン・ワンCVD装置

110人以上が見ています

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間

本装置は、プロセスユニット部、ガス制御部、シリンダーキャビネット部、電気制御部を1.3m×1.3mのフットプリントに設置した、オール・イ...


株式会社エピクエスト

高温CVD装置 高温CVD装置 SH2001-HTA

80人以上が見ています

返信の早い企業

100.0% 返答率

10.3時間 返答時間


株式会社シンクロン

眼鏡レンズ反射防止膜用装置 VISION

30人以上が見ています

100.0% 返答率

194.7時間 返答時間

■概要 眼鏡レンズの反射防止膜に特化した専用機 ■用途 光学 ■特徴 ・眼鏡レンズや、曲率のあるレンズ全面に均一な成膜が可能です ・無...


株式会社シンクロン

デジカメやスマホカメラ等の樹脂レンズ成膜に最適 樹脂用バッチ式蒸着装置 ARC

30人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

194.7時間 返答時間

■用途 光学 ■特徴 ・分割ドームを用いて、一度に大量のレンズを成膜することができます ・低温成膜に最適な基板加熱方式を採用するとと...


TP技研株式会社

スピンコーター

180人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

33.7時間 返答時間

回転遠心力を利用した塗布装置です。平滑な塗布物の上面に均等に薄膜をつくることができます。


新着

株式会社ExtenD

成膜装置 12インチ対応 大型熱フィラメントCVD装置 Grasshoppe HFCVD-300

最新の閲覧: 22時間前

ダイヤモンド合成の幅広い需要に対応可能な大型熱フィラメントCVD装置 ■特徴 ・2段階自動レシピ運転 (シード→膜成長) ・フィラメント...


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株式会社ナノフィルムテクノロジーズ ジャパン

バッチ式FCVA装置

■装置の特長 バッチ式装置は、1基の真空成膜チャンバーから構成され、安定性とコスト優位性があり、多目的に利用できるほか、アプリケー...


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株式会社ナノフィルムテクノロジーズ ジャパン

ロードロック式FCVA装置

最新の閲覧: 3分前

■装置の特長 ロードロック式FCVA装置は、2基以上のチャンバーから構成されています。1基は真空状態が保持された真空成膜チャンバーで、...


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株式会社ナノフィルムテクノロジーズ ジャパン

インライン式FCVA装置

■装置の特長 量産向けのインライン式 FCVA 装置を設計・開発・制作しております。インライン式 FCVA 装置は高い生産性および安定した成...


新着

日本エバテック株式会社

ウェハーからパネルまで対応 CLUSTERLINE®200

最新の閲覧: 21時間前

■各種成膜処理ができる半導体ウェハー・アドバンストパッケージング向け成膜プラットフォーム 『CLUSTERLINE (クラスターライン) 』は、...


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日本エバテック株式会社

ウェハーからパネルまで対応 CLUSTERLINE®300

最新の閲覧: 21時間前

■各種成膜処理ができる半導体ウェハー・アドバンストパッケージング向け成膜プラットフォーム 『CLUSTERLINE (クラスターライン) 』は、...


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日本エバテック株式会社

大型パネル向け成膜装置 CLUSTERLINE®600

最新の閲覧: 21時間前

■各種成膜処理ができる半導体ウェハー・アドバンストパッケージング向け成膜プラットフォーム 『CLUSTERLINE (クラスターライン) 』は、...


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日本エバテック株式会社

高速ウェハー成膜装置 HEXAGON

最新の閲覧: 21時間前

■業界で非常に低いRcのシステム設計と最高レベルのウェーハ間再現性 『HEXAGON』は、FOWLPなどの用途で非常に低いコストオブオーナーシ...


株式会社サンバック

マルチスパッタ装置 SP-3300M

10人以上が見ています

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

0.2時間 返答時間

マルチスパッタSP-3300Mは3源スパッタ装置で、各カソードにおいてRFとDC2つのソースを使用することが出来ます。またRFとDCの同時スパッ...


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日本エバテック株式会社

超高速枚葉式スパッタ装置 SOLARIS S151

最新の閲覧: 21時間前

■高速かつ柔軟性のある基板成膜用途向けの大量生産ソリューションを提供 『SOLARISファミリー』は、1枚当り最速3秒、円盤形状最大430mm...


株式会社サンバック

両サイド型スパッタ装置 SP-27000D

10人以上が見ています

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

0.2時間 返答時間

両サイド型スパッタ装置SP-27000Dは厚みのある、あるいは立体的形状の基材へ成膜するために設計された装置です。2基のターゲットを有し...


新着

日本エバテック株式会社

超高速枚葉式スパッタ装置 SOLARIS S380

最新の閲覧: 21時間前

■高速かつ柔軟性のある基板成膜用途向けの大量生産ソリューションを提供 『SOLARISファミリー』は、1枚当り最速3秒、円盤形状最大430mm...


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