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成膜装置のメーカー34社一覧や企業ランキングを掲載中!成膜装置関連企業の2025年8月注目ランキングは1位:長州産業株式会社、2位:新明和工業株式会社、3位:ジャパンクリエイト株式会社となっています。 成膜装置の概要、用途、原理もチェック!
成膜装置とは、その名の通り膜を作成するための装置のことです。
薄膜の厚さや純度、有機物・無機物に応じて、さまざまな種類の成膜装置が開発されており、例えば半導体関連の材料のように高純度で均一な膜が必要な場合は、高真空の成膜装置が利用されます。
一方、フィルムのような大面積で大量生産が求められる製品に対しては、ロールトゥロール式やバッチ式などの方法が選択されます。また、溶液を乾燥させて成膜する際には、スピンコート式やインクジェット式といった装置が活用され、溶液を塗布した後、乾燥させて成膜を行うことが可能です。
成膜装置は、用途や条件に応じて適切なタイプを選択することが重要です。その選択によって、より効率的で高品質な製品の開発が可能となります。
2025年8月の注目ランキングベスト10
順位 | 会社名 | クリックシェア |
---|---|---|
1 | 長州産業株式会社 |
11.5%
|
2 | 新明和工業株式会社 |
9.2%
|
3 | ジャパンクリエイト株式会社 |
9.2%
|
4 | ジオマテック株式会社 |
6.9%
|
5 | 株式会社コメット |
6.1%
|
6 | サムコ株式会社 |
5.3%
|
7 | 株式会社オプトラン |
3.8%
|
8 | JSWアフティ株式会社 |
3.1%
|
9 | 株式会社パスカル |
3.1%
|
10 | アルバック機工株式会社 |
3.1%
|
項目別
使用用途
#半導体製造
#光学部品製造
#太陽電池製造
#ディスプレイ製造
#電池材料開発
#センサ開発
#薄膜トランジスタ開発
#表面改質
#機能性材料研究
#MEMS製造
#医療機器製造
#材料評価
成膜方式
蒸着法
スパッタリング法
CVD法
ALD法
溶液法
構成環境
真空型
低圧型
プラズマ利用有無
プラズマ無し
プラズマ援用型
高周波プラズマ型
基板搬送方式
固定基板型
回転基板型
ロール搬送型
到達圧力 Pa
0 - 0.01
0.01 - 1
1 - 10
基板サイズ mm
25 - 50
50 - 100
100 - 150
150 - 200
200 - 300
300 - 400
400 - 500
500 - 650
設置面積 m²
1 - 5
5 - 10
10 - 20
所要電力 kVA
10 - 15
15 - 20
20 - 25
25 - 30
30 - 35
真空槽 mm
500 - 800
800 - 1,000
基板バイアス V
0 - 5,000
5,000 - 25,000
北野精機株式会社
430人以上が見ています
最新の閲覧: 11時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
24.9時間 返答時間
■特徴 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1~3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド...
株式会社エピクエスト
180人以上が見ています
最新の閲覧: 16時間前
返信の早い企業
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10.3時間 返答時間
ハイグレードな研究に。より高度な研究から、準生産用に最適なMBE装置です。標準Ⅲ-Ⅴ族用に加え、Ⅱ-Ⅵ族用、Si系、金属系など種々の材料に...
株式会社シンクロン
40人以上が見ています
最新の閲覧: 3時間前
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194.7時間 返答時間
■概要 独自開発のRAS方式により、優れた生産性・安定性を発揮。シンクロンが独自に開発したRAS (RadicalAssistedSputtering) 方式により...
株式会社昭和真空
30人以上が見ています
■金属蒸着のスタンダードモデル φ4インチ及びφ6インチウエハに対して電極膜及び酸化膜の成膜が可能です。蒸着物のウエハへの入射角が垂...
有限会社渕田ナノ技研
20人以上が見ています
■概要 セラミックスの常温成膜装置である。微粒子を密閉容器に入れ、ガスを導入し、エアロゾルを作る。巻き上げられた粒子は、ガスと共...
アリオス株式会社
440人以上が見ています
最新の閲覧: 9分前
返信のとても早い企業
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2.2時間 返答時間
■概要 本装置は、試料の表面に均一に成膜させるため、ドラム型の試料ホルダに試料を入れ、回転させながら成膜を行います。試料ホルダの...
株式会社オプトラン
20人以上が見ています
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145.6時間 返答時間
SPOC-1100は、5G光通信向けDWDM/CWDMフィルタに適応した光学薄膜形成装置です。高精度での膜厚制御により様々な超多層光学フィルタを生...
株式会社エピクエスト
190人以上が見ています
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生産用に。高度な分子線シュミレーション技術を駆使し設計されたセル基板装置より、大面積ホルダ (Φ8"以上) に高均一 (±1%以下) な結晶...
有限会社渕田ナノ技研
10人以上が見ています
■概要 セラミックスの常温成膜装置である。微粒子を密閉容器に入れ、ガスを導入し、エアロゾルを作る。巻き上げられた粒子は、ガスと共...
株式会社オプトラン
30人以上が見ています
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145.6時間 返答時間
本装置は反射防止膜を大量生産するために設計製作された光学薄膜形成装置です。 ■特長 ・ドーム回転は磁気シール駆動による中心回転方...
株式会社昭和真空
20人以上が見ています
■金属薄膜用蒸着装置のコンパクトモデル 抵抗加熱式蒸発源もしくは電子ビーム蒸発源による金属材料の成膜が可能です。研究開発・小ロッ...
株式会社エピクエスト
130人以上が見ています
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SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料におい...
株式会社シンクロン
20人以上が見ています
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194.7時間 返答時間
■用途 電子、電気の制御 ■概要 誘電体多層膜を主とした電子デバイス市場向けに高機能化。当社RAS方式を電子デバイス向けに発展させ、高...
株式会社オプトラン
30人以上が見ています
100.0% 返答率
145.6時間 返答時間
本装置は防汚膜 (AS) 、反射防止膜 (AR) だけでなく、両者を組み合せた成膜 (AR+AS) に特化した大型光学薄膜形成装置です。 ■特長 ・ド...
有限会社渕田ナノ技研
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■概要 セラミックスの常温成膜装置である。微粒子を密閉容器に入れ、ガスを導入し、エアロゾルを作る。巻き上げられた粒子は、ガスと共...
株式会社昭和真空
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■金属薄膜用蒸着装置のコンパクトモデル 抵抗加熱式蒸発源もしくは電子ビーム蒸発源による金属材料の成膜が可能です。研究開発・小ロッ...
株式会社エピクエスト
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SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料におい...
株式会社オプトラン
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Gener-2750は加飾膜、反射防止膜 (AR) 、防汚膜 (AS) を成膜する大型IAD装置です。 ■特長 ・ドーム径φ2,640 ・高いスループット・大量...
株式会社シンクロン
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最新の閲覧: 1日前
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194.7時間 返答時間
■概要 各種接続端子、電極等の金属薄膜を形成するバッチ式蒸着装置です。金属薄膜を安定的に量産することができます。 ■主な用途 ・電...
有限会社渕田ナノ技研
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■概要 セラミックスの常温成膜装置である。微粒子を密閉容器に入れ、ガスを導入し、エアロゾルを作る。巻き上げられた粒子は、ガスと共...
株式会社昭和真空
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■Au/Snの2元同時蒸着が可能な蒸着装置 2元同時蒸着によりAu/Snの組成比管理及び膜厚管理が可能です。また、基板冷却機構及び間欠成膜機...
株式会社シンクロン
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最新の閲覧: 1日前
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194.7時間 返答時間
■概要 安定的に誘電体薄膜を形成することが可能。長年培われた当社技術により安定的に誘電体薄膜を形成することができます。SiO2、SiN等...
株式会社オプトラン
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RPDシリーズは、高性能なLED 機能性膜 (ITO/AlN) を低コストにて量産することができる反応性プラズマ成膜装置です。 ■特長 ・反応性プ...
株式会社シンクロン
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194.7時間 返答時間
■特徴 ・高精度な結晶性薄膜の成膜が低温プロセスで可能 ・成膜条件や材料に応じた最適なカソード位置・角度での成膜が可能 ・CtoC機能...
株式会社エピクエスト
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100.0% 返答率
10.3時間 返答時間
SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料におい...
株式会社昭和真空
20人以上が見ています
■耐腐食性の高いY₂O₃厚膜を成膜し、シールド膜の形成が可能 耐プラズマ膜 (Y₂O₃膜) の厚膜成膜が可能です。イオンアシスト蒸着 (IAD:Io...
北野精機株式会社
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24.9時間 返答時間
■概要 TMC-13は、標準6MHz水晶振動子に対応した膜厚モニターとなります。操作は、液晶タッチパネルから可能であり、シンプルでコンパク...
株式会社オプトラン
40人以上が見ています
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145.6時間 返答時間
NSC-15はメタル (金属) モード・スパッタリング法と高反応性プラズマ源を組み合せた量産用光学薄膜スパッタ装置です。高スループットを...
有限会社渕田ナノ技研
10人以上が見ています
■概要 セラミックスの常温成膜装置である。微粒子を密閉容器に入れ、ガスを導入し、エアロゾルを作る。巻き上げられた粒子は、ガスと共...
株式会社昭和真空
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■表面硬化膜形成用/少量生産機・実験機に最適 アーク放電型カソードを搭載したイオンプレーティング装置です。TiN、TiAlN硬化膜の成膜...
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