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住友精化株式会社

IC・メモリー・液晶・太陽電池等に 機能マテリアル 半導体用ガス

1010人以上が見ています

最新の閲覧: 16時間前

返信の比較的早い企業

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■IC・メモリー・液晶・太陽電池等の半導体製造に欠かせないガス ・当社は1970年代にはじめて半導体グレードの高純度NH3を開発して以来、総合化学メーカーとし...

40種類の品番

株式会社トゥーリーズ

XCSW製 化合物・半導体結晶 Si結晶基板・シリコンウェハ

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最新の閲覧: 21時間前

返信のとても早い企業

5.0 会社レビュー

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■XCSW社 XCSW社は1990年中国アモイで設立した化合物半導体材料企業です。Ga,Al,In,As,PをベースにしたⅢ-Ⅴ族シリコンドープn型半導体上に、第1世代Geウェハ、...

2種類の品番

XCSW製 化合物・半導体結晶 Si結晶基板・シリコンウェハ
XCSW製 化合物・半導体結晶 Si結晶基板・シリコンウェハ

ナガセケムテックス株式会社

フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤

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最新の閲覧: 4時間前

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超微細化する半導体デバイスや、高精細・高機能化が進むフラットパネルディスプレイ。めまぐるしく進展する半導体やフラットパネル製造の世界において、迅速...

15種類の品番

フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤
フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤
フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤
フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤
フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤
フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤

ヤマハロボティクスホールディングス株式会社

C2W対応TCBボンダ FPB-1w NeoForce

970人以上が見ています

最新の閲覧: 7時間前

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■概要 ・Chip to WaferのThermal Compression Bonding (TCB) 工法対応パッケージボンダ ・Face down工法対応 (Face up工法はオプション) ・TCB工法 (NCP/NCF...

2種類の品番

C2W対応TCBボンダ FPB-1w NeoForce
C2W対応TCBボンダ FPB-1w NeoForce

株式会社プラズマイオンアシスト

プラズマイオン注入成膜法による“各種機能性DLC ” Intelligent DLC

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最新の閲覧: 1日前

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・常温からの成膜法でアルミ等の非鉄金属を始め、ゴム等の有機物まで殆どの素材に DLC コーディングが可能です ・各種機能性 DLC を個別の用途に合わせてご提...

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アキム株式会社

半導体関連設備 チップマウンタ (転写式) ACMT860

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■概要 ICチップのダイボンディングをターレット搬送により高速に行う装置です。 ■特徴 ・集合基板にチップを接着搭載します。 ・ターレットテーブルにより、...

2種類の品番

半導体関連設備 チップマウンタ (転写式) ACMT860
半導体関連設備 チップマウンタ (転写式) ACMT860

アイスモス・テクノロジー・ジャパン株式会社

DSP Wafers

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最新の閲覧: 1日前

ワールドクラスの両面ポリッシュのソリューションをお届けします。デザインや製造において⾧年の経験のある高い技術を持ったチームがご要望に合ったソリュー...

4種類の品番

DSP Wafers
DSP Wafers
DSP Wafers
DSP Wafers

アイスモス・テクノロジー・ジャパン株式会社

SOI Wafer

890人以上が見ています

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ICやMEMS応用など広い範囲に適用され、広い分野の市場に対応できる仕様のスペックのウエハーです。 様々なSOI基板の経験を通して、高いスキルをもつアプリケ...

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SOI Wafer
SOI Wafer
SOI Wafer
SOI Wafer

アイスモス・テクノロジー・ジャパン株式会社

DSOI Wafer

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最新の閲覧: 47分前

ICやMEMS用に幅広く使用されております。 アプリケーションエンジニアがお客様のDSOIウエハーをプロセスするのに最適なパラメーターの組み合わせの選択をお...

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DSOI Wafer
DSOI Wafer
DSOI Wafer
DSOI Wafer

株式会社東設

研究開発/試作用 卓上・手動・半自動めっき装置

電子・電気機器業界用 航空・宇宙業界用 自動車・輸送用機器業界用

830人以上が見ています

最新の閲覧: 3時間前

めっきプロセスの研究開発、新規製品の試作、少量生産など、お客様の用途、予算に応じた装置のご提案をさせて頂きます。 量産用途の4つのタイプのめっき装置...

10種類の品番

研究開発/試作用 卓上・手動・半自動めっき装置
研究開発/試作用 卓上・手動・半自動めっき装置
研究開発/試作用 卓上・手動・半自動めっき装置
研究開発/試作用 卓上・手動・半自動めっき装置
研究開発/試作用 卓上・手動・半自動めっき装置
研究開発/試作用 卓上・手動・半自動めっき装置

九州電通株式会社

優れたハンダ付性 MHz帯水晶振動子 SXシリーズマイクロプロセッサ水晶振動子 HC-49/U

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■特徴 ・電着封止パッケージ ・広帯域周波数範囲 ・優れたハンダ付性 ※他にも品番がございます。

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優れたハンダ付性 MHz帯水晶振動子 SXシリーズマイクロプロセッサ水晶振動子 HC-49/U
優れたハンダ付性 MHz帯水晶振動子 SXシリーズマイクロプロセッサ水晶振動子 HC-49/U
優れたハンダ付性 MHz帯水晶振動子 SXシリーズマイクロプロセッサ水晶振動子 HC-49/U
優れたハンダ付性 MHz帯水晶振動子 SXシリーズマイクロプロセッサ水晶振動子 HC-49/U
優れたハンダ付性 MHz帯水晶振動子 SXシリーズマイクロプロセッサ水晶振動子 HC-49/U
優れたハンダ付性 MHz帯水晶振動子 SXシリーズマイクロプロセッサ水晶振動子 HC-49/U

ナノテック株式会社

DLC成膜装置<NANOCOATシリーズ>

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16.8時間 返答時間

ダイヤモンドの性質に近い高硬度 (マイクロビッカース硬度2,000~4, 000) 、低摩擦係数 (μ=0.2以下) 、表面平滑性及び耐溶着性・離型性に優れたダイヤモ...

12種類の品番

DLC成膜装置<NANOCOATシリーズ>
DLC成膜装置<NANOCOATシリーズ>
DLC成膜装置<NANOCOATシリーズ>
DLC成膜装置<NANOCOATシリーズ>
DLC成膜装置<NANOCOATシリーズ>
DLC成膜装置<NANOCOATシリーズ>

神港精機株式会社

薄膜形成装置 標準型蒸着装置

820人以上が見ています

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個別半導体・化合物半導体の生産工程で豊富な実績を誇るベストセラータイプです。 豊富なオプションと高い信頼性が量産現場で実力発揮します。

8種類の品番

薄膜形成装置 標準型蒸着装置

有限会社ケー・ワールド

卓上リフロー装置 接触加熱 (ホットプレート) 式リフロー装置 RFシリーズ

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38.5時間 返答時間

試作・少量生産に限定した卓上リフローシリーズ。遠赤外線 (IR) による雰囲気加熱式とホットプレート式接触加熱式の2通りのラインナップ。静止式と搬送式に分...

12種類の品番

卓上リフロー装置 接触加熱 (ホットプレート) 式リフロー装置 RFシリーズ
卓上リフロー装置 接触加熱 (ホットプレート) 式リフロー装置 RFシリーズ
卓上リフロー装置 接触加熱 (ホットプレート) 式リフロー装置 RFシリーズ
卓上リフロー装置 接触加熱 (ホットプレート) 式リフロー装置 RFシリーズ
卓上リフロー装置 接触加熱 (ホットプレート) 式リフロー装置 RFシリーズ
卓上リフロー装置 接触加熱 (ホットプレート) 式リフロー装置 RFシリーズ

CHEMFISH TOKYO株式会社

CVD・ALD材料

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■概要 半導体ALD/CVDプリカーサーは、半導体薄膜堆積プロセスの中核原料であり、化学気相成長法 (CVD) と原子層堆積法 (ALD) により金属/酸化物/窒化物薄膜を...

10種類の品番

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