フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤-N-327
フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤-ナガセケムテックス株式会社

フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤
ナガセケムテックス株式会社

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この製品について

超微細化する半導体デバイスや、高精細・高機能化が進むフラットパネルディスプレイ。めまぐるしく進展する半導体やフラットパネル製造の世界において、迅速な開発力が必要とされる剥離剤・エッチャント (感光性材料) やレジスト剥離剤などの各種製品を製造しています。またプロセス管理の面においてもお客様への提案力に優れた実績を有するなど、エレクトロニクス業界の発展に貢献しています。

  • シリーズ

    フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤

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フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤 品番5件

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まとめて問合せ・見積 商品画像 品番 価格 (税抜) 用途 液状 使用条件 ℃/分 リンス液 剥離性能 ポジ除去 剥離性能 残渣除去 AL腐食性 粘度 mPa・s (25℃) 法規 消防法 法規 PRTR
フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤-品番-N-327

N-327

要見積もり FPD 水系 常温~50/1~5 8 非該当 非該当
フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤-品番-N-342

N-342

要見積もり FPD 水系 常温~50/1~5 10 非該当 該当
フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤-品番-N-300

N-300

要見積もり FPD 非水系 60~120/1~20 アルコール 10 4類3石 該当
フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤-品番-N-530

N-530

要見積もり 半導体 非水系 80~100/10~20 溶剤 3 4類3石 該当
フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤-品番-N-530HS

N-530HS

要見積もり 半導体 非水系 80~100/10~20 溶剤 6 4類3石 該当

のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

ナガセケムテックス株式会社は、1970年に設立された樹脂製品メーカーです。 帯電防止剤の製造販売、透明電極形成材料の製造販売、ペースト添加剤の製造販売、フォトリソグラフィ用材料の製造販売、金属イオン除去剤の製造販売、接...

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