神港精機株式会社

ガラス基板を対象とした通過成膜型インラインタイプのスパッタリング装置です。 矩形カソードを多元で装備しておりプロセスや生産数に...

• 加工・工作機器

• スパッタリング装置

実験や基礎研究に最適なコンパクトなハード構成です。ローコストで信頼性の高いハードを提供いたします。 ロードロックタイプ装置仕様 ...

6種類の品番

• 加工・工作機器

• スパッタリング装置

個別半導体・化合物半導体の生産工程で豊富な実績を誇るベストセラータイプです。 豊富なオプションと高い信頼性が量産現場で実力発揮し...

4種類の品番

• 加工・工作機器

• 蒸着装置

用途が拡大しているリフトオフプロセスに対応した専用蒸着装置です。 高い蒸発粒子の垂直性と基板水冷機構の採用によりレジストの保護と...

2種類の品番

• 加工・工作機器

• 蒸着装置

エッチング室を複数装備できる新型マルチチャンバタイプエッチング装置です。 新開発ICPエッチングチャンバを2室装備可能 ・同装置は従...

• 加工・工作機器

• エッチング装置

独自開発による高密度マグネトロンカソード (アーク放電型マグネトロンカソード) を搭載した全自動スパッタリング装置です。 新開発アー...

• 加工・工作機器

• スパッタリング装置

EXAMは半導体量産用装置のノウハウを生かした複数の目的にも対応可能な多目的プラズマエッチング装置です。 ガス系やプラズマモードの切...

• 加工・工作機器

• プラズマエッチング装置

ナノインプリントモールド用ICPエッチング装置「SERIO」の基本構成よりチャンバ内構成やガス系をメタル用にカスタマイズした最新型エッ...

• 加工・工作機器

• エッチング装置

Siウェハ・ガラス・セラミックス等基板・用途を問わず柔軟に対応可能な最新型スパッタリング装置です。 1991年に発表されたR&D用マルチ...

3種類の品番

• 加工・工作機器

• スパッタリング装置

平行平板型RIE方式のプラズマを利用した、基板表面のクリーニング・還元・酸化等の処理を可能としたプラズマ表面処理装置です。 処理モ...

抵抗体の端面、水晶振動子の電極形成等小型電子部品の生産に最適です。 小型チャンバーで大量の処理が可能で基板の両面一括成膜が行えま...

3種類の品番

• 加工・工作機器

• 蒸着装置

独自開発法により高真空中で蒸発粒子のイオン化が可能です。 平滑で緻密な膜質により長年に渡り多くの実績を誇っています。

各種電子デバイスや高機能材料のR&Dから量産に最適なバッチタイプのスパッタリング装置のラインアップです。 小径カソードにより大面積...

3種類の品番

• 加工・工作機器

• スパッタリング装置

電子デバイス用特殊仕様。特別なプロセスやデバイスに特化し基板形状や処理温度を問わず柔軟に対応しています。

4種類の品番

• 加工・工作機器

• 蒸着装置

スパッタ室にて 10⁻⁷Pa のバックグランドの排気性能を持つ超高真空対応の牧葉式スパッタリング装置です。 ロードロック室・カセット室...

• 加工・工作機器

• スパッタリング装置

大面積に均一な高密度プラズマが生成可能な表面波プラズマ (SWP) を採用し、アッシング・表面処理等多くの用途で活躍中です。 H2ラジカ...

• 加工・工作機器

• プラズマエッチング装置

独自開発のPIGプラズマ源を使用し、ハイーレートで平滑なDLC膜を形成できます。 自動車部品の表面処理に多く採用されており、今後とも用...

省スペースを実現したロードロック式スパッタリング装置です。 カセット室に最大Φ270のトレーが、標準で12枚セット可能で、連続スパッタ...

3種類の品番

• 加工・工作機器

• スパッタリング装置

基礎研究実験に対応したローコストの小型蒸着装置です。 目的に合わせ蒸発機構・基板加熱・冷却機構等各種機構が選択できます。

4種類の品番

• 加工・工作機器

• 蒸着装置

SERIO は高密度ICPプラズマソースを搭載した高密度プラズマエッチング装置です。独自開発プロセスにより、高い垂直性とエッチング表面の...

• 加工・工作機器

• プラズマエッチング装置

600mm 基板に対応した大型プラズマCVD装置です。 緻密なシリコン酸化膜の形成が可能で薄膜キャパシタの作製に適しています。

• 加工・工作機器

• プラズマCVD装置

自動車の外装品の装飾目的の成膜に対応した大型蒸着装置です。短タクトで樹脂基板に低温で蒸着が可能です。 電磁波シールドも含め多くの...

• 加工・工作機器

• 蒸着装置

樹脂のみならず金属箔の連続巻取り処理を実現したＲtoＲタイプ最新成膜装置です。 カソード・プラズマ処理電極・加熱機構など各機構をユ...

• 加工・工作機器

• スパッタリング装置

樹脂フィルムや金属箔などのフレキシブルな基板のプラズマ表面処理を巻取式で連続処理する専用システムです。真空中のプラズマにより強...

• 加工・工作機器

• プラズマ処理装置

真空チャンバーに導入したモノマーガスを高周波によりプラズマ化し、基板表面にポリマー膜を形成する装置です。 生体と接触する被膜の形...

従来CVDでしか実用化出来なかった膜種 (厚膜酸化膜・炭化膜等) をPVDによって実現した新方式のイオンプレーティング装置です。 「アー...

真空チャンバーに導入したモノマーガスを高周波によりプラズマ化し、基板表面にポリマー膜を形成する装置です。 生体と接触する被膜の形...

独自開発法により高真空中で蒸発粒子のイオン化が可能です。 平滑で緻密な膜質により長年に渡り多くの実績を誇っています。