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真空蒸着装置 小型デスクトップ高真空蒸着装置 VE-2013取扱企業
株式会社真空デバイスカテゴリ
Metoree経由で見積もり
2025年6月3日にレビュー済み
顧客対応への満足度
非常に迅速で丁寧なご対応を頂きました。感謝申し上げます。
初回対応までの時間への満足度
44.35時間
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蒸着装置の製品112点中、注目ランキング上位6点
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次の条件に該当する商品を1件表示しています
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | ヒーター電極 | 蒸着対象金属 | 試料ステージ | 蒸着源－試料間隔 | チャンバーサイズ | 電極間電圧/電流 | 排気系 | 真空度測定 | 到達真空度 | 安全対策 | 装置サイズ | 電源 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
VE-2013 |
要見積もり |
1対(2対タイプはオプション) |
金・アルミ・クロム・銀・カーボンその他 |
直径72mm |
0mm~140mm |
内径160mmｘ深さ235mm |
AC15Ｖ、0~30Aタッチパネル表示 |
TMP67ℓ/sec＋RP50ℓ/min |
タッチパネル表示フルレンジ真空計 |
5×10-4Pa以下 |
系統別サーキットプロテクタ、過剰負荷を自動でブロック |
W428×D430×H550(mm)38Kg |
単層AC100V,15Aアース線付3芯プラグ使用 |
蒸着装置の中で同じ条件の製品
使用用途: 研究開発
蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15
