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三洋化成工業株式会社
東洋合成工業株式会社
日本カーバイド工業株式会社
アイバイツ株式会社
株式会社三和ケミカル

光酸発生剤
メーカー6社 【2024年】

光酸発生剤についての概要、用途、原理などをご説明します。また、光酸発生剤のメーカー6社一覧企業ランキングも掲載しておりますので是非ご覧ください。光酸発生剤関連企業の2024年12月注目ランキングは1位:東洋合成工業株式会社、2位:MP五協フード&ケミカル株式会社、3位:日本カーバイド工業株式会社となっています。

目次


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光酸発生剤メーカー 6社

*一部商社などの取扱い企業なども含みます。

光酸発生剤 2024年12月のメーカーランキング

*一部商社などの取扱い企業なども含みます

注目ランキング導出方法について

注目ランキングは、2024年12月の光酸発生剤ページ内でのクリックシェアを基に算出しています。クリックシェアは、対象期間内の全企業の総クリック数を各企業のクリック数で割った値を指します。

社員数の規模

  1. 三洋化成工業: 2,096人
  2. 東洋合成工業: 790人
  3. 日本カーバイド工業: 514人

設立年の新しい会社

  1. アイバイツ: 1983年
  2. 東洋合成工業: 1954年
  3. 三洋化成工業: 1949年

歴史のある会社

  1. 日本カーバイド工業: 1935年
  2. 三和ケミカル: 1947年
  3. MP五協フード&ケミカル: 1947年

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12 点の製品がみつかりました

12 点の製品

ナガセケムテックス株式会社

フォトリソグラフィ用材料 (フォトレジスト) 2層リフトオフプロセス用下層材料 BLXシリーズ

440人以上が見ています

最新の閲覧: 5時間前

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92.9時間 返答時間

めまぐるしく進展する昨今の超微細半導体やフラットパネル製造の世界において、その製造プロセスも多様化が進み、適用可能材料の迅速な開発力が必要とされて...


ナガセケムテックス株式会社

フォトリソグラフィ用材料 (フォトレジスト) 単層リフトオフプロセス用フォトレジスト NPR9700シリーズ

530人以上が見ています

最新の閲覧: 5時間前

100.0% 返答率

92.9時間 返答時間

めまぐるしく進展する昨今の超微細半導体やフラットパネル製造の世界において、その製造プロセスも多様化が進み、適用可能材料の迅速な開発力が必要とされて...


ナガセケムテックス株式会社

フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤

620人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

92.9時間 返答時間

超微細化する半導体デバイスや、高精細・高機能化が進むフラットパネルディスプレイ。めまぐるしく進展する半導体やフラットパネル製造の世界において、迅速...

5種類の品番

N-327-フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤
N-342-フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤
N-300-フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤
N-530-フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤
N-530HS-フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤

ChemFine International Co., Ltd.

光開始剤s 3076はTriaryl Hexafluoroantimonyの硫酸塩イオン創始者Cas 89452-37-9を混合した

70人以上が見ています

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42.9時間 返答時間

高い感光性の液体のphenyl hexafluoroantimoniumの酸のカチオンのphotoinitiatorおよびよく効率を厚いフィルムの治す。 ◼︎導入 一連の高性能の感光性創始者...


テイカ株式会社

光触媒用酸化チタン (スラリー)

300人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

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53.1時間 返答時間

光触媒用酸化チタンは、太陽光や人工光に含まれている紫外線及び水・酸素という非常にクリーンなエネルギーによって発現する酸化チタンの酸化力を利用して、...

4種類の品番


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