フォトリソグラフィ用材料 (フォトレジスト) 単層リフトオフプロセス用フォトレジスト NPR9700シリーズ ナガセケムテックス株式会社
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この製品について
■特徴
・リフトオフプロセス用ポジ型レジスト ・露光波長域：g線～i線 (ブロードバンド対応) ・特殊工程を用いることなく、容易に逆テーパー形状の形成が可能 ・良好な剥離性 ・ご要望に応じた膜厚、線幅、形状等をご提案致します■用途
化合物半導体、光学デバイス、RFデバイス、難エッチング材料-
シリーズ
フォトリソグラフィ用材料 (フォトレジスト) 単層リフトオフプロセス用フォトレジスト NPR9700シリーズ
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取扱企業
ナガセケムテックス株式会社
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フォトリソグラフィ用材料 (フォトレジスト) 単層リフトオフプロセス用フォトレジスト NPR9700シリーズ 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) |
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NPR9700シリーズ |
要見積もり |
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