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1,338 点の製品中 40ページ目

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株式会社プロフィテット

BBO結晶 (SHG、THG、FHG)

170人以上が見ています

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BBOはLBOよりも高いダメージ閾値を持った非線形結晶です。広い波長域で高い透過率を持ち、第二高調波発生 (SHG) だけでなく、第三、第四高調波発生 (THG、FHG...

株式会社エル・アンド・エフ

H8/3048 CPUボード3V動作 (YH3048L) LFYBH83048L

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Renesas HD64F3048BVF 24.576MHz を搭載した、小型のCPUボード。内蔵Flash 128KB、外部SRAM 128KB、豊富な内蔵ペリフェラル、3V仕様。別売のDIO・絶縁・ユニ...

3種類の品番

H8/3048 CPUボード3V動作 (YH3048L) LFYBH83048L
H8/3048 CPUボード3V動作 (YH3048L) LFYBH83048L
H8/3048 CPUボード3V動作 (YH3048L) LFYBH83048L

テルモセラ・ジャパン株式会社

Nanofurnace 卓上型 熱CVD 装置 Model. BWS-NANO

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■用途 ・グラフェン合成 ・カーボンナノチューブ ・ZnO ナノワイヤー ・ナノダイヤモンド ・絶縁膜・保護膜 (Sic, TiN 他) ・その他熱 CVD 用途全般 ■特徴 ...

北川グレステック株式会社

半導体製造装置 CMP (研磨) 装置 MAT-ARW-461M

電子・電気機器業界用

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■製品情報 試験・量産用のCMP装置を、ウェハサイズに合わせてご案内しております。また、お客様のご要望に応じたオーダーメイドも承っております。弊社テクニ...

2種類の品番

半導体製造装置 CMP (研磨) 装置 MAT-ARW-461M
半導体製造装置 CMP (研磨) 装置 MAT-ARW-461M

神港精機株式会社

薄膜形成装置 巻取式スパッタリング装置

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樹脂のみならず金属箔の連続巻取り処理を実現したRtoRタイプ最新成膜装置です。 カソード・プラズマ処理電極・加熱機構など各機構をユニット化、幅広い用途...

2種類の品番

薄膜形成装置 巻取式スパッタリング装置
薄膜形成装置 巻取式スパッタリング装置

アキム株式会社

半導体関連設備 チップマウンタ (転写式) ACMT860

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■概要 ICチップのダイボンディングをターレット搬送により高速に行う装置です。 ■特徴 ・集合基板にチップを接着搭載します。 ・ターレットテーブルにより、...

2種類の品番

半導体関連設備 チップマウンタ (転写式) ACMT860
半導体関連設備 チップマウンタ (転写式) ACMT860

株式会社プロフィテット

PPKTP結晶 (SHG)

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PPKTPは周期分極反転構造型KTP (Periodically Paled KTP) です。擬似的に位相整合することで、基本波とSHG光の位相差による強度打ち消しがなく、その非線形係...

ワイコフ科学株式会社

測定ソフトウエアとマイクロプロセッサ

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評判のとても良い企業

5.0 会社レビュー

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19.4時間 返答時間

■M-シリーズ測定ソフトウエア (Windows/PC) 先進的なユーザーインターフェイスで定評のあるMシリーズ測定。ソフトウエアは、基本測定から高度な測定アプリケ...

3種類の品番

測定ソフトウエアとマイクロプロセッサ
測定ソフトウエアとマイクロプロセッサ
測定ソフトウエアとマイクロプロセッサ

IBASEテクノロジー株式会社

産業用組込みPC 産業用AIコンピュータ 拡張型AIコンピュータ

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評判の良い企業

4.0 会社レビュー

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77.6時間 返答時間

産業用組込みPC、産業用AIコンピュータ、拡張型AIコンピュータです。

9種類の品番

産業用組込みPC 産業用AIコンピュータ 拡張型AIコンピュータ
産業用組込みPC 産業用AIコンピュータ 拡張型AIコンピュータ
産業用組込みPC 産業用AIコンピュータ 拡張型AIコンピュータ
産業用組込みPC 産業用AIコンピュータ 拡張型AIコンピュータ
産業用組込みPC 産業用AIコンピュータ 拡張型AIコンピュータ
産業用組込みPC 産業用AIコンピュータ 拡張型AIコンピュータ

株式会社アドテックエンジニアリング

FA装置 ロールtoロール ホットプレス成形装置

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返信の比較的早い企業

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28.5時間 返答時間

■製品概要 半導体チップに粘着テープを圧着し、トレイに収納する装置です。Roll to Rollで供給される粘着テープをカットして、半導体チップに貼付け、圧力と...

2種類の品番

FA装置 ロールtoロール ホットプレス成形装置
FA装置 ロールtoロール ホットプレス成形装置

XQ Instruments

大型基板用PECVD COPRA Linear Sources

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■特徴 ・パワーレベルに比例したイオンエネルギーの上昇が無い為、基板ダメージが少ない ・適用真空範囲が、1x10-4から1x10-1 mbarと広い為、スパッタ装置...

2種類の品番

大型基板用PECVD COPRA Linear Sources
大型基板用PECVD COPRA Linear Sources

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