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半導体製造に含まれる33カテゴリ一覧です。半導体露光装置・半導体製造装置・露光装置など幅広く、製品・メーカー・代理店を探すことができます。
1,212 点の製品中 35ページ目
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株式会社菱光社
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返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
25.9時間 返答時間
■特長 ・全機能がコンパクトに一体化 ・当社スタンダード機よりタクト20%アップを実現 ・用途により、2種類のアライメント方式を選択可能 ・独自の平行出し...
4種類の品番
ハイメカ株式会社
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返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
34.9時間 返答時間
生産過程で端数となったテーピング済みチップを順次取り出し、画像検査後、新たなエンボステープに詰め替える装置です。
3種類の品番
株式会社同人産業
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最新の閲覧: 1時間前
日本国内工場で生産している他、中国メーカーにて委託生産しています。中国メーカーでは、主に小径サイズを生産しており、Φ8"~Φ16"の大径サイズは日本製を取...
2種類の品番
株式会社マイクロフェーズ
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最新の閲覧: 5時間前
100.0% 返答率
87.8時間 返答時間
ガスのイオン化や前駆体の分解を促進 ■概要 ・横型管状炉熱CVD装置の上流側に、高周波誘導プラズマを発生させることにより、入力ガスあるいは前駆体のイオン...
2種類の品番
株式会社オーエステック
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半導体製造装置 (前工程用) は、デザインルール微細化 (0.18μm以下) と ウェーハ大口径化 (φ300mm以上) への対応が求められています。それには、装置を構成す...
3種類の品番
株式会社信光社
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返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
30.1時間 返答時間
■弊社は1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板としてSrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けています。 エピタキシャル成長...
2種類の品番
株式会社マイクロフェーズ
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100.0% 返答率
87.8時間 返答時間
レーザー描画によるパターン成膜が可能 ■概要 ・市販のファイバーレーザー加工機の試料室に、反応性ガス (炭化水素ガスやアンモニアガスなど) の導入・排出...
2種類の品番
アルバック販売株式会社
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100.0% 返答率
239.7時間 返答時間
■概要 本イオン銃は、ICF70取付のコンパクトなイオン銃でありながら、最大10 μAのビーム電流、150 μm以下のビーム径、2 mA/cm2以上の最大電流密度を実現した...
2種類の品番
アキム株式会社
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100.0% 返答率
38.5時間 返答時間
■概要 センサのパッケージに接着剤を塗布し、センサチップを高精度に搭載する装置です。 ■特徴 ・ターレットテーブルにより、低振動、低発塵かつ高速の搬送...
2種類の品番
株式会社マイクロフェーズ
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最新の閲覧: 13時間前
100.0% 返答率
87.8時間 返答時間
連続処理による生産量の大幅向上 ■目的 当社が考案した量産用連続CVD処理方式です。十分長い反応管に処理する試料を縦列に並べて置き、加熱炉を左から右への...
2種類の品番
株式会社エンジニアリング・ラボ
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最新の閲覧: 5時間前
レジン・ペーストコーターは、半導体業界向けに開発された全自動塗布装置です。WLはツインエア式ディスペンサーを搭載し、ウェハ上にスパイラルコーティング...
北川グレステック株式会社
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最新の閲覧: 1時間前
■製品情報 試験・量産用のCMP装置を、ウェハサイズに合わせてご案内しております。また、お客様のご要望に応じたオーダーメイドも承っております。弊社テクニ...
4種類の品番
アルス株式会社
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最新の閲覧: 21時間前
100.0% 返答率
43.9時間 返答時間
パッケージ生産技術で未来を創る ■半導体/MEMSパッケージの委託生産拠点としてだけではなく、テクノロジーリーダーとして最先端の製品設計に努めております...
2種類の品番
アルス株式会社
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43.9時間 返答時間
パッケージ生産技術で未来を創る ■半導体/MEMSパッケージの委託生産拠点としてだけではなく、テクノロジーリーダーとして最先端の製品設計に努めております...
2種類の品番
株式会社菱光社
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返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
25.9時間 返答時間
■概要 マスクを製作せずにキャドデーターから直接描画できる露光装置です。 ■メリット ・マスク製作のリードタイム ゼロ。 ・マスク製作のコスト ゼロ。 ...
4種類の品番
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