会社概要
1963年に洗浄装置の開発及び製造を目的として設立され、製造メーカーをはじめとする民間企業のほかに、官公庁や大学を主な取引先としており、海外への輸出も事業内容としています。
埼玉県所沢市に本社とウェット事業部の営業拠点と生産拠点として事業所兼工場を設けています。
千葉県流山市に真空プロセス装置の営業拠点と生産拠点として事業所兼工場を設けています。
事業内容
お客様のニーズに合わせて、研究用の小型機から量産用の自動装置を小回りのきく企業として製造いたします。
また、これらの技術を生かしLCD.PDP.有機EL.LED等の洗浄装置や、半導体向けの薄膜製造技術をその他の電子部品、ペットボトルなどの容器、各種立体物に応用したたオリジナルの装置も提供しております。
特にハードディスクメディアの保護膜用DLC薄膜やペットボトルの酸素バリア用DLC薄膜は長年実用化して頂いております。
全ての商品を自社にて製造いたしておりますので、安価にて御提供することが出来ます。
他社製品でのメンテナンスでお困りの場合でも対応できますので、お気軽にお声がけください。
会社沿革
2021年1月 アドバンスト マテリアル テクノロ ジーズ株式会社(旧株式会社ユーテック)より装置事業を譲受し流山事業所を設立。
2023年1月 株式会社ブイ・テクノロジーの株式取得による完全子会社となる。
主要取引先
大手製造メーカー、官公庁、大学 他
【海外】
台湾、中国、韓国、米国、インドネシア、タイ、シンガポール、マレーシア、欧州
ジャパンクリエイト株式会社の取り扱い製品
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17 点の製品
ジャパンクリエイト株式会社
PETボトル用プラズマCVD装置 シングルボトルDLC成膜装置 マニュアルローディング
440人以上が見ています
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366.4時間 平均返答時間
当社が得意といたします、プラズマCVDプロセス技術を応用し、樹脂容器材質として一般的に普及しております「PETボトル」へのDLCコーティ...
ジャパンクリエイト株式会社
PETボトル用プラズマCVD装置 リニアタイプDLC成膜装置 オートマチックローディング
320人以上が見ています
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366.4時間 平均返答時間
当社が得意といたします、プラズマCVDプロセス技術を応用し、樹脂容器材質として一般的に普及しております「PETボトル」へのDLCコーティ...
ジャパンクリエイト株式会社
2周波独立印加方式 アッシング装置
320人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
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366.4時間 平均返答時間
■概要 最大8インチ基板を全自動で連続処理することが可能な量産装置です。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、ア...
ジャパンクリエイト株式会社
マルチチャンバ仕様 有機EL用蒸着装置
310人以上が見ています
最新の閲覧: 23時間前
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366.4時間 平均返答時間
■概要 デバイス開発や材料開発に最適なマルチチャンバ仕様の装置です。 前処理から成膜、封止までの工程を大気に触れずに処理することが...
ジャパンクリエイト株式会社
CO2ラバージェットノズル使用 CO2スプレー洗浄装置
310人以上が見ています
最新の閲覧: 13時間前
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366.4時間 平均返答時間
■特徴 ・当社独自ノズル:CO2ラバージェットノズル使用 個体CO2粒子速度と粒子密度の可変ができ、最適な洗浄条件を提案可能 ・真空環境...
ジャパンクリエイト株式会社
酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置
300人以上が見ています
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366.4時間 平均返答時間
■特徴 ・2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現 ・優れた膜厚分布および再現性を実現 ・特殊表面処理によるメタルコ...
ジャパンクリエイト株式会社
圧電膜形成スパッタリング装置
270人以上が見ています
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366.4時間 平均返答時間
■特徴 ・単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜が可能 ・プラズマエミッションモニターを搭載により圧電特性低下に寄与...
ジャパンクリエイト株式会社
スパッタリング技術を応用 スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置
250人以上が見ています
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366.4時間 平均返答時間
■概要 当社が得意といたします、スパッタリング技術を応用し、様々な3次元形状の金属、セラミック、樹脂製品に成膜する装置です。 この...
ジャパンクリエイト株式会社
2周波独立印加方式 ドライエッチング装置
250人以上が見ています
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366.4時間 平均返答時間
■概要 最大φ12インチ基板を全自動で連続処理することが可能な量産装置です。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、...
ジャパンクリエイト株式会社
独自のスパッタカソードを搭載 立体物用スパッタリング装置
220人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
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366.4時間 平均返答時間
■特徴 ・当社独自のスパッタカソードを搭載 ・ワークステージに4軸機構 (昇降、公 転、自転、チルト) を搭載し、立体物成膜での高いカ...
ジャパンクリエイト株式会社
独自のプラズマ制御方式 立体物用プラズマCVD装置
210人以上が見ています
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366.4時間 平均返答時間
■特徴 ・チャンバー容積 1m3 ・独自のプラズマ制御方式 ・多段式大量一括処理可能 ・高い汎用性を備えたシンプルな構造 ・様々な製品材...
ジャパンクリエイト株式会社
基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現 Epitaxial-EB蒸着装置
210人以上が見ています
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366.4時間 平均返答時間
■特徴 ・エピタキシャル促進機構により単結晶成膜に最適 ・酸化促進ガス導入機構 ・材料酸化防止機構 ・最高900℃の高温プロセスが可能 ...
ジャパンクリエイト株式会社
優れた膜厚分布および再現性を実現 DLCコーティング装置
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■特徴 ・成膜源はRFプラズマCVD法とイオン化蒸着法から選択可能 ・基板加熱源は水冷型と加熱型から選択可能 ・優れた膜厚分布および再現...
ジャパンクリエイト株式会社
基板プラズマクリーニングシステム搭載 カーボンナノチューブ合成装置
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366.4時間 平均返答時間
■特徴 ・全自動でCNT合成が可能 ・基板プラズマクリーニングシステム搭載 ・優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現 ・優れた膜...
ジャパンクリエイト株式会社
独自のスパッタカソードを搭載 多元スパッタリング装置
180人以上が見ています
最新の閲覧: 23時間前
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366.4時間 平均返答時間
■特徴 ・当社独自のスパッタカソードを搭載 ・基板ステージに3軸機構 (昇降、公転、自転) を搭載し、均一な膜厚分布を実現 ・当社独自の...
ジャパンクリエイト株式会社
加熱プロセス特有の元素抜けを軽減 加圧RTA装置
170人以上が見ています
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■特徴 ・加熱プロセス特有の元素抜けを軽減 ・減圧プロセスから加圧プロセス (0.9MPaG) まで対応可能 ・基板表面の高速熱酸化、結晶...
ジャパンクリエイト株式会社
到達圧力10Pa 真空加熱乾燥炉
160人以上が見ています
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366.4時間 平均返答時間
■特徴 ・使用温度範囲：最高450℃ ・到達圧力：10Pa ・自動乾燥プロセスレシピ：30通り ・試料棚：2段 ■用途 ・スパッタターゲットの真...
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ジャパンクリエイト株式会社のカタログ一覧
ジャパンクリエイト株式会社のカタログが5件登録されています。
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- プラズマCVD装置
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CVD装置製作実績
カタログ概要
プラズマCVD装置・研究開発/量産・太陽電池・立体物・金属容器・医療容器・ガラス基板MOCVD装置ALD装置
タグ付けカテゴリ
プラズマCVD装置 CVD装置2023年7月13日
会社基本情報
| 郵便番号 | 〒359-1167 |
|---|---|
| 本社住所 | 埼玉県所沢市林1丁目203番地4 |
| 創業年 | 1963年 |
| 資本金 | 30,000,000円 |
| 従業員数 | 40人 |
| 法人番号 | 5030001025526 |
| リンク | ジャパンクリエイト株式会社 ホームページ |
事業所情報
ジャパンクリエイト株式会社の事業所が全国で2箇所登録されています。
事業所
千葉県・埼玉県でジャパンクリエイト株式会社の事業所が2箇所登録されています。
流山事業所/営業所/工場 プラズマプロセス装置事業部 事業所
〒270-0156 千葉県流山市西平井956-1本社/営業所/工場 ウエット事業部 事業所
〒359-1167 埼玉県所沢市林1-203-4事業所情報について
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