CO2ラバージェットノズル使用 CO2スプレー洗浄装置-CO2スプレー洗浄装置
CO2ラバージェットノズル使用 CO2スプレー洗浄装置-ジャパンクリエイト株式会社

CO2ラバージェットノズル使用 CO2スプレー洗浄装置
ジャパンクリエイト株式会社

電子・電気機器業界用 化学業界用

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■特徴

・当社独自ノズル:CO2ラバージェットノズル使用  個体CO2粒子速度と粒子密度の可変ができ、最適な洗浄条件を提案可能 ・真空環境での洗浄  低露点環境でCO2洗浄が可能 ・ダメージレスドライ洗浄が可能 ・基板サイズは最大φ12インチ ・ハンディータイプのスプレーユニット販売可能

■用途

・化合物半導体  メタルリフトオフプロセス後のフェンス除去 ・SAWデバイス  エッチング残渣の除去 (真空タイプCO2洗浄) ・CCDセンサー  マイクロレンズ上のパーティクル除去 ・MEMS  スパッタ残渣除去、濡れ性改善

  • シリーズ

    CO2ラバージェットノズル使用 CO2スプレー洗浄装置
  • 利用シーン

    電子・電気機器業界用 / 化学業界用

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CO2ラバージェットノズル使用 CO2スプレー洗浄装置 品番1件

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CO2スプレー洗浄装置

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

ジャパンクリエイト株式会社は、ウエハ自動洗浄装置、エッチング装置、スピン洗浄装置、プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置の開発及び製造を主な事業内容とする企業です。
1963年に洗浄装置の開発及び製造を...

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  • 本社所在地: 埼玉県
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