制御・計測・センシング
駆動・機械要素・電子制御部品
産業別カテゴリ
電源・エネルギー・熱処理機器
安全・保護・環境対策
材料・素材・ケミカル
電気・電子部品
構造部品・締結要素
ソフトウェア・ネットワーク
サービス
その他
全てのカテゴリ
閲覧履歴
電子ビーム描画装置のメーカー8社一覧や企業ランキングを掲載中！電子ビーム描画装置関連企業の2025年5月注目ランキングは1位:伯東株式会社、2位:日本電子株式会社、3位:株式会社ニューフレアテクノロジーとなっています。 電子ビーム描画装置の概要、用途、原理もチェック！
電子ビーム描画装置は、半導体用フォトマスクの製造において、フォトマスク・ブランクス (以下、ブランクスと略) に、電子ビームを使って回路パターンを描画するための装置です。
メモリーやCPU等のLSIの製造では、何十層にも分けられたフォトマスクを原板として、露光装置を使ってフォトマスク上のパターンをウエハーに転写していくことで、回路が作られます。
フォトマスクの品質は、LSIの歩留りに最も大きな影響を与えます。従って、フォトマスクのパターンを描画する電子ビーム描画装置は、LSI製造における最重要装置のひとつと言えます。
2025年5月の注目ランキングベスト8
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | 伯東株式会社 |
39.0%
|
| 2 | 日本電子株式会社 |
18.2%
|
| 3 | 株式会社ニューフレアテクノロジー |
12.6%
|
| 4 | 株式会社エリオニクス |
9.4%
|
| 5 | 株式会社クレステック |
7.5%
|
| 6 | 誠南工業株式会社 |
7.5%
|
| 7 | サンユー電子株式会社 |
3.8%
|
| 8 | イーグローバレッジ株式会社 |
1.9%
|
26 点の製品がみつかりました
26 点の製品
日本電子株式会社
130人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
39.6時間 返答時間
■特長 ・高い描画精度と高いスループットを両立 ・安定性を追求した電子光学系 ・最大300 mm ウエハー対応 ・300 mm ウエハーFOUP への...
オプトシリウス株式会社
360人以上が見ています
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
13.7時間 返答時間
■粉体のレジストならではの特徴 ・⾧期間の保管が可能です …1年間の保管期間 ・いつも同じ粘度で使えます …使用前に溶媒と混合して使う...
ネオアーク株式会社
470人以上が見ています
最新の閲覧: 11時間前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
33.6時間 返答時間
■フォトリソを、もっと身近に かつて「産業のコメ」と呼ばれた半導体。その半導体プロセスの根幹を支えた技術が「フォトリソグラフィ」...
株式会社協同インターナショナル
230人以上が見ています
最新の閲覧: 20時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
28.5時間 返答時間
■PhableR 100は、300nmピッチ以下の高解像度を実現 ・PhableR 100 は、EULITHA社独自の露光技術であるPHABLE (Photonics Enablerの短縮...
株式会社菱光社
170人以上が見ています
最新の閲覧: 20時間前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
27.1時間 返答時間
■特長 ・他品種・小ロット生産や実験・研究に最適な手動露光装置。 (有効露光範囲φ6 inch) ・フットプリントを縮小することで省スペー...
北野精機株式会社
240人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
19.4時間 返答時間
■概要 EBV40A1は数原子層の膜を作製するためやMBE装置で作製した多層膜のドーパント用として開発された装置です。フラックスを監視しな...
株式会社エイチ・ティー・エル
90人以上が見ています
最新の閲覧: 16時間前
Wayland Additive社 (英国) の電子ビーム・パウダベッド方式金属3Dプリンタです。次世代の電子ビーム金属積層造形装置が、応力のかから...
株式会社フィジックステクノロジー
190人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
100.0% 返答率
165.6時間 返答時間
プロジェクタ技術を活用したマスクレス露光装置です。デスクトップ型ですので、設置場所を選ばず簡単にご使用いただけます。 ■主な特徴...
株式会社ワイ・ドライブ
260人以上が見ています
100.0% 返答率
94.6時間 返答時間
テレセントリックfθ レンズによるレーザ露光のため、走査幅全域においてビーム形状が同じで高精度な描画が可能。直描装置本体部をコンパ...
4種類の品番
ネオアーク株式会社
480人以上が見ています
最新の閲覧: 20時間前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
33.6時間 返答時間
■フォトリソを、もっと身近に かつて「産業のコメ」と呼ばれた半導体。その半導体プロセスの根幹を支えた技術が「フォトリソグラフィ」...
株式会社協同インターナショナル
280人以上が見ています
最新の閲覧: 20時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
28.5時間 返答時間
PhableR100はタルボ効果を用いることにより周期構造に対して ハーフピッチ150nmの微細で一括露光できる特殊な装置です。 電子ビーム描画...
泉谷機械工業株式会社
420人以上が見ています
最新の閲覧: 20時間前
クリーンルーム内におけるPCB (プリントサーキットボード) 製造の露光 (焼付) 装置。ナノテクノロジー時代の現在、クリーンルームにおい...
株式会社菱光社
180人以上が見ています
最新の閲覧: 10時間前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
27.1時間 返答時間
■特長 ・全機能がコンパクトに一体化 ・当社スタンダード機よりタクト20％アップを実現 ・用途により、2種類のアライメント方式を選択可...
ネオアーク株式会社
330人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
33.6時間 返答時間
■フォトリソを、もっと身近に かつて「産業のコメ」と呼ばれた半導体。その半導体プロセスの根幹を支えた技術が「フォトリソグラフィ」...
株式会社エイチ・ティー・エル
90人以上が見ています
最新の閲覧: 14時間前
ブイ・テクノロジー社のレーザーマスク描画装置です。LCD TFT、OLED 等の大型マスクをマルチヘッドのパラレル露光により、高速・高精度...
株式会社エイチ・ティー・エル
20人以上が見ています
V-Technology グループのナノシステムソリューションが提供するLSI 2層目専用のマスク描画装置です。高精度・高信頼性の本装置は、効率...
ネオアーク株式会社
300人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
33.6時間 返答時間
■3次元形状へのフォトリソグラフィを実現 フォトリソグラフィは幅広い分野で活用されていますが、一般的に平面ワークに対して行われてい...
株式会社ピーエムティー
300人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
4.0 会社レビュー
100.0% 返答率
241.6時間 返答時間
マスクレス露光装置 ME-120F は、露光によって半導体ウェハなどにパターンを描画する装置です。DMD (Digital Micromirror Device) と呼...
株式会社エイチ・ティー・エル
20人以上が見ています
V-Technology グループのナノシステムソリューションが提供するLSIマスク汎用描画装置です。多くの描画装置製造の実績をベースに、LSIマ...
株式会社エイチ・ティー・エル
10人以上が見ています
Microtechは幅広い用途に対応した柔軟性の高い構成を可能にする装置をお届けします。LW405Dマスク描画装置は複数の露光波長を選択構成可...
株式会社ピーエムティー
280人以上が見ています
4.0 会社レビュー
100.0% 返答率
241.6時間 返答時間
マスクレス露光装置 D-Light DL-1000 は、露光によって半導体ウェハなどにパターンを描画する装置です。DMD (Digital Micromirror Devic...
株式会社ピーエムティー
220人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
4.0 会社レビュー
100.0% 返答率
241.6時間 返答時間
ミニマル マスクレス露光装置は、DMD (Digital Micromirror Device) と呼ばれる表示素子を使用し、ステージと完全同期されたON/OFF制御...
株式会社菱光社
180人以上が見ています
最新の閲覧: 27分前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
27.1時間 返答時間
■概要 マスクを製作せずにキャドデーターから直接描画できる露光装置です。 ■メリット ・マスク製作のリードタイム ゼロ。 ・マスク製...
電子ビーム描画装置は、半導体用フォトマスクの製造において、フォトマスク・ブランクス (以下、ブランクスと略) に、電子ビームを使って回路パターンを描画するための装置です。
メモリーやCPU等のLSIの製造では、何十層にも分けられたフォトマスクを原板として、露光装置を使ってフォトマスク上のパターンをウエハーに転写していくことで、回路が作られます。
フォトマスクの品質は、LSIの歩留りに最も大きな影響を与えます。従って、フォトマスクのパターンを描画する電子ビーム描画装置は、LSI製造における最重要装置のひとつと言えます。
電子ビーム描画装置は、フォトマスク製造時において、ブランクスに回路パターンを描画するために使用したり、MEMS等のナノテクノロジー製品の製造などに使用されます。LSIの製造工程では、マスク製造は、設計工程で作られた電子ファイル上のパターンデータをフォトマスク上の実パターンに変換します。
ブランクスは、ガラスの板の上に、クロムなどの薄い金属膜が形成されており、その上に電子ビームに感応するEBレジストが塗布されています。電子ビーム描画装置でブランクスに、パターンデータに合わせて電子線を照射することで、EBレジスト分子が、切断または重合して、パターンが形成されます。
また、一部の開発用途として、フォトマスクを使用せずに、ウエハー上にパターンを直接描画するために電子ビーム描画装置が使用されています。これは電子ビームの波長が、レーザー光の波長よりも遥かに短く、高い解像度が得られるためです。
設計部門で作られるパターンは、CADデータやストリームデータとも言われ、描画装置に依存しないフォーマットのデータです。これを個々の描画装置が取り扱えるように、それぞれの装置の要求するフォーマットのデータに変換することをEB変換と言い、EB変換されたパターンデータをEBデータと言います。
電子ビーム描画装置では、ブランクスを精密なXYステージ上にセットし、ステージを動かしながら、EBデータに従って、パターンのある場所に電子ビームを照射します。電子ビームは電子銃から発射され、アパーチャー内を通過する際に精巧に成形されます。ブランクス上のEBレジストは、電子ビームが当たったところの分子が、切断若しくは重合されます。
描画が終了したブランクスは、現像、エッチング、残存レジスト膜の剥離などのリソグラフィー工程を経てフォトマスクとなります。
電子ビーム描画装置は、ビームの形状と、ステージの移動方法によって分類されます。
ビームの形が円形で、ビーム強度がガウス分布のものを、ガウシアンビーム方式といい、ビームの形が、装置の仕様の範囲内で大小さまざまな大きさの矩形に変化する方式を、可変整形ビームと言います。
ステージの移動がXY方向に順番に動く方式を、ラスタースキャン方式と言います。ステージが任意の場所まで動き、そこにあるパターンを描画する方式をベクタースキャン方式と言います。
以前の電子ビーム描画装置は、ガウシアンビームのラスタースキャン方式の装置が主流でした。LSIパターンの微細化が進んだ今日では、可変整形ビームのベクタースキャン方式の描画装置が主流となっています。
また、ビームの数が複数あり、同時に複数のパターンを描画できる、マルチビームの電子ビーム描画装置も開発されています。マルチビームの電子ビーム描画装置は、描画のスループットの向上のために有効です。
露光装置では、パターンの転写のためにKrF、ArF、EUV等のレーザービームを使用します。光の特性として、転写するパターンの大きさが、レーザーの波長より小さくなった場合には、パターン周辺部の光の回折が問題となり、そのままではウエハー上に正しくパターンが形成できなくなります。これが、Sub Wave Length Problemです。
この問題を解決するために考案された技術の総称がResolution Enhancement Technologies (超解像度技術、以下RETと略) です。RETには様々な手法がありますが、殆どの場合にはフォトマスク上のパターンを、本来のパターンから変形させたり、周辺に補助パターンを配置するなどして、ウエハー上に設計通りのパターンを再現できるようにします。
そのため、電子ビーム描画装置に投入するEBデータは、単純にCADデータをフォーマット変換したものではなく、RETを加えた変形パターンとなっています。
