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電子ビーム描画装置 メーカー8社

電子ビーム描画装置のメーカー8社一覧企業ランキングを掲載中!電子ビーム描画装置関連企業の2025年3月注目ランキングは1位:伯東株式会社、2位:株式会社ニューフレアテクノロジー、3位:株式会社エリオニクスとなっています。 電子ビーム描画装置の概要、用途、原理もチェック!

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8電子ビーム描画装置メーカー

*一部商社などの取扱い企業なども含みます。

電子ビーム描画装置 2025年3月のメーカーランキング

*一部商社などの取扱い企業なども含みます

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見積もりの使い方

20 点の製品がみつかりました

20 点の製品

日本電子株式会社

電子ビーム描画装置 (可変/スポット) JBX-A9 シリーズ

60人以上が見ています

最新の閲覧: 12時間前

100.0% 返答率

41.9時間 返答時間

■特長 ・高い描画精度と高いスループットを両立 ・安定性を追求した電子光学系 ・最大300 mm ウエハー対応 ・300 mm ウエハーFOUP への...


ネオアーク株式会社

マスクレス露光装置 PALET 手動ステージモデル DDB-701-MS

330人以上が見ています

最新の閲覧: 5時間前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

33.6時間 返答時間

■フォトリソを、もっと身近に かつて「産業のコメ」と呼ばれた半導体。その半導体プロセスの根幹を支えた技術が「フォトリソグラフィ」...


株式会社協同インターナショナル

ナノパターン露光装置 PhableR 100

190人以上が見ています

最新の閲覧: 5時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

30.6時間 返答時間

PhableR100はタルボ効果を用いることにより周期構造に対して ハーフピッチ150nmの微細で一括露光できる特殊な装置です。 電子ビーム描画...


株式会社菱光社

露光装置 セミオートアライナー MA-4000

110人以上が見ています

最新の閲覧: 13時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

27.6時間 返答時間

■特長 ・全機能がコンパクトに一体化 ・当社スタンダード機よりタクト20%アップを実現 ・用途により、2種類のアライメント方式を選択可...


株式会社ピーエムティー

マスクレス露光装置 ミニマル マスクレス露光装置

130人以上が見ています

最新の閲覧: 11時間前

ミニマル マスクレス露光装置は、DMD (Digital Micromirror Device) と呼ばれる表示素子を使用し、ステージと完全同期されたON/OFF制御...


ネオアーク株式会社

マスクレス露光装置 PALET 電動ステージモデル DDB-701-DL

330人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

33.6時間 返答時間

■フォトリソを、もっと身近に かつて「産業のコメ」と呼ばれた半導体。その半導体プロセスの根幹を支えた技術が「フォトリソグラフィ」...


ネオアーク株式会社

マスクレス露光装置 PALET 大型ステージモデル DDB-701-DL4

230人以上が見ています

最新の閲覧: 17時間前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

33.6時間 返答時間

■フォトリソを、もっと身近に かつて「産業のコメ」と呼ばれた半導体。その半導体プロセスの根幹を支えた技術が「フォトリソグラフィ」...


株式会社フィジックステクノロジー

光学素子設計/加工装置 マスクレス露光装置 SMART PRINT UV スタンダード

120人以上が見ています

最新の閲覧: 7時間前

100.0% 返答率

65.4時間 返答時間

プロジェクタ技術を活用したマスクレス露光装置です。デスクトップ型ですので、設置場所を選ばず簡単にご使用いただけます。 ■主な特徴...


株式会社ワイ・ドライブ

FPD各種部材 走査幅全域においてビーム形状が同じで高精度な描画が可能 テレセンfθ レーザ直描装置

170人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

94.6時間 返答時間

テレセントリックfθ レンズによるレーザ露光のため、走査幅全域においてビーム形状が同じで高精度な描画が可能。直描装置本体部をコンパ...

4種類の品番

LSU-1002-FPD各種部材 走査幅全域においてビーム形状が同じで高精度な描画が可能 テレセンfθ レーザ直描装置
LSU-6010-FPD各種部材 走査幅全域においてビーム形状が同じで高精度な描画が可能 テレセンfθ レーザ直描装置
LSU-12522-FPD各種部材 走査幅全域においてビーム形状が同じで高精度な描画が可能 テレセンfθ レーザ直描装置
LSU-25030-FPD各種部材 走査幅全域においてビーム形状が同じで高精度な描画が可能 テレセンfθ レーザ直描装置

ネオアーク株式会社

マスクレス露光装置 3次元形状レーザ露光装置

230人以上が見ています

最新の閲覧: 5時間前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

33.6時間 返答時間

■3次元形状へのフォトリソグラフィを実現 フォトリソグラフィは幅広い分野で活用されていますが、一般的に平面ワークに対して行われてい...


株式会社ピーエムティー

マスクレス露光装置 DMDの高速時間変調で256階調のグレースケール露光が可能 マスクレス露光装置 D-light DL-1000

170人以上が見ています

最新の閲覧: 40分前

マスクレス露光装置 D-Light DL-1000 は、露光によって半導体ウェハなどにパターンを描画する装置です。DMD (Digital Micromirror Devic...


泉谷機械工業株式会社

PCB製造用 ローダ&アンローダ付露光装置

340人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

クリーンルーム内におけるPCB (プリントサーキットボード) 製造の露光 (焼付) 装置。ナノテクノロジー時代の現在、クリーンルームにおい...


株式会社ピーエムティー

マスクレス露光装置 DMDによる直接描画で半導体デバイス試作のサイクルタイムを削減 マスクレス露光装置 ME-120F

210人以上が見ています

最新の閲覧: 3時間前

マスクレス露光装置 ME-120F は、露光によって半導体ウェハなどにパターンを描画する装置です。DMD (Digital Micromirror Device) と呼...


株式会社菱光社

露光装置 マスクレス露光機

120人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

27.6時間 返答時間

■概要 マスクを製作せずにキャドデーターから直接描画できる露光装置です。 ■メリット ・マスク製作のリードタイム ゼロ。 ・マスク製...


株式会社協同インターナショナル

ナノパターン露光装置"PhableR 100"

160人以上が見ています

最新の閲覧: 46分前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

30.6時間 返答時間

■PhableR 100は、300nmピッチ以下の高解像度を実現 ・PhableR 100 は、EULITHA社独自の露光技術であるPHABLE (Photonics Enablerの短縮...


株式会社菱光社

露光装置 セミオートアライナー MA-1200A

110人以上が見ています

最新の閲覧: 14時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

27.6時間 返答時間

■特長 ・他品種・小ロット生産や実験・研究に最適な手動露光装置。 (有効露光範囲φ6 inch) ・フットプリントを縮小することで省スペー...


北野精機株式会社

ソース ミニ電子ビーム蒸着装置 EBV40A1

160人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

22.5時間 返答時間

■概要 EBV40A1は数原子層の膜を作製するためやMBE装置で作製した多層膜のドーパント用として開発された装置です。フラックスを監視しな...


電子ビーム描画装置のカタログ1件をまとめてダウンロードできます!



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