電子ビーム描画装置、EUV 露光装置、ナノインプリント･リソグラフィー向け ネガ型 粉体のレジスト H-SiOx オプトシリウス株式会社
この製品について
■粉体のレジストならではの特徴
・⾧期間の保管が可能です …1年間の保管期間 ・いつも同じ粘度で使えます …使用前に溶媒と混合して使うので増粘しません ・広い範囲の厚さの膜を作れます …粘度を調整する事ができます ・5nm の膜厚、7nm の解像度 …最新のテストで達成しました ・廃棄する量を減らせます …⾧期保存ができ、少量単位で購入出来ます ・しっかりしたサポート体制 …経験豊富な AQM 社がサポート ・優れた LER (Line Edge Roughness) ・強いドライエッチングに対する耐性-
シリーズ
電子ビーム描画装置、EUV 露光装置、ナノインプリント･リソグラフィー向け ネガ型 粉体のレジスト H-SiOx
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取扱企業
オプトシリウス株式会社
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電子ビーム描画装置、EUV 露光装置、ナノインプリント･リソグラフィー向け ネガ型 粉体のレジスト H-SiOx 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) |
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H-SiOx |
要見積もり |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
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