半導体製造

アントム(株)製リフロー装置。全長1m以下の小型リフロー装置や4m程度の中型リフロー装置を中心に半田付け等の加熱工程をサポート。

16種類の品番

• 半導体製造

• リフロー装置

CZ法 (チョクラルスキー法) と呼ばれる製造方法によりシリコンウェーハの材料となる単結晶インゴットを製造しています。主にデバイス製造工程の一つであるエ...

2種類の品番

• 半導体製造

• 半導体材料

■特長 ・組込み向けCPUボード ・Intel® Atom® Elkhart Lake搭載 ・2031年までの長期供給 ・0~+60℃に対応可能 ・125 (W) ×140 (D) mmの小型サイズ ・Windows/...

5種類の品番

• 半導体製造

• CPUボード

■主な用途 真空はんだ付けリフローとして、また、真空ベーク、真空乾燥炉としてご使用いただけます。タッチパネル式温度コントローラにより、簡単な操作にて...

12種類の品番

• 半導体製造

• リフロー装置

SiO2やSiのエッチングや有機物のアッシングを、加熱することで高速・高効率に。 ■製品概要 ・プラズマエッチャーCPEシリーズに、ステージ加熱付きが新登場 ...

2種類の品番

• 半導体製造

• プラズマエッチング装置

CPU モジュールは、CPU ボードの心臓部だけを小さなボード上に実現しました。各種周辺インタフェイスなどは、お客様が用途に合った仕様で設計開発できます。...

4種類の品番

• 半導体製造

• CPUボード

クリーンルーム内におけるPCB (プリントサーキットボード) 製造の露光 (焼付) 装置。ナノテクノロジー時代の現在、クリーンルームにおいては、より精密で純度...

5種類の品番

• 半導体製造

• 半導体露光装置

プラズマ洗浄～ワーク脱水 (デハイドレーション) ～シランCVD～ガス排出までチャンバー内で自動一括処理できる、R&D向けの卓上型シランCVD装置です。無機物と...

4種類の品番

• 半導体製造

• 半導体製造装置

600mm 基板に対応した大型プラズマCVD装置です。 緻密なシリコン酸化膜の形成が可能で薄膜キャパシタの作製に適しています。

2種類の品番

• 半導体製造

• ALD装置

ダイシング後のウェハーをダイシングテープ (UVテープ) より、剥離し易くするために紫外線を均一に照射させる装置です。

3種類の品番

• 半導体製造

• UV照射器

■概要 ソリッドステートリレー (SSR) とは、電磁リレー (EMR) と同様に入力側と出力側が絶縁され、電気回路開閉部に半導体素子を使用して無接点化した半導体...

3種類の品番

• 半導体製造

• 半導体リレー

アパタイト被膜二酸化チタン、炭酸塩、クエン酸、天然油脂の混合物から出来ており、活性酸素を放出します。二酸化炭素、水、酸素に分解することにより、汚れ...

8種類の品番

• 半導体製造

• 光酸発生剤

京セラは、CCD/CMOSイメージセンサ用に、セラミックパッケージと光学コート付きガラスリッドを提供しており、 パッケージに合わせたリッドをご提案することが...

2種類の品番

• 半導体製造

• 半導体パッケージ

熱硬化型/可塑型材料で貼合されたデバイスの支持体を剥離する装置です。機械剥離後、残渣洗浄まで自動で行います。テープフレームでハンドリングするため、デ...

4種類の品番

• 半導体製造

• 半導体検査装置

■特徴 ・電着封止パッケージ ・広帯域周波数範囲 ・優れたハンダ付性

3種類の品番

• 半導体製造

• マイクロプロセッサ