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テイカ株式会社

光触媒用酸化チタン (スラリー)

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光触媒用酸化チタンは、太陽光や人工光に含まれている紫外線及び水・酸素という非常にクリーンなエネルギーによって発現する酸化チタンの酸化力を利用して、...

8種類の品番

ジャパンクリエイト株式会社

2周波独立印加方式 ドライエッチング装置

化学業界用 電子・電気機器業界用

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■概要 最大φ12インチ基板を全自動で連続処理することが可能な量産装置です。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング及びイオン...

3種類の品番

2周波独立印加方式 ドライエッチング装置
2周波独立印加方式 ドライエッチング装置
2周波独立印加方式 ドライエッチング装置

ブルカージャパン株式会社

フォトマスク高品質フェムト秒レーザリペア装置 RAVE fp-III

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■フォトマスク高品質フェムト秒レーザリペア装置 ・最先端半導体デバイス用フォトマスクリペアシステム ・フェムト秒パルスレーザー技術の採用により石英基板...

3種類の品番

フォトマスク高品質フェムト秒レーザリペア装置 RAVE fp-III
フォトマスク高品質フェムト秒レーザリペア装置 RAVE fp-III
フォトマスク高品質フェムト秒レーザリペア装置 RAVE fp-III

株式会社マイクロセミコンダクターリサーチ

ベタ膜ウェーハ

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返信の早い企業

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300mmベタ膜ウェーハリスト ※他にも品番がございます。

20種類の品番

神港精機株式会社

高密度 プラズマ装置 SWP

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大面積に均一な高密度プラズマが生成可能な表面波プラズマ (SWP) を採用し、アッシング・表面処理等多くの用途で活躍中です。 H2ラジカルによるダメージレス...

2種類の品番

高密度 プラズマ装置 SWP
高密度 プラズマ装置 SWP

有限会社ケニックシステム

CPUボード Standard LCDC

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47.3時間 返答時間

■概要 「CPUボード」に関しては、「SHシリーズのマイコン」と「LCDコントローラIC」を搭載したボードです。 ※CPUボードは全てRoHS対応品です。

8種類の品番

CPUボード Standard LCDC
CPUボード Standard LCDC
CPUボード Standard LCDC
CPUボード Standard LCDC
CPUボード Standard LCDC
CPUボード Standard LCDC

株式会社世奉

「SHINSUNG E&G」クーリンルームや半導体装置向け FAN FILTER UNIT(FFU) 製造

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返信のとても早い企業

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「Fan Filter Unit (FFU)」 製品情報 ・世界一流商品に選定! ・空気を浄化して清浄な空気を供給する核心装備で、高清浄度施設に適用されます。 適用分野 ・I...

4種類の品番

「SHINSUNG E&G」クーリンルームや半導体装置向け FAN FILTER UNIT(FFU) 製造
「SHINSUNG E&G」クーリンルームや半導体装置向け FAN FILTER UNIT(FFU) 製造
「SHINSUNG E&G」クーリンルームや半導体装置向け FAN FILTER UNIT(FFU) 製造
「SHINSUNG E&G」クーリンルームや半導体装置向け FAN FILTER UNIT(FFU) 製造

ネオアーク株式会社

マスクレス露光装置 PALET 手動ステージモデル DDB-701-MS

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■フォトリソを、もっと身近に かつて「産業のコメ」と呼ばれた半導体。その半導体プロセスの根幹を支えた技術が「フォトリソグラフィ」です。時代とともにフ...

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マスクレス露光装置 PALET 手動ステージモデル DDB-701-MS
マスクレス露光装置 PALET 手動ステージモデル DDB-701-MS
マスクレス露光装置 PALET 手動ステージモデル DDB-701-MS
マスクレス露光装置 PALET 手動ステージモデル DDB-701-MS

ネオアーク株式会社

マスクレス露光装置 PALET 電動ステージモデル DDB-701-DL

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■フォトリソを、もっと身近に かつて「産業のコメ」と呼ばれた半導体。その半導体プロセスの根幹を支えた技術が「フォトリソグラフィ」です。時代とともにフ...

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マスクレス露光装置 PALET 電動ステージモデル DDB-701-DL
マスクレス露光装置 PALET 電動ステージモデル DDB-701-DL
マスクレス露光装置 PALET 電動ステージモデル DDB-701-DL
マスクレス露光装置 PALET 電動ステージモデル DDB-701-DL

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

優れた均質性&最大の柔軟性 Ionfab 300 IBE

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■概要 優れた均質性を持ちながら最大の柔軟性を有し、広範な用途分野に適しています。当社のシステムには、大気装入、単一基板真空予備室、そしてカセット交...

株式会社ダックス

第11世代Intel® Core™ iシリーズ搭載 小型エンベデッドCPUボード

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低消費電力な第11世代インテル® Core™ iプロセッサー (Tiger Lake UP3) を搭載し、インテル® Iris® Xe グラフィクス内蔵により従来品に比べてGPU性能が飛躍的...

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第11世代Intel® Core™ iシリーズ搭載 小型エンベデッドCPUボード
第11世代Intel® Core™ iシリーズ搭載 小型エンベデッドCPUボード
第11世代Intel® Core™ iシリーズ搭載 小型エンベデッドCPUボード

株式会社マルコム

小型ながら高い加熱性能 静止型リフロー装置 RDT-250EC

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39.7時間 返答時間

小型ながら高い加熱性能で試作、加熱テスト、評価、生産まで対応可能。進化したニューモデル登場です。 ■特徴 ・弊社新開発の上面熱風マトリックス制御によ...

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小型ながら高い加熱性能 静止型リフロー装置 RDT-250EC
小型ながら高い加熱性能 静止型リフロー装置 RDT-250EC
小型ながら高い加熱性能 静止型リフロー装置 RDT-250EC

株式会社トゥーリーズ

XCSW製 化合物・半導体結晶 エッチングシリコンウェハ

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■XCSW社 XCSW社は1990年中国アモイで設立した化合物半導体材料企業です。Ga,Al,In,As,PをベースにしたⅢ-Ⅴ族シリコンドープn型半導体上に、第1世代Geウェハ、...

ハイソル株式会社

卓上型真空ベーク・HMDS蒸着装置 310TA

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26.3時間 返答時間

本装置はHMDS (ヘキサメチルジシラザン) の蒸着成膜 (ベーパープライミング) に特化しており、装置の各種パラメータはあらかじめHMDS専用に設定されています...

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卓上型真空ベーク・HMDS蒸着装置 310TA
卓上型真空ベーク・HMDS蒸着装置 310TA
卓上型真空ベーク・HMDS蒸着装置 310TA

株式会社エヌ・エム・アール

CPU モジュール Q7 CPU モジュール iQ7-BT

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16.5時間 返答時間

■特徴 ・22nm Intel® Atom™ オンボード SoC Q7 コネクタピンアウトは、Q7 Revision2.0 による。 ・2 GB 1066/1333 MHz DDR3L メモリ (4 GB オプション) ・...

2種類の品番

CPU モジュール Q7 CPU モジュール iQ7-BT
CPU モジュール Q7 CPU モジュール iQ7-BT

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