半導体製造

■超音波洗浄スプレーノズル メガソニック シングル／デュアル／トリプルノズル 本質を極めた非接触洗浄 メガソニックノズルに内蔵された振動子がメガソニッ...

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• 半導体製造

• 大型超音波洗浄機

■概要 組み込みコンポーネントは、より大規模なシステムに統合できるように設計されており、特定のアプリケーション内で専用の機能を実現します。これらのコ...

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• 半導体製造

• ASIC

JTAG Technologies社は、エンジニアがハードウェアをあまり追加せずにデバイスプログラミング機能を向上させるために使用できる幅広いオプションを提供します...

• 半導体製造

• MPU

高精度な半導体リソグラフィー工程を支える材料で、微細加工技術を実現します。

• 半導体製造

• レジスト

特別に原料ビームを絞って使用したい場合に適しています。

• 半導体製造

• クヌーセンセル

カスタマイズ可能レーザー直描露光装置　 Dilase750は、Dilaseシリーズの最高峰モデルとして開発された高性能なレーザー直描露光装置です。325nm,375nmまたは...

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• 半導体製造

• 半導体露光装置

1チャンバーで異物、有機物、金属汚染が取り除ける多目的洗浄装置 ■【装置概要】 各種ウエハサイズ、材質に対応した両面スクラブ洗浄と薬液処理を兼用した装...

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• 半導体製造

• 半導体製造装置

■概要 半導体ウェーハプロセスにおいてウェーハ上に回路を作るマスクとして使用するフォトレジストを剥離する装置です。用途に合わせてお選びいただけます。...

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• 半導体製造

• 半導体製造装置

■概要 ・プレーナーカソードを備えた縦型スパッタ成膜装置です。 ・長尺物や立体物、処理数量の多い試料に対して均一性の高い成膜が行えます。 ・プラスチッ...

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• 半導体製造

• 半導体製造装置

■概要 ・サブマウントを窒素雰囲気のテーブル内でロー材を使用し、LDチップをロー付する全自動装置。 ・ターンテーブル方式を採用。

• 半導体製造

• 半導体製造装置

特徴 ■固形樹脂水現像製版システム 各種水現像紫外線硬化樹脂に対応します。固形樹脂LED製版システム、蛍光灯 (ケミカルランプ) 製版システム 固形樹脂製版...

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• 半導体製造

• 洗浄装置

2種類の品番

• 半導体製造

• 成膜装置

低温プラズマの熱処理への応用により開発されたプラズマCVD法は、PVD法・CVD法両技術の特長を兼ね備え、すでに半導体産業では重要な成膜技術です。例えば、従...

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• 半導体製造

• プラズマCVD装置

ALDER-800T (A800T) は大容量ロードロック機構を有し、高いスループット、高い均一性、優れた再現性を実現するサーマルモードALD装置です。 ■特長 ・LED用途...

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• 半導体製造

• ALD装置

RF-460は赤外線と窒素 (N2) を基本加熱にした、鉛フリーはんだ対応の小型リフローはんだ付け装置 (リフロー炉) です。卓上の小型リフロー装置ながら遠赤 (IR)...

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• 半導体製造

• はんだ付け装置