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CHEMFISH TOKYO株式会社

CVD・ALD材料

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■概要 半導体ALD/CVDプリカーサーは、半導体薄膜堆積プロセスの中核原料であり、化学気相成長法 (CVD) と原子層堆積法 (ALD) により金属/酸化物/窒化物薄膜を...

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アルス株式会社

半導体/MEMSパッケージング USB-A (Ultra Small Board:ノンリード・ガラエポ基板)

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パッケージ生産技術で未来を創る ■半導体/MEMSパッケージの委託生産拠点としてだけではなく、テクノロジーリーダーとして最先端の製品設計に努めております...

2種類の品番

株式会社シミズ

電着塗料 カチオン系 ネガ型フォトレジスト電着塗料 エレコートEU-XC

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■主な用途 めっき、エッチング用マスキングレジスト 部分メッキやエッチング用マスキング ■機能 電着レジスト ■特徴 ・3次元のパターン形成が可能です。 ・...

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株式会社マイクロセミコンダクターリサーチ

活性層1μmSOIウェーハ

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■概要 活性層厚さ1μmを研削・研磨法にて仕上げます。機械加工による1μm近辺の活性層仕上げは非常に難易度が高く歩留まりも低いのですが安定した製造技術によ...

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ジャパンクリエイト株式会社

2周波独立印加方式 ドライエッチング装置

化学業界用 電子・電気機器業界用

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■概要 最大φ12インチ基板を全自動で連続処理することが可能な量産装置です。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング及びイオン...

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2周波独立印加方式 ドライエッチング装置
2周波独立印加方式 ドライエッチング装置
2周波独立印加方式 ドライエッチング装置

アルス株式会社

半導体/MEMSパッケージング USB-B (Ultra Small Board:ノンリード・Ni電鋳転写リード)

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パッケージ生産技術で未来を創る ■半導体/MEMSパッケージの委託生産拠点としてだけではなく、テクノロジーリーダーとして最先端の製品設計に努めております...

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株式会社マイクロセミコンダクターリサーチ

高機能基板

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■概要 高機能基板として各種貼り合わせウェーハ製造基板およびGaN-SiCエピウェーハを供給します。パワーデバイス、高耐圧、圧電素子、次世代通信に向けた自動...

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富士ソフト株式会社 インダストリービジネス事業部

IPコア/RISC-Vプロセッサ/AndesCore™ Processors RISC-V Series

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Andes Technology社は今日の電子機器の厳しい要件を満たすために、コンフィギュレーション可能なソフトウェア/ハードウェアIPおよびスケーラブルなプラットフ...

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テイカ株式会社

光触媒用酸化チタン (粉体)

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光触媒用酸化チタンは、太陽光や人工光に含まれている紫外線及び水・酸素という非常にクリーンなエネルギーによって発現する酸化チタンの酸化力を利用して、...

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元田技研株式会社

バランサーワイマン アタッチメント 真空吸着 ターボハンド仕様

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安全に、正確に、使いやすく。対象のワークに合わせた各種アタッチメントでワイマンシリーズを強力にバックアップします。 ■対象ワーク ダンボール箱・袋物...

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アルス株式会社

半導体/MEMSパッケージング USB-C (Ultra Small Board:ノンリード・Cu frame)

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パッケージ生産技術で未来を創る ■半導体/MEMSパッケージの委託生産拠点としてだけではなく、テクノロジーリーダーとして最先端の製品設計に努めております...

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住友精化株式会社

IC・メモリー・液晶・太陽電池等に 機能マテリアル 半導体用ガス

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■IC・メモリー・液晶・太陽電池等の半導体製造に欠かせないガス ・当社は1970年代にはじめて半導体グレードの高純度NH3を開発して以来、総合化学メーカーとし...

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株式会社マイクロセミコンダクターリサーチ

太陽光発電用シリコン材料

エネルギー業界用

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■概要 ベトナムIMT社製造の鋳造型単結晶シリコンインゴットを提供いたします。従来鋳造法では多結晶インゴットしか製造できませんでしたが、IMT社の鋳造技術...

日本電波工業株式会社

光学製品 アプリケーション 半導体露光装置 (ステッパー)

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■製品の特長 ・使用される光学製品 水晶波長板 ・弊社独自の高純度人工水晶を使用することで、波長193nmなどの真空紫外領域も高い透過率を保証いたします。 ...

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テイカ株式会社

光触媒用酸化チタン (ゾル)

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光触媒用酸化チタンは、太陽光や人工光に含まれている紫外線及び水・酸素という非常にクリーンなエネルギーによって発現する酸化チタンの酸化力を利用して、...

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