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プラズマCVD装置 メーカー14社

プラズマCVD装置のメーカー14社一覧企業ランキングを掲載中!プラズマCVD装置関連企業の2025年7月注目ランキングは1位:ジャパンクリエイト株式会社、2位:Applied Materials, Inc.、3位:サムコ株式会社となっています。 プラズマCVD装置の概要、用途、原理もチェック!

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14プラズマCVD装置メーカー

プラズマCVD装置 2025年7月のメーカーランキング

2025年7月の注目ランキングベスト6

順位 会社名 クリックシェア
1 ジャパンクリエイト株式会社
46.7%
2 Applied Materials, Inc.
20.0%
3 サムコ株式会社
13.3%
4 新明和工業株式会社
6.7%
5 LAM RESEARCH CORPORATION
6.7%
6 SPPテクノロジーズ株式会社
6.7%

44 点の製品がみつかりました

44 点の製品

1

ジャパンクリエイト株式会社

PETボトル用プラズマCVD装置 シングルボトルDLC成膜装置 マニュアルローディング

食品業界用 製薬・医薬品業界用 プラスチック・ゴム製造業界用

680人以上が見ています

最新の閲覧: 17時間前

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

129.3時間 返答時間

当社が得意といたします、プラズマCVDプロセス技術を応用し、樹脂容器材質として一般的に普及しております「PETボトル」へのDLCコーティ...


2

株式会社魁半導体

真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD

540人以上が見ています

最新の閲覧: 5分前

4.0 会社レビュー

100.0% 返答率

48.8時間 返答時間

業界初、液体原料から直接成膜する安全なプラズマ CVD。 ■製品概要 ・魁半導体独自の「DH-CVD」技術を応用した薄膜形成装置 ・有機金属...


3

ハイソル株式会社

卓上型シランCVD成膜装置 EcoCoat (エココート)

530人以上が見ています

最新の閲覧: 23時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

25.5時間 返答時間

プラズマ洗浄~ワーク脱水 (デハイドレーション) ~シランCVD~ガス排出までチャンバー内で自動一括処理できる、R&D向けの卓上型シランC...


4

神港精機株式会社

薄膜形成装置 プラズマCVD装置

480人以上が見ています

100.0% 返答率

162.9時間 返答時間

600mm 基板に対応した大型プラズマCVD装置です。 緻密なシリコン酸化膜の形成が可能で薄膜キャパシタの作製に適しています。


5

ジャパンクリエイト株式会社

酸化膜/窒化膜プラズマCVD装置

化学業界用 電子・電気機器業界用

480人以上が見ています

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

129.3時間 返答時間

■特徴 ・2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現 ・優れた膜厚分布および再現性を実現 ・特殊表面処理によるメタルコ...


6

ジャパンクリエイト株式会社

PETボトル用プラズマCVD装置 リニアタイプDLC成膜装置 オートマチックローディング

食品業界用 プラスチック・ゴム製造業界用 製薬・医薬品業界用

480人以上が見ています

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

129.3時間 返答時間

当社が得意といたします、プラズマCVDプロセス技術を応用し、樹脂容器材質として一般的に普及しております「PETボトル」へのDLCコーティ...


7

アリオス株式会社

ダイヤモンド合成用MP-CVD装置 DCVD-301B/601B

470人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.4時間 返答時間

■概要 本装置は、ダイヤモンド生産用のマイクロ波プラズマCVD装置です。当社独自のプラズマ技術を駆使し、大面積かつ高速成長を実現しま...


8

株式会社DINOVAC

立体物に成膜可能 立体物対応実験用プラズマCVD装置

470人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の早い企業

100.0% 返答率

9.8時間 返答時間

■用途・特徴 ・立体物に成膜可能な実験用プラズマCVD装置 ・対応可能膜種:DLC、アモルファスSiC等 ・基材加熱機構付き (最高設定温度...


9

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

コンパクトな多様なエッチングとデポジションのソリューション PlasmaPro 80 PECVD

470人以上が見ています

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

23.1時間 返答時間

PlasmaPro 80は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易いオープンロー...


10

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

プラズマ励起化学気相堆積ロセスの柔軟なソリューション PlasmaPro 800 PECVD

450人以上が見ています

最新の閲覧: 18時間前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

23.1時間 返答時間

PlasmaPro 800は、プラズマ励起化学気相堆積 (PECVD) プロセスの柔軟なソリューションを、大きなウェハバッチと300mmウェハにおいて、コ...


11

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易い大気装入方式で実現 PlasmaPro 80 RIE

420人以上が見ています

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

23.1時間 返答時間

■概要 PlasmaPro 80 リアクティブイオンエッチング (RIE) は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジショ...


12

神港精機株式会社

薄膜形成装置 バッチ式 プラズマ重合装置

390人以上が見ています

最新の閲覧: 20時間前

100.0% 返答率

162.9時間 返答時間

真空チャンバーに導入したモノマーガスを高周波によりプラズマ化し、基板表面にポリマー膜を形成する装置です。 生体と接触する被膜の形...


13

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

ICPCVDプロセスモジュール PlasmaPro 100 ICPCVD

390人以上が見ています

最新の閲覧: 19時間前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

23.1時間 返答時間

ICPCVD (誘導結合プラズマ) プロセスモジュールは、低温で高品質の薄膜を製造するように設計され、高密度リモートプラズマによりダメー...


14

神港精機株式会社

薄膜形成装置 ロードロック式 プラズマ重合装置

380人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

162.9時間 返答時間

真空チャンバーに導入したモノマーガスを高周波によりプラズマ化し、基板表面にポリマー膜を形成する装置です。 生体と接触する被膜の形...


15

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

ナノ材料の高い成膜特性を実現 PlasmaPro 100 Nano CVD

380人以上が見ています

最新の閲覧: 22時間前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

23.1時間 返答時間

化学気相堆積 (CVD) やプラズマCVD (PECVD) は、1Dナノ材料や 2Dナノ材料の成長、ヘテロ接合の形成に適したツールです。PlasmaPro 100 N...


16

株式会社MPS

RFプラズマCVD装置

380人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

57.6時間 返答時間

■概要 RF (13.56MHz) を使用したプラズマCVD装置です。絶縁物でもDLCの成膜が可能です。


17

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

プラズマCVDシステム PlasmaPro 100 PECVD

380人以上が見ています

最新の閲覧: 18時間前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

23.1時間 返答時間

PlasmaPro 100 PECVD システムは、屈折率、応力、電気特性、ウェットケミカルエッチング速度などの膜特性を制御し、優れた均一性を持つ...


18

株式会社MPS

熱+プラズマCVD装置

370人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

100.0% 返答率

57.6時間 返答時間

■概要 窒化物を作るための実験装置です。原料は塩化物とアンモニアを使用します。成膜はハロゲンランプ加熱による熱CVDと誘導結合プラズ...


19

アリオス株式会社

プラズマCVD実験装置 PCVD-R100

360人以上が見ています

最新の閲覧: 19時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.4時間 返答時間

■概要 CVDとは、Chemical Vapor Deposition (化学蒸着装置) の略称で、ガスで原料を供給し、これをプラズマや熱などで分解し、その成分...


20

アルバック販売株式会社

枚葉式プラズマCVD装置 CMDシリーズ

350人以上が見ています

最新の閲覧: 18時間前

4.0 会社レビュー

100.0% 返答率

175.8時間 返答時間

■概要 CMDシリーズはSiH4やTEOSを用いたa-Si膜、シリコン酸化膜、窒化膜成膜用枚葉式CVD装置です。 ■用途 低温P-Si、α-Si TFT ■特長 ...


21

株式会社MPS

高圧パルスプラズマCVD装置

340人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

100.0% 返答率

57.6時間 返答時間

■概要 直流の高電圧パルス放電を利用したダイヤモンドライクカーボン用プラズマCVD装置です。原料ガスはメタンまたはアセチレンを選択で...


22

ジャパンクリエイト株式会社

独自のプラズマ制御方式 立体物用プラズマCVD装置

食品業界用 電子・電気機器業界用 自動車・輸送用機器業界用

330人以上が見ています

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

129.3時間 返答時間

■特徴 ・チャンバー容積 1m3 ・独自のプラズマ制御方式 ・多段式大量一括処理可能 ・高い汎用性を備えたシンプルな構造 ・様々な製品材...


23

株式会社MPS

マイクロ波CVD装置

300人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

100.0% 返答率

57.6時間 返答時間

■概要 モード変換型のマイクロ波CVD装置です。大学での実験装置としてご使用いただいております。


24

株式会社セルバック

プラズマCVD PEGASUS HDP-CVD

300人以上が見ています

最新の閲覧: 6時間前

PEGASUS HDP-CVDは、ICPの高密度プラズマの高いガス分解効率で、低温成膜と緻密な膜を作り上げます。2タイプのHDP-CVDは、BタイプとHタ...


25

北野精機株式会社

ホットワイヤー方式 ダイヤモンド合成装置

290人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

25.1時間 返答時間

■特徴 本装置は、タングステンフィラメントを使用したホットワイヤー型CVD装置で、プラズマ損傷の無い大面積と高純度薄膜成形の特徴を持...


26

株式会社マイクロフェーズ

横型CNT グラフェン合成装置 MPCVD-Graphene

290人以上が見ています

最新の閲覧: 16時間前

100.0% 返答率

87.8時間 返答時間

炭化水素ガス (CH4やC2H2) を用いたCVD法で触媒基板 (Ni、Cuなど) にグラフェン膜を成長するには、 基板の急冷が重要要素の一つと言われ...


27

XQ Instruments

大型基板用PECVD COPRA Linear Sources

280人以上が見ています

最新の閲覧: 5時間前

■特徴 ・パワーレベルに比例したイオンエネルギーの上昇が無い為、基板ダメージが少ない ・適用真空範囲が、1x10-4から1x10-1 mbarと...


28

アルバック販売株式会社

ロードロック式プラズマCVD装置 CC-200/400

270人以上が見ています

最新の閲覧: 19時間前

4.0 会社レビュー

100.0% 返答率

175.8時間 返答時間

■概要 ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。 ■用途 ・パワーデバ...


29

株式会社メディア研究所

プラズマ利用の表面改質装置 (真空) 電子部品用超薄膜装置 CD1000 Nanofics SE

電子・電気機器業界用

260人以上が見ています

最新の閲覧: 9時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

13.6時間 返答時間

■概要 携帯電話、イヤホーン、防水スピーカー、PCB等様々な用途で長期間持続可能な薄膜をコーティング可能 ■プラズマによる革新的なナ...


30

株式会社マイクロフェーズ

CVD装置 レーザーアシストCVD装置 MPCVD-Laser

260人以上が見ています

最新の閲覧: 13時間前

100.0% 返答率

87.8時間 返答時間

レーザー描画によるパターン成膜が可能 ■概要 ・市販のファイバーレーザー加工機の試料室に、反応性ガス (炭化水素ガスやアンモニアガ...


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