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プラズマCVD装置のメーカー14社一覧や企業ランキングを掲載中!プラズマCVD装置関連企業の2025年7月注目ランキングは1位:ジャパンクリエイト株式会社、2位:Applied Materials, Inc.、3位:サムコ株式会社となっています。 プラズマCVD装置の概要、用途、原理もチェック!
プラズマCVD装置とは、化学気相成長法の一種を行う装置です。
プラズマCVDはPlasma-Enhanced Chemical Vapor Depositionの略で、原料ガスを低温プラズマ状態 (陽イオンと電子に電離したグロー放電) にし、活性なイオンやラジカルを生成して基盤上で化学反応を起こし、堆積させて薄膜を形成します。
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2025年7月の注目ランキングベスト6
順位 | 会社名 | クリックシェア |
---|---|---|
1 | ジャパンクリエイト株式会社 |
46.7%
|
2 | Applied Materials, Inc. |
20.0%
|
3 | サムコ株式会社 |
13.3%
|
4 | 新明和工業株式会社 |
6.7%
|
5 | LAM RESEARCH CORPORATION |
6.7%
|
6 | SPPテクノロジーズ株式会社 |
6.7%
|
ジャパンクリエイト株式会社
680人以上が見ています
最新の閲覧: 17時間前
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
129.3時間 返答時間
当社が得意といたします、プラズマCVDプロセス技術を応用し、樹脂容器材質として一般的に普及しております「PETボトル」へのDLCコーティ...
株式会社魁半導体
540人以上が見ています
最新の閲覧: 5分前
4.0 会社レビュー
100.0% 返答率
48.8時間 返答時間
業界初、液体原料から直接成膜する安全なプラズマ CVD。 ■製品概要 ・魁半導体独自の「DH-CVD」技術を応用した薄膜形成装置 ・有機金属...
ハイソル株式会社
530人以上が見ています
最新の閲覧: 23時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.5時間 返答時間
プラズマ洗浄~ワーク脱水 (デハイドレーション) ~シランCVD~ガス排出までチャンバー内で自動一括処理できる、R&D向けの卓上型シランC...
神港精機株式会社
480人以上が見ています
100.0% 返答率
162.9時間 返答時間
600mm 基板に対応した大型プラズマCVD装置です。 緻密なシリコン酸化膜の形成が可能で薄膜キャパシタの作製に適しています。
ジャパンクリエイト株式会社
480人以上が見ています
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
129.3時間 返答時間
■特徴 ・2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現 ・優れた膜厚分布および再現性を実現 ・特殊表面処理によるメタルコ...
ジャパンクリエイト株式会社
480人以上が見ています
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
129.3時間 返答時間
当社が得意といたします、プラズマCVDプロセス技術を応用し、樹脂容器材質として一般的に普及しております「PETボトル」へのDLCコーティ...
アリオス株式会社
470人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
2.4時間 返答時間
■概要 本装置は、ダイヤモンド生産用のマイクロ波プラズマCVD装置です。当社独自のプラズマ技術を駆使し、大面積かつ高速成長を実現しま...
株式会社DINOVAC
470人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の早い企業
100.0% 返答率
9.8時間 返答時間
■用途・特徴 ・立体物に成膜可能な実験用プラズマCVD装置 ・対応可能膜種:DLC、アモルファスSiC等 ・基材加熱機構付き (最高設定温度...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
470人以上が見ています
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
23.1時間 返答時間
PlasmaPro 80は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易いオープンロー...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
450人以上が見ています
最新の閲覧: 18時間前
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100.0% 返答率
23.1時間 返答時間
PlasmaPro 800は、プラズマ励起化学気相堆積 (PECVD) プロセスの柔軟なソリューションを、大きなウェハバッチと300mmウェハにおいて、コ...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
420人以上が見ています
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5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
23.1時間 返答時間
■概要 PlasmaPro 80 リアクティブイオンエッチング (RIE) は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジショ...
神港精機株式会社
390人以上が見ています
最新の閲覧: 20時間前
100.0% 返答率
162.9時間 返答時間
真空チャンバーに導入したモノマーガスを高周波によりプラズマ化し、基板表面にポリマー膜を形成する装置です。 生体と接触する被膜の形...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
390人以上が見ています
最新の閲覧: 19時間前
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100.0% 返答率
23.1時間 返答時間
ICPCVD (誘導結合プラズマ) プロセスモジュールは、低温で高品質の薄膜を製造するように設計され、高密度リモートプラズマによりダメー...
神港精機株式会社
380人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
162.9時間 返答時間
真空チャンバーに導入したモノマーガスを高周波によりプラズマ化し、基板表面にポリマー膜を形成する装置です。 生体と接触する被膜の形...
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
380人以上が見ています
最新の閲覧: 22時間前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
23.1時間 返答時間
化学気相堆積 (CVD) やプラズマCVD (PECVD) は、1Dナノ材料や 2Dナノ材料の成長、ヘテロ接合の形成に適したツールです。PlasmaPro 100 N...
株式会社MPS
380人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
57.6時間 返答時間
■概要 RF (13.56MHz) を使用したプラズマCVD装置です。絶縁物でもDLCの成膜が可能です。
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
380人以上が見ています
最新の閲覧: 18時間前
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5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
23.1時間 返答時間
PlasmaPro 100 PECVD システムは、屈折率、応力、電気特性、ウェットケミカルエッチング速度などの膜特性を制御し、優れた均一性を持つ...
株式会社MPS
370人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
100.0% 返答率
57.6時間 返答時間
■概要 窒化物を作るための実験装置です。原料は塩化物とアンモニアを使用します。成膜はハロゲンランプ加熱による熱CVDと誘導結合プラズ...
アリオス株式会社
360人以上が見ています
最新の閲覧: 19時間前
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100.0% 返答率
2.4時間 返答時間
■概要 CVDとは、Chemical Vapor Deposition (化学蒸着装置) の略称で、ガスで原料を供給し、これをプラズマや熱などで分解し、その成分...
アルバック販売株式会社
350人以上が見ています
最新の閲覧: 18時間前
4.0 会社レビュー
100.0% 返答率
175.8時間 返答時間
■概要 CMDシリーズはSiH4やTEOSを用いたa-Si膜、シリコン酸化膜、窒化膜成膜用枚葉式CVD装置です。 ■用途 低温P-Si、α-Si TFT ■特長 ...
株式会社MPS
340人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
100.0% 返答率
57.6時間 返答時間
■概要 直流の高電圧パルス放電を利用したダイヤモンドライクカーボン用プラズマCVD装置です。原料ガスはメタンまたはアセチレンを選択で...
ジャパンクリエイト株式会社
330人以上が見ています
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
129.3時間 返答時間
■特徴 ・チャンバー容積 1m3 ・独自のプラズマ制御方式 ・多段式大量一括処理可能 ・高い汎用性を備えたシンプルな構造 ・様々な製品材...
株式会社MPS
300人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
100.0% 返答率
57.6時間 返答時間
■概要 モード変換型のマイクロ波CVD装置です。大学での実験装置としてご使用いただいております。
株式会社セルバック
300人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
PEGASUS HDP-CVDは、ICPの高密度プラズマの高いガス分解効率で、低温成膜と緻密な膜を作り上げます。2タイプのHDP-CVDは、BタイプとHタ...
北野精機株式会社
290人以上が見ています
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25.1時間 返答時間
■特徴 本装置は、タングステンフィラメントを使用したホットワイヤー型CVD装置で、プラズマ損傷の無い大面積と高純度薄膜成形の特徴を持...
株式会社マイクロフェーズ
290人以上が見ています
最新の閲覧: 16時間前
100.0% 返答率
87.8時間 返答時間
炭化水素ガス (CH4やC2H2) を用いたCVD法で触媒基板 (Ni、Cuなど) にグラフェン膜を成長するには、 基板の急冷が重要要素の一つと言われ...
XQ Instruments
280人以上が見ています
最新の閲覧: 5時間前
■特徴 ・パワーレベルに比例したイオンエネルギーの上昇が無い為、基板ダメージが少ない ・適用真空範囲が、1x10-4から1x10-1 mbarと...
アルバック販売株式会社
270人以上が見ています
最新の閲覧: 19時間前
4.0 会社レビュー
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175.8時間 返答時間
■概要 ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。 ■用途 ・パワーデバ...
株式会社メディア研究所
260人以上が見ています
最新の閲覧: 9時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
13.6時間 返答時間
■概要 携帯電話、イヤホーン、防水スピーカー、PCB等様々な用途で長期間持続可能な薄膜をコーティング可能 ■プラズマによる革新的なナ...
株式会社マイクロフェーズ
260人以上が見ています
最新の閲覧: 13時間前
100.0% 返答率
87.8時間 返答時間
レーザー描画によるパターン成膜が可能 ■概要 ・市販のファイバーレーザー加工機の試料室に、反応性ガス (炭化水素ガスやアンモニアガ...
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