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ALD装置 メーカー12社

ALD装置のメーカー12社一覧企業ランキングを掲載中!ALD装置関連企業の2025年4月注目ランキングは1位:株式会社昭和真空、2位:サムコ株式会社、3位:株式会社オプトランとなっています。 ALD装置の概要、用途、原理もチェック!

12ALD装置メーカー

ALD装置 2025年4月のメーカーランキング


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57 点の製品がみつかりました

57 点の製品

1

神港精機株式会社

薄膜形成装置 研究開発用スパッタリング装置

1810人以上が見ています

最新の閲覧: 14時間前

実験や基礎研究に最適なコンパクトなハード構成です。ローコストで信頼性の高いハードを提供いたします。 ロードロックタイプ装置仕様 ...

6種類の品番

SRV3100-薄膜形成装置 研究開発用スパッタリング装置
SRV3300-薄膜形成装置 研究開発用スパッタリング装置
SRV4320-薄膜形成装置 研究開発用スパッタリング装置

2

神港精機株式会社

薄膜形成装置 マルチチャンバスパッタリング装置

1770人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

Siウェハ・ガラス・セラミックス等基板・用途を問わず柔軟に対応可能な最新型スパッタリング装置です。 1991年に発表されたR&D用マルチ...

3種類の品番

STM4415-薄膜形成装置 マルチチャンバスパッタリング装置

3

神港精機株式会社

薄膜形成装置 ロードロックスパッタリング装置

1030人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

省スペースを実現したロードロック式スパッタリング装置です。 カセット室に最大Φ270のトレーが、標準で12枚セット可能で、連続スパッタ...

3種類の品番

STL5321-薄膜形成装置 ロードロックスパッタリング装置

4

神港精機株式会社

薄膜形成装置 標準型蒸着装置

720人以上が見ています

最新の閲覧: 20時間前

個別半導体・化合物半導体の生産工程で豊富な実績を誇るベストセラータイプです。 豊富なオプションと高い信頼性が量産現場で実力発揮し...

4種類の品番

AAMF-C2280SPB-薄膜形成装置 標準型蒸着装置

5

ナノテック株式会社

DLC成膜装置<NANOCOATシリーズ>

710人以上が見ています

最新の閲覧: 7時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

ダイヤモンドの性質に近い高硬度 (マイクロビッカース硬度2,000~4, 000) 、低摩擦係数 (μ=0.2以下) 、表面平滑性及び耐溶着性・離...

3種類の品番

NANOCOAT-500-DLC成膜装置<NANOCOATシリーズ>
NANOCOAT-800-DLC成膜装置<NANOCOATシリーズ>
NANOCOAT-1000-DLC成膜装置<NANOCOATシリーズ>

6

神港精機株式会社

薄膜形成装置 バッチスパッタリング装置

690人以上が見ています

最新の閲覧: 8時間前

各種電子デバイスや高機能材料のR&Dから量産に最適なバッチタイプのスパッタリング装置のラインアップです。 小径カソードにより大面積...

3種類の品番

SRV4310-薄膜形成装置 バッチスパッタリング装置

7

ナノテック株式会社

ICF成膜装置

640人以上が見ています

最新の閲覧: 6時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

DLCを含む高機能性を持つカーボン膜による超鏡面性,導電性,耐熱性,撥水性,アルミニウム合金用,光学用,絶縁性,環境調和型を付与したコー...

3種類の品番

ICF-500-ICF成膜装置
ICF-800-ICF成膜装置
ICF-1000-ICF成膜装置

8

ナノテック株式会社

PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>

630人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

イオン化蒸着法によるDLC成膜を基本として、幅広いアプリケーションに対応すべく新開発のPSII電源を標準で搭載し、その放電パラーメータ...

3種類の品番

NPS-500-PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>
NPS-800-PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>
NPS-1000-PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>

9

ナノテック株式会社

マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>

610人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

低摩擦係数で高硬度を持つダイヤモンド・ライク・カーボン (DLC) 膜の生成をベースに各種蒸発源を併用することによりDLC膜の密着力の...

3種類の品番

DASH-500-マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>
DASH-800-マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>
DASH-1000-マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>

10

神港精機株式会社

薄膜形成装置 超高真空スパッタリング装置

610人以上が見ています

最新の閲覧: 11時間前

スパッタ室にて 10⁻⁷Pa のバックグランドの排気性能を持つ超高真空対応の牧葉式スパッタリング装置です。 ロードロック室・カセット室...


11

神港精機株式会社

薄膜形成装置 インラインスパッタリング装置

570人以上が見ています

最新の閲覧: 23時間前

ガラス基板を対象とした通過成膜型インラインタイプのスパッタリング装置です。 矩形カソードを多元で装備しておりプロセスや生産数に...


12

神港精機株式会社

薄膜形成装置 リフトオフプロセス対応蒸着装置

540人以上が見ています

最新の閲覧: 20時間前

用途が拡大しているリフトオフプロセスに対応した専用蒸着装置です。 高い蒸発粒子の垂直性と基板水冷機構の採用によりレジストの保護と...

2種類の品番

AAMF-C1650SBR-薄膜形成装置 リフトオフプロセス対応蒸着装置

13

株式会社魁半導体

真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD

450人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

100.0% 返答率

61.2時間 返答時間

業界初、液体原料から直接成膜する安全なプラズマ CVD。 ■製品概要 ・魁半導体独自の「DH-CVD」技術を応用した薄膜形成装置 ・有機金属...


14

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

プリカーサー・プロセスガス・ハードウェア構成に高い柔軟性 FlexAL ALD原子層堆積システム

430人以上が見ています

最新の閲覧: 8時間前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

26.1時間 返答時間

FlexAL ALD (原子層堆積) システムは、最適化された高品質のプラズマALDおよび熱ALDプロセスを幅広く提供し、一つのプロセスチャンバー...


15

神港精機株式会社

薄膜形成装置 プラズマCVD装置

390人以上が見ています

最新の閲覧: 20時間前

600mm 基板に対応した大型プラズマCVD装置です。 緻密なシリコン酸化膜の形成が可能で薄膜キャパシタの作製に適しています。


16

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

高速なリモートプラズマALD装置 AtomfabALD原子堆積システム

390人以上が見ています

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

26.1時間 返答時間

Atomfabにより、GaNパワー/RFデバイス向けの高速、低ダメージ、低所有コスト製造に対応したプラズマALDプロセスが実現します。Atomfabは...


17

神港精機株式会社

薄膜形成装置 巻取式スパッタリング装置

380人以上が見ています

最新の閲覧: 20時間前

樹脂のみならず金属箔の連続巻取り処理を実現したRtoRタイプ最新成膜装置です。 カソード・プラズマ処理電極・加熱機構など各機構をユ...


18

株式会社DINOVAC

立体物に成膜可能 立体物対応実験用プラズマCVD装置

370人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

18.1時間 返答時間

■用途・特徴 ・立体物に成膜可能な実験用プラズマCVD装置 ・対応可能膜種:DLC、アモルファスSiC等 ・基材加熱機構付き (最高設定温度...


19

神港精機株式会社

薄膜形成装置 バッチ式 プラズマ重合装置

320人以上が見ています

最新の閲覧: 9時間前

真空チャンバーに導入したモノマーガスを高周波によりプラズマ化し、基板表面にポリマー膜を形成する装置です。 生体と接触する被膜の形...


20

三弘エマテック株式会社

光学薄膜用蒸着装置 SGC-S1700シリーズ

320人以上が見ています

最新の閲覧: 5時間前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

30.2時間 返答時間

■製品説明 高コストパフォーマンスのARコート専用のスタンダードマシンとなります。樹脂レンズへの成膜に最適です。RFイオンソース、光...


21

神港精機株式会社

薄膜形成装置 ロードロック式 プラズマ重合装置

300人以上が見ています

最新の閲覧: 18時間前

真空チャンバーに導入したモノマーガスを高周波によりプラズマ化し、基板表面にポリマー膜を形成する装置です。 生体と接触する被膜の形...


22

北野精機株式会社

薄膜作製装置 マグネトロン・スパッタリング蒸着装置

240人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

19.4時間 返答時間

■特徴 本装置はDCマグネトロンスパッタ源を用いたブレーナー型マグネトロンスパッタリング超高真空薄膜作製装置です。均一な成膜が可能...


23

北野精機株式会社

薄膜作製装置 PVD装置 ハイブリッド蒸着装置

220人以上が見ています

最新の閲覧: 8時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

19.4時間 返答時間

■特徴 本装置はPVD手法からなるマグネトロンスパッタ源4個とEB蒸着源2個とMBE用K-CELL装備したハイブリッド型蒸着装置です。高融点材料...


24

北野精機株式会社

薄膜作製装置 4元マグネトロンスパッタリング装置

210人以上が見ています

最新の閲覧: 8時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

19.4時間 返答時間

本装置はDCマグネトロンスパッタ源を用いたブレーナー型マグネトロンスパッタリング装置です。弊社独自のロードロック室を設けた、超高...


25

三弘エマテック株式会社

原子層堆積装置 ALDシリーズ

190人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

30.2時間 返答時間

ALD (Atomic Layer Deposition) とは原子層堆積法という単原子層を1サイクルで成膜する手法で、サイクルを操り返すことにより薄膜を形成...


26

北野精機株式会社

薄膜作製装置 電子ビーム蒸着装置 大型EB蒸着装置

190人以上が見ています

最新の閲覧: 8時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

19.4時間 返答時間

■特徴 本装置は電子ビーム (EB) を用いた高融点金属蒸着装置です。本装置には高い材料使用効率と高い膜特性を実現するために自転・公転...


27

株式会社北海光電子

Atomic Layer Deposition (原子層堆積)

150人以上が見ています

■製品概要 真空チャンバー内容基板上に、次のサイクルを繰り返し行うことにより、原子層を一層ずつ積み上げます。 ・ヒートコントロー...


28

株式会社メディア研究所

太陽電池用PVD成膜装置 GENERIS PVD

130人以上が見ています

最新の閲覧: 23時間前

■概要 数多くの真空スパッタリング装置が太陽電池製造産業で稼働しており、SINGULUSTECHNOLOGIES社は 水平基板輸送を備えたハイスループ...


29

日本高周波株式会社

ダイヤモンド成膜装置

130人以上が見ています

最新の閲覧: 14時間前

高出力 (最大5kW) のマイクロ波電源および自動整合器 (4Eチューナ) により、安定な高密度プラズマを発生させ、高品質ダイヤモンドを高速...


30

プレマテック株式会社

フラットパネルディスプレイ製造関連装置 フレキソ印刷装置 高精度薄膜形成装置

120人以上が見ています

PI配向膜、絶縁膜、接着剤などをフレキソ印刷技術を用いて塗布する高精度薄膜形成装置


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