半導体製造

装置の構成上、蒸発源を横置きしたい場合に適しています。

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• クヌーセンセル

レーザー直描露光装置Dilase250は、Dilaseシリーズのエントリーモデルとして開発されたコンパクトな卓上型レーザー直描露光装置です。375nmまたは405nmのUVレ...

3種類の品番

• 半導体製造

• 半導体露光装置

半導体用フォトマスクの白黒欠陥を高精度で修正する装置です。 ■特長 ・高精度で多彩な白黒欠陥修正が可能。 ・独自開発の光学系を使用。アパーチャビームに...

3種類の品番

• 半導体製造

• 半導体製造装置

■概要 ・抵抗加熱式の蒸着装置となっており、高真空領域で単結晶膜を作製することができます。 ・基板上に平滑な金の (111) 面を形成することができる為、原...

3種類の品番

• 半導体製造

• 半導体製造装置

■PSX307は自動搬送付きの基板用平行平板型プラズマクリーナーです。ローダー・アンローダー付きとインライン仕様を選択でき、基板寸法により下記2種類のモデ...

3種類の品番

• 半導体製造

• 半導体製造装置

■概要 100×150mmまでのポジ感光基板にパターンをムラなく露光できます。電源効率の良いインバータ方式を採用し、消費電力が少なくなりました。付属のクランプ...

• 半導体製造

• 露光装置

SHシリーズは、窒化物半導体用として特別に開発された横型ステンレス製リアクタを採用しています。シミュレーション技術により設計された内部石英フローチャ...

2種類の品番

• 半導体製造

• 成膜装置

MOCVD装置CM-8000は上部はガスシャワーになっており、RFプラズマを印加する事ができます。また下部は800℃に加熱しながら回転できる基板ホルダーが取り付けら...

• 半導体製造

• CVD装置

研究／開発／生産用途に最適な高機能モデル卓上式小型CMP装置から大型CMP装置まで用意しております。 又、卓上式小型CMP装置は中型・大型CMP装置同様の加工要...

2種類の品番

• 半導体製造

• 研磨機

後付けでプラズマユニットオプション搭載ができるサーマル式卓上ALD装置。 ■特長 ・小型でコンパクトな卓上タイプのALD装置です。プラズマユニットを装備、...

• 半導体製造

• ALD装置

RF-110MK2は手動式遠赤外線リフローはんだ付け装置 (リフロー炉) です。200×200mmまでのプリント基板を両面リフローはんだ付けできます。少量多品種SMT基板の...

3種類の品番

• 半導体製造

• はんだ付け装置

■特徴 ・上下熱風＋遠赤外線を併用した加熱方式 ・N2使用量を大幅に削減して酸素濃度を安定させる省エネモデル ・設定温度350℃標準対応 (特殊仕様にて400℃対...

2種類の品番

• 半導体製造

• リフロー装置

■特徴 ・はんだボイドを大幅に削減 ・量産に最適な連続投入インライン搬送 ・上下熱風循環加熱方式 ・環境にやさしい超低消費電力、高断熱仕様 (約40%省エネ)...

3種類の品番

• 半導体製造

• はんだ付け装置

■特徴 ・精細で高品質な加熱性能 ・低消費電力 (従来機の40%減) ・大容量、高効率フラックス回収 ・作業環境に配慮した断熱設計

3種類の品番

• 半導体製造

• はんだ付け装置

■ディップスピンコーターの販売・施工において、35年以上の豊富な実績があります。 日々、自社工場でディップスピン塗装をすることで培ったノウハウを、コー...

2種類の品番

• 半導体製造

• スピンコータ