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半導体製造に含まれる34カテゴリ一覧です。半導体露光装置・半導体製造装置・露光装置など幅広く、製品・メーカー・代理店を探すことができます。
1,338 点の製品中 73ページ目
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株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ
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特長 ■高生産性 長年にわたるスピンスクラバ技術を踏襲しながら、機能性をさらに向上。最大毎時160枚 (弊社現行機比111%) ※の高速処理を可能にしました。※シ...
2種類の品番
ティックコーポレーション株式会社
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返信の比較的早い企業
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■メガソニック浸水型トランスデューサー 周波数が400kHz/600kHz/1MHz/2MHzのメガソニック浸水型トランスデューサーです。ステンレス製又はプラスチック製の密...
3種類の品番
共立電子産業株式会社
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最新の閲覧: 19時間前
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48.4時間 返答時間
■概要 ポジ型フォトレジスト (感光剤) で、耐酸性に優れ高解像度が得られプリント基板の製造などに適しています。容量:500mL、ガラス瓶入。保存期間:未開封...
株式会社エピクエスト
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導入された各種ガス原料を、蒸発・昇華させて分子線を発生させます。
ビーム株式会社
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最新の閲覧: 19時間前
高機能ミドルモデル Dilase650は、Dilaseシリーズのミドルモデルとして開発されたコンパクトなレーザー直描露光装置です。375nmまたは405nmのUVレーザーを搭...
3種類の品番
株式会社ゼビオス
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各種ウエハサイズ・材質に対応した両面スクラブ洗浄と薬液処理を兼用した装置 ■【装置概要】 濾過水、純水を媒体として鏡面研磨、粗研磨、洗浄等を行う研磨...
ミヤ通信工業株式会社
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■概要 半導体ウェーハプロセスにおいてウェーハ上に回路を作るマスクとして使用するフォトレジストを剥離する装置です。用途に合わせてお選びいただけます。...
2種類の品番
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・斜入射レイアウトのカソードを備えたスパッタ成膜装置です。 ・最大3式のカソードを構成することができ、試料交換室、トランスファーロッドを増設す...
3種類の品番
旭製版工業株式会社
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特徴 ■固形樹脂水現像製版システム 各種水現像紫外線硬化樹脂に対応します。固形樹脂LED製版システム、蛍光灯 (ケミカルランプ) 製版システム 固形樹脂LED製...
株式会社サンバック
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返信のとても早い企業
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マイクロ波CVD装置SDM-2はマイクロ波CVDによるダイヤモンド薄膜の試験製造装置。シリコンウエハ上に直径10mm程度、厚み10μ以上のダイヤモンド膜を成膜できます。
株式会社オプトラン
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最新の閲覧: 4時間前
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ALDER-800Pはプラスチック基板への光学多層成膜を可能としたプラズマALD装置です。 ■特長 ・レンズ全周や3D構造物へのコンフォーマル成膜 ・Al2O3、TiO2、Si...
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株式会社日本パルス技術研究所
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76.6時間 返答時間
RF-430は遠赤外線と熱対流を基本加熱にした、窒素 (N2) 対応の小型リフローはんだ付け装置 (リフロー炉) です。卓上の小型リフロー装置ながら、N2対応機種は...
3種類の品番
アントム株式会社
180人以上が見ています
■特徴 ・上部熱風+遠赤外線と下部遠赤外線を併用した加熱方式 ・加熱5ゾーン構成で1.5m以下のコンパクトモデル ・リフロー用途はもちろん、スクリーニングや...
2種類の品番
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