半導体製造

■概要 ・超伝導薄膜、金属薄膜、誘電体薄膜を自由な組み合わせで連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜法を活かした高品質・高機能な多層膜の作製を可...

3種類の品番

• 半導体製造

• 半導体製造装置

PSX307Aは自動搬送付きの基板用平行平板型プラズマクリーナーです。ローダー・アンローダー付きとインライン仕様を選択でき、ウエハ仕様は最大φ300mmウエハ (...

3種類の品番

• 半導体製造

• 半導体製造装置

特徴 ■固形樹脂水現像製版システム 各種水現像紫外線硬化樹脂に対応します。固形樹脂LED製版システム、蛍光灯 (ケミカルランプ) 製版システム 固形樹脂LED製...

• 半導体製造

• 露光装置

2種類の品番

• 半導体製造

• 成膜装置

レーザーCVD装置CL-12000は高出力エキシマレーザーを使って、ヒーターの埋め込まれた100mm角の基板ホルダー上に成膜するレーザーCVD装置です。基板は、X-Yに...

• 半導体製造

• CVD装置

■複雑な形状の基板への成膜に最適 ALD (AtomicLayerDeposition) 法は従来のCVD,PVDに比べ「ピンホールフリー」、「段差被覆性」、「精密な膜厚制御性」、「膜...

• 半導体製造

• ALD装置

RF-110N2MK2は手動式遠赤外線リフローはんだ付け装置 (リフロー炉) です。200×200mmまでのプリント基板を両面リフローはんだ付けできます。少量多品種SMT基板...

3種類の品番

• 半導体製造

• はんだ付け装置

■特徴 ・上下熱風＋遠赤外線を併用した加熱方式 ・加熱6ゾーン＋冷却1ゾーン構成で1.6mのコンパクトタイプ ・設定温度350℃標準対応 (特殊仕様にて400℃対応可)...

2種類の品番

• 半導体製造

• リフロー装置

■特徴 ・はんだボイドを大幅に削減 ・量産に最適な連続投入インライン搬送 ・上下熱風循環加熱方式 ・環境にやさしい超低消費電力、高断熱仕様 (約40%省エネ)...

3種類の品番

• 半導体製造

• はんだ付け装置

■特徴 ・精細で高品質な加熱性能 ・低消費電力 (従来機の40%減) ・大容量、高効率フラックス回収 ・作業環境に配慮した断熱設計

3種類の品番

• 半導体製造

• はんだ付け装置

■概要 低温ポリシリコン薄膜トランジスタに代表される高精細ディスプレイ駆動用薄膜トランジスタ製造における電気特性制御プロセスに不可欠なイオン注入装置...

• 半導体製造

• イオン注入装置

各ワイヤーの長さを揃え、配線長を短くするためにセカンドパッドを放射線状にしました。

• 半導体製造

• ボンディングワイヤ

• 半導体製造

• 半導体材料

■特性 ガリウムのリン化ガリウム (ギャップ) は、室温で2.24eVの間接バンドギャップを有する化合物半導体材料である。不純な多結晶材料は、淡いオレンジまた...

• 半導体製造

• 半導体材料

■概要 IT関連部品を構成する電子部品の所定の電機特性を検査し、良品をテーピングし、不良品はランク分類される検査機テーピング機。

• 半導体製造

• 半導体検査装置