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X線分析装置のメーカー18社一覧や企業ランキングを掲載中！X線分析装置関連企業の2025年7月注目ランキングは1位:日本電子株式会社、2位:株式会社エビデント、3位:株式会社日立ハイテクサイエンスとなっています。 X線分析装置の概要、用途、原理もチェック！
X線分析装置とは、対象物にX線を照射した際の蛍光X線スペクトルによって元素の含有量を解析する装置のことです。
粉末状の試料だけでなく、固体や液体でも測定が可能で、試料を破壊することなく短時間で調べることができるため、物質の組成分析方法として幅広く活用されています。 X線分析装置は、粉末試料の成分分析や結晶構造解析など、様々な分野で利用されています。
X線分析装置は、物質の定性分析（どのような元素が含まれているか）や定量分析（各元素がどのくらいの割合で含まれているか）に利用されており、信頼性が高い検査装置です。
2025年7月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | 日本電子株式会社 |
13.9%
|
| 2 | 株式会社エビデント |
12.7%
|
| 3 | 株式会社日立ハイテクサイエンス |
11.4%
|
| 4 | 株式会社島津製作所 |
11.4%
|
| 5 | スペクトリス株式会社 マルバーン・パナリティカル 事業部 |
10.1%
|
| 6 | フォス･ジャパン株式会社 |
7.6%
|
| 7 | 竹田理化工業株式会社 |
7.6%
|
| 8 | 株式会社アールエフ |
6.3%
|
| 9 | 株式会社鈴峯 |
5.1%
|
| 10 | 川重テクノロジー株式会社 |
3.8%
|
54 点の製品がみつかりました
54 点の製品
TANIDA株式会社
650人以上が見ています
最新の閲覧: 5時間前
100.0% 返答率
72.7時間 返答時間
大型のワーク検査にも最適な最新のデジタルフラットパネルディテクタFPDとY.HDR-inspect テクノロジーにより、材料に薄い部分と厚い部分...
スペクトリス株式会社 マルバーン・パナリティカル 事業部
1080人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
36.5時間 返答時間
ハイエンド波長分散蛍光X線分析装置 蛍光X線分析装置 (XRF) は、固体、液体、粉末など、さまざまな物質の元素を分析する事が可能です...
株式会社アントンパール・ジャパン
580人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
4.0 会社レビュー
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68.0時間 返答時間
■あらゆるナノ構造分析に対応する最上位の分解能 ・SAXSpoint 5.0は、コンパクトなシステムに収められた最上位の分解能とシンクロトロン...
株式会社近畿レントゲン工業社
1880人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
返信の早い企業
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7.2時間 返答時間
■安全です 塩害防止のための防錆ステンレス、さらに鉛、含鉛シートを充分使った安全構造です。うっかりミスを防ぐX線遮断回路を組込みま...
2種類の品番
株式会社近畿レントゲン工業社
1040人以上が見ています
最新の閲覧: 12時間前
返信の早い企業
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7.2時間 返答時間
様々な用途に使用できる汎用型X線発生装置 ■納入実績7,000台以上 食品や衣料品の異物検査用としてすでに7,000台以上の納入実績がござい...
アメテック スペクトロ事業部
930人以上が見ています
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156.3時間 返答時間
新型SPECTROCUBE ED-XRF分析装置は、さまざまなアプリケーションに対して、簡単で信頼性が高く、正確で、高スループットな分析を提供し...
株式会社東京インスツルメンツ
220人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
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29.8時間 返答時間
■特長 ・試料環境を低真空～高真空まで制御 ・固体から溶液、バイオ試料も測定可能 ・大型試料測定：最大Φ60 mm、高さ40 mm ・試料環境...
日本電子株式会社
990人以上が見ています
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37.8時間 返答時間
JSX-1000Sは、タッチパネルを採用した簡単に元素分析ができる蛍光X線分析装置です。一般的な定性定量分析 (FP法・検量線法) や、RoHS元...
フォス･ジャパン株式会社
40人以上が見ています
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100.0% 返答率
67.6時間 返答時間
製造、工程管理において求められる情報を必要なタイミングで得るという課題に対し、X線やNIR技術を用いたフォスのインライン装置が解決...
フォス･ジャパン株式会社
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67.6時間 返答時間
製造、工程管理において求められる情報を必要なタイミングで得るという課題に対し、X線やNIR技術を用いたフォスのインライン装置が解決...
フォス･ジャパン株式会社
50人以上が見ています
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67.6時間 返答時間
製造、工程管理において求められる情報を必要なタイミングで得るという課題に対し、X線やNIR技術を用いたフォスのインライン装置が解決...
株式会社菱光社
790人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
4.7 会社レビュー
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23.9時間 返答時間
■概要 300mmまでのウエハに対応した全反射蛍光X線装置。半導体ウエハ等の金属汚染を評価する装置です。 ■特長 測定元素Na～Uまでを対象...
日本アレックス株式会社
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返信の比較的早い企業
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25.3時間 返答時間
製品について ■カドミウムを高感度測定する専用装置。108検体の連続測定が可能。 食品・環境・土壌中の放射性セシウム測定装置で、前処...
日本アレックス株式会社
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返信の比較的早い企業
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25.3時間 返答時間
製品について ■測定元素に応じた最適な結晶分光システムを搭載 軽・中・重元素管理用高精度蛍光X線分析装置二種類のX線管を用い、測定元...
日本アレックス株式会社
60人以上が見ています
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.3時間 返答時間
製品について ■測定元素に応じた最適な結晶分光システムを搭載 新型ハイブリッド光学系を搭載し、高感度測定や軽元素分析に適しているだ...
日本アレックス株式会社
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返信の比較的早い企業
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製品について ■シンプルなデザイン、汎用機でありながら多用途対応 RoHS/ELVなどの環境規制物質測定や塩素測定のほか、微小部測定も可能...
日本アレックス株式会社
100人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
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25.3時間 返答時間
製品について ■軽元素 (13Al) から重元素 (92U) までの高感度測定を簡単操作で 各種環境規制物質測定や高感度測定、軽元素分析にも適し...
株式会社日立ハイテクサイエンス
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123.8時間 返答時間
RoHS対応をはじめ、スラグ、セメントなどの工程管理や品質管理、また、混入異物や異常部などの故障解析や調査分析など、多岐にわたるア...
株式会社リガク
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115.0時間 返答時間
■薄膜評価用蛍光X線分析装置 半導体材料として重要なB、C、N、Oを含む、Be～Uまでの全元素を1台でカバー ■波長分散型蛍光X線分析 (WDX)...
株式会社リガク
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115.0時間 返答時間
■各種薄膜の膜厚と組成を、同時に、非破壊、非接触で分析 ～200mmサイズまでのウェーハ上の各種薄膜の膜厚と組成を、同時に、非破壊、非...
株式会社リガク
90人以上が見ています
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115.0時間 返答時間
■300mm、200mmウェーハ上の各種薄膜の膜厚・組成を、同時に非破壊、非接触で分析可能な波長分散型蛍光X線分析装置 (WD-XRF) GEM300に対...
株式会社リガク
10人以上が見ています
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115.0時間 返答時間
■ハイブリッドXRFおよび光計測FABツール 300mm、200mmウェーハ上の各種薄膜の膜厚・組成を、同時に非破壊、非接触で分析可能なエネルギ...
株式会社リガク
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115.0時間 返答時間
■X線膜厚・密度測定装置XHEMISEX-2000 蛍光X線 (XRF) およびX線反射率 (XRR) による非接触、非破壊な膜厚・密度測定装置 ■XRR新光学系...
株式会社リガク
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115.0時間 返答時間
■XRR、EDXRF、およびXRD計測ツール 組成および膜厚 (EDXRF) 、膜厚、密度、および粗さ (XRR) について、未パターン化およびパターン化さ...
株式会社リガク
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115.0時間 返答時間
■パターンウェーハ対応の蛍光X線 (XRF) 、X線反射率 (XRR) およびX線回折 (XRD) によるインライン膜厚・密度モニター リガクのXTRAIAMF-...
株式会社リガク
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115.0時間 返答時間
■ロータ型高出力X線発生装置と新設計入射X線モノクロメーターを採用 ダイレクトTXRF測定法で遷移金属LLD10^8atoms/cm2レベルを実現。封...
株式会社リガク
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115.0時間 返答時間
■ロータ型高出力X線発生装置と新設計入射X線モノクロメータを採用 ダイレクトTXRF測定法で遷移金属LLD10^8atoms/cm2レベルを実現。封入...
株式会社リガク
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■ロータ型高出力X線発生装置と新設計入射X線モノクロメータを採用 ダイレクトTXRF測定法で遷移金属LLD10^8atoms/cm2レベルを実現。封入...
株式会社リガク
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115.0時間 返答時間
■TXRFスペクトロメーター ・超高速金属汚染マッピング ・300mmウェーハまで対応
株式会社リガク
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■VPD内蔵TXRFスペクトロメーター ・超高速金属汚染マッピング ・VPDによる最高感度 ・300mmウェーハまで対応
株式会社リガク
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115.0時間 返答時間
■インラインHRXRD/XRR計測ツール ブランケットおよびパターン化されたウェーハのための高分解能XRDエピタキシャル膜特性評価。XTRAIAXD-...
株式会社リガク
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■インラインHRXRD/XRR計測ツール ブランケットおよびパターン化されたウェーハのための高分解能XRDエピタキシャル膜特性評価。XTRAIAXD-...
株式会社リガク
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■300mmウェーハのフルマッピング用X線回折 (XRD) システム TFXRD-300は、大口径ウェーハ上の薄膜の測定を目的とした専用のXRDツールであ...
株式会社リガク
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■最大200mmウェーハのフルマッピング用X線回折 (XRD) システム TFXRD-200は、大口径ウェーハ上の薄膜の測定を目的とした専用のXRDツール...
株式会社リガク
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■非破壊で転位などの結晶欠陥、表面への貫通転位やエピタキシャル層の欠陥などを検出 新しい高輝度微小X線光源とそれに合わせた特殊X線...
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ウェーハの主面の切断角度、OF・ノッチ位置を自動で測定する装置です。 ■特長 ・真空チャック方式で試料を保持します。0°,90°,180°,270...
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■単結晶材料の切り出し方位を、ワイヤソーその他の切断機に正確に伝えます Si、Ge、GaAs、SiC、水晶、LN、LT、サファイヤ、ルチル、蛍石...
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■透過X線CD計測ツール ・TSAXSは、CD測定のためのインライン小角X線散乱法です。 ・最大300mmウェーハまで対応 ・最先端のデバイスマイ...
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■斜入射X線CD計測ツール ・GISAXSによるCD測定、X線反射率 (XRR) 測定による膜厚、密度、および粗さの測定などが可能です。 ・300mmウェ...
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■低分子・生体高分子構造解析のための高速単結晶X線回折装置 XtaLABSynergy-Sは、低分子、生体高分子の区別なく、使用する方の目的達成...
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■単結晶X線回折分析のための強力で高速なシステム XtaLABSynergy-Rは、XtaLABSynergyシリーズのマイクロフォーカス回転対陰極型X線線源...
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■波長の異なる線源を1台のシステムに搭載したXtaLABSynergyシリーズの最上位機種 2波長線源を搭載した単結晶X線構造解析装置は、無機物...
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■低分子試料の構造解析のための単結晶X線回折装置 XtaLABSynergy-iは、リガク独自の高精度κゴニオメーターとHPC (ハイブリッドフォトン...
株式会社リガク
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■装置が最適条件を教えてくれるガイダンス機能を搭載した多目的X線回折装置 SmartLabは、幅広い分析手法や各種材料に最適な測定テクニッ...
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■リガクの分析ノウハウを凝縮した「ガイダンス」機能を搭載し、究極の自動化を実現 経験がなくてもさまざまな粉末X線回折測定ができる。...
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ルーチン分析に安心してお使いいただける上面照射タイプの走査型蛍光X線分析装置です。測定・解析をサポートする“ZSXGuidance”を備え、...
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上面照射方式を採用し、生産管理分析に威力を発揮できる走査型蛍光X線分析装置 ■上面照射方式 試料の上方からX線を照射する方式のため...
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■アプリケーションの共有化が容易 上面照射タイプZSXPrimusIVと下面照射タイプZSXPrimusIViとのハード・ソフトウェアの共通プラットフォ...
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■ハイスループット、高精度分析 高速試料搬送システムと高速データ処理、強力かつ安定なX線により、走査型装置と比べて高精度かつ短時間...
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■多彩なアダプターにより、様々な形状の試料や、多試料の測定にも対応できる蛍光X線分析装置 大径試料 (φ400mm×50mm) をそのまま測定で...
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■2方向同時照射2画面表示機能 ラインセンサーを2つ搭載し、1回の検査で0°と25°の撮影画像が取得できます。また、2画面個別に明るさやコ...
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■靴、アパレル、雑貨、バッグの異物検査装置RVシリーズの標準機 靴、アパレル、雑貨、バッグの異物検査装置RVシリーズの標準機です。L型...
株式会社リガク
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115.0時間 返答時間
■靴、アパレル、雑貨、バッグの異物検査装置RVシリーズ 靴、アパレル、雑貨、バッグの異物検査装置RVシリーズに2方向2画面同時検査装置...
X線分析装置とは、対象物にX線を照射した際の蛍光X線スペクトルによって元素の含有量を解析する装置のことです。
粉末状の試料だけでなく、固体や液体でも測定が可能で、試料を破壊することなく短時間で調べることができるため、物質の組成分析方法として幅広く活用されています。 X線分析装置は、粉末試料の成分分析や結晶構造解析など、様々な分野で利用されています。
X線分析装置は、物質の定性分析（どのような元素が含まれているか）や定量分析（各元素がどのくらいの割合で含まれているか）に利用されており、信頼性が高い検査装置です。
X線分析装置は、固体、液体を問わず試料の定性分析、定量分析を非破壊で行うことができます。特に合金材料や土壌に含まれる有害金属の有無とその含有量を調べるために利用されています。
例えば、岩石、隕石など成分が未知の物質の組成を調べる際にはX線分析が有効です。最近では、環境や安全保全の観点からプリント配線のハロゲンフリー化が進められており、その保証のためにX線分析装置で分析がされています。他にも、有害性化学物質の定性と定量に利用され、RoHS指令で定める物質の検査に利用されます。また、簡単に持ち運べる携帯型装置も販売され、用途が広がっています。
図1. (a) 蛍光X線の発生 (b) X線分析装置の構造
X線分析装置では、対象にX線を照射して放出される蛍光X線の波長 (またはエネルギー) と強度を計測しています。
物質にX線を照射するとその原子はエネルギーを吸収して励起し、蛍光X線を発します。蛍光X線の波長 (またはエネルギー) は元素ごとに固有であるため、検出した蛍光X線スペクトルの波長から物質の種類を特定し、その強度から定量をすることも可能です。
X線分析装置は、X線を発生させるX線源、試料を保持する試料室、生じた蛍光X線を分光・検出する検出部で構成されています。
X線源では、高電圧をかけて発生させた電子線を、タングステン等のターゲットに照射しX線を発生させます。生じたX線を試料の上面または下面に照射します。このとき、試料室内は大気や窒素、真空など雰囲気が選択できることがあります。
また、試料観察モードが付属しているX線分析装置では試料を観察しながら照射位置を選択できることがあります。試料から放出される元素由来の蛍光X線を検出器で検出し、定性分析を行います。定量分析においては蛍光X線の強度を測定し検量線やファンダメンタルパラメーター法 (FP法) を用いて含有率を求めます。
X線分析装置の分光・検出方法には波長分散型とエネルギー分散型があります。
図2. エネルギー分散型X線分析装置の測定イメージ
エネルギー分散型蛍光X線分析装置 (略称: ED-XRF、またはEDX、EDS) は、蛍光X線のエネルギーに対してその強度を測定する方法です。
具体的には、検出器に入射した蛍光X線を検出器内の半導体でパルス電流に変換し、増幅したのちにパルス1個の電流値から波高を測定します。電流値から入射したX線のエネルギーは電流値に比例するため、蛍光X線のエネルギーに対するその強度のグラフが得られます。
図3. 波長分散型X線分析装置の測定イメージ
波長分散型蛍光X線分析装置 (略称: WD-XRF、またはWDX、WDS) では、蛍光X線の波長に対してその強度を測定する方法です。
波長分散型では、試料から発生した蛍光X線を分光結晶により分光し、検出器で測定します。分光結晶に入射した蛍光X線はブラッグの回折条件に従ってある特定の方向に強く散乱されます。
ブラッグの回折条件とは、波長λの光が格子面間隔dの物質に入射したとき、2dsinθ＝nλ (θ: ブラッグ角 n: 整数) を満たす回折角2θの方向に強く散乱されるという法則です。つまり、分光結晶の面間隔dは固定されているため、様々な波長のX線が入射しても、回折角2θの方向に検出器がある時は1種類の波長のX線のみが検出されます。検出部を回転させ広い角度で蛍光X線を測定すると、蛍光X線の波長に対するその強度のグラフを得ることができます。
エネルギー分散型と波長分散型の検出方法にはそれぞれ特徴があり、用途に応じて適切に選択する必要があります。
1. エネルギー分散型
エネルギー分散型は分光の必要がなく、半導体の検出器が直接蛍光X線の波長を分析することができるため、小型化することが可能です。また、分光の必要がなく一度に複数種類の元素分析が行えるため、短時間で測定が可能です。試料の形状や凹凸に関係せずに測定できるため、電子顕微鏡などと併用して使われることがあります。
一方、得られるスペクトルのピークが重なることがあり分解能が低い傾向にあり、測定対象に微量しか含まれない元素の検出が難しいといったデメリットもあります。
2. 波長分散型
波長分散型では蛍光X線を分光結晶で分光し、検出器で測定します。波長で分光するため、隣接ピークの分離が容易で高感度かつ分解能も高い傾向にあります。
一方で、複雑な分光系を有するため装置自体は大型で高価になる傾向があります。また、回折角を変化させながら測定するためエネルギー分散型に比べて測定に時間がかかり、試料表面は平滑である必要があります。
参考文献
https://www.jaima.or.jp/jp/analytical/basic/xray/eds/
http://www.rada.or.jp/database/home4/normal/ht-docs/member/synopsis/040303.html
https://www.researchgate.net/profile/Keita_Yamasaki2/publication/
http://www.pref.mie.lg.jp/common/content/000171791.pdf
https://www.researchgate.net/profile/Keita_Yamasaki2/publication/
https://www.jaima.or.jp/jp/analytical/basic/xray/wds/
