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半導体露光装置 メーカー17社

半導体露光装置のメーカー17社一覧企業ランキングを掲載中!半導体露光装置関連企業の2025年3月注目ランキングは1位:インテックス株式会社、2位:長浜キヤノン株式会社、3位:株式会社ニコンとなっています。 半導体露光装置の概要、用途、原理もチェック!

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17半導体露光装置メーカー

*一部商社などの取扱い企業なども含みます。


半導体露光装置 2025年3月のメーカーランキング

*一部商社などの取扱い企業なども含みます

36 点の製品がみつかりました

36 点の製品

キヤノン電子株式会社

半導体露光装置 IoT関連デバイス向けKrFステッパー

200人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

100.0% 返答率

206.6時間 返答時間

特長 ■多様な特殊基板・小型基板に対応 実績のあるi線ステッパー「FPA-3030i5+」と共通のウエハー搬送システムを搭載し、IoT関連デバイ...


ネオアーク株式会社

マスクレス露光装置 PALET 手動ステージモデル DDB-701-MS

370人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

33.6時間 返答時間

■フォトリソを、もっと身近に かつて「産業のコメ」と呼ばれた半導体。その半導体プロセスの根幹を支えた技術が「フォトリソグラフィ」...


株式会社協同インターナショナル

ナノパターン露光装置"PhableR 100"

180人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

100.0% 返答率

37.8時間 返答時間

■PhableR 100は、300nmピッチ以下の高解像度を実現 ・PhableR 100 は、EULITHA社独自の露光技術であるPHABLE (Photonics Enablerの短縮...


株式会社菱光社

露光装置 セミオートアライナー MA-1200A

120人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

27.9時間 返答時間

■特長 ・他品種・小ロット生産や実験・研究に最適な手動露光装置。 (有効露光範囲φ6 inch) ・フットプリントを縮小することで省スペー...


伯東株式会社

サブストレート投影露光装置 (ステッパ―) LS-360SB

220人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

サブストレート投影露光装置LS-360SBは、高品位なUV光源と、非常に高い技術を有した高分解能の投影レンズ、高性能位置決めステージを内...


株式会社ピーエムティー

マスクレス露光装置 ミニマル マスクレス露光装置

170人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

437.3時間 返答時間

ミニマル マスクレス露光装置は、DMD (Digital Micromirror Device) と呼ばれる表示素子を使用し、ステージと完全同期されたON/OFF制御...


ネオアーク株式会社

マスクレス露光装置 PALET 電動ステージモデル DDB-701-DL

380人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

33.6時間 返答時間

■フォトリソを、もっと身近に かつて「産業のコメ」と呼ばれた半導体。その半導体プロセスの根幹を支えた技術が「フォトリソグラフィ」...


インテックス株式会社

半導体用LED照明 Tino4000NY NW PW

510人以上が見ています

最新の閲覧: 10時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

3.4時間 返答時間

■特長 ・半導体工場、食品工場での省エネの切り札。従来のイエロー蛍光管代替のニューイエロ (NY) LED, 500nmレス品。 ・i 線など (一部...

5種類の品番

Tino4000NY-半導体用LED照明 Tino4000NY NW PW
Tino4000NW-半導体用LED照明 Tino4000NY NW PW
Tino4000SMC-半導体用LED照明 Tino4000NY NW PW
Tino4000YL-半導体用LED照明 Tino4000NY NW PW
Tino4000PW-半導体用LED照明 Tino4000NY NW PW

壺坂電機株式会社

UV露光装置 UVL-3

150人以上が見ています

最新の閲覧: 10時間前

■特長 ・フォトリソグラフィ工程における簡易露光焼付装置 ・卓上型・一体型のため省スペース ・カラー液晶と十字キーを装備 ・照射時間...


上野山機工株式会社

LEDライトを使用した露光機 LUMITRON LED EXPOSURE UNIT

470人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

28.0時間 返答時間

■LEDライトを使用した露光機 ・LEDライトストリップを使用する事で、「高速・均一・高解像度」の露光を実現 ・LEDライトはメタルハライ...

3種類の品番

SMLUM-LED-LEDライトを使用した露光機 LUMITRON LED EXPOSURE UNIT
MDLUM-LED-LEDライトを使用した露光機 LUMITRON LED EXPOSURE UNIT
LGLUM-LED-LEDライトを使用した露光機 LUMITRON LED EXPOSURE UNIT

株式会社三光精衡所

大型反射鏡 楕円面鏡

240人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

■用途 光学集光装置、映写用反射鏡、液晶装置用露光装置、IC装置用露光装置、プリント基板用露光装置、太陽光自動集光装置、ファイバー...


株式会社協同インターナショナル

ナノパターン露光装置 PhableR 100

220人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

37.8時間 返答時間

PhableR100はタルボ効果を用いることにより周期構造に対して ハーフピッチ150nmの微細で一括露光できる特殊な装置です。 電子ビーム描画...


ネオアーク株式会社

マスクレス露光装置 PALET 大型ステージモデル DDB-701-DL4

260人以上が見ています

最新の閲覧: 15時間前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

33.6時間 返答時間

■フォトリソを、もっと身近に かつて「産業のコメ」と呼ばれた半導体。その半導体プロセスの根幹を支えた技術が「フォトリソグラフィ」...


株式会社フィジックステクノロジー

光学素子設計/加工装置 マスクレス露光装置 SMART PRINT UV スタンダード

150人以上が見ています

最新の閲覧: 5時間前

100.0% 返答率

65.4時間 返答時間

プロジェクタ技術を活用したマスクレス露光装置です。デスクトップ型ですので、設置場所を選ばず簡単にご使用いただけます。 ■主な特徴...


ネオアーク株式会社

マスクレス露光装置 3次元形状レーザ露光装置

250人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

33.6時間 返答時間

■3次元形状へのフォトリソグラフィを実現 フォトリソグラフィは幅広い分野で活用されていますが、一般的に平面ワークに対して行われてい...


株式会社協同インターナショナル

エッジビード露光システム 量産用向け Model2000

170人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

37.8時間 返答時間

Model 2000はフラッド露光またはエッジビード露光が可能なフルオートマチックタイプの装置です。シャドウマスク技術が貴重なエッジビー...


株式会社菱光社

露光装置 セミオートアライナー MA-4000

140人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

27.9時間 返答時間

■特長 ・全機能がコンパクトに一体化 ・当社スタンダード機よりタクト20%アップを実現 ・用途により、2種類のアライメント方式を選択可...


株式会社ピーエムティー

マスクレス露光装置 DMDの高速時間変調で256階調のグレースケール露光が可能 マスクレス露光装置 D-light DL-1000

210人以上が見ています

最新の閲覧: 20時間前

100.0% 返答率

437.3時間 返答時間

マスクレス露光装置 D-Light DL-1000 は、露光によって半導体ウェハなどにパターンを描画する装置です。DMD (Digital Micromirror Devic...


泉谷機械工業株式会社

PCB製造用 ローダ&アンローダ付露光装置

370人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

クリーンルーム内におけるPCB (プリントサーキットボード) 製造の露光 (焼付) 装置。ナノテクノロジー時代の現在、クリーンルームにおい...


株式会社ピーエムティー

マスクレス露光装置 DMDによる直接描画で半導体デバイス試作のサイクルタイムを削減 マスクレス露光装置 ME-120F

230人以上が見ています

最新の閲覧: 21時間前

100.0% 返答率

437.3時間 返答時間

マスクレス露光装置 ME-120F は、露光によって半導体ウェハなどにパターンを描画する装置です。DMD (Digital Micromirror Device) と呼...


壺坂電機株式会社

UV露光装置 LUV-1000

180人以上が見ています

最新の閲覧: 21時間前

■特長 ・平行度を保証した露光焼付装置 ・超高圧水銀ランプ2kWを搭載 ・専用PCソフトウェアとシャッターコントローラーから制御 ・マス...


日本電波工業株式会社

光学製品 アプリケーション 半導体露光装置 (ステッパー)

120人以上が見ています

最新の閲覧: 38分前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

34.1時間 返答時間

■製品の特長 ・使用される光学製品 水晶波長板 ・弊社独自の高純度人工水晶を使用することで、波長193nmなどの真空紫外領域も高い透過率...


株式会社菱光社

露光装置 マスクレス露光機

140人以上が見ています

最新の閲覧: 19時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

27.9時間 返答時間

■概要 マスクを製作せずにキャドデーターから直接描画できる露光装置です。 ■メリット ・マスク製作のリードタイム ゼロ。 ・マスク製...


株式会社菱光社

露光装置 コンタクト露光機

100人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

27.9時間 返答時間

■概要 お客様のご要望にお応え出来る露光機を各社取り揃えております


株式会社サーマプレシジョン

量産投影露光装置 CMS (Cerma Micro Stepper)

20人以上が見ています

■特長 ・L/S=1.4/1.4um量産プロセスに対応 ・650×550mmのフルパネル量産に対応 ・ダイバイダイアライメン&グローバルアライメント方式...


株式会社サーマプレシジョン

半導体後工程・電子部品用 8インチ一括投影露光装置 MRS

10人以上が見ています

特長 ・8インチ以下は「一括露光方式」、12インチor□300mm基板は「ステップ&リピート露光方式」の選択が可能 ・露光エリアが広い為、高...


新着

株式会社エイチ・ティー・エル

フォトマスク描画装置 マスク描画装置 Pegasus1416

70人以上が見ています

最新の閲覧: 7時間前

ブイ・テクノロジー社のレーザーマスク描画装置です。LCD TFT、OLED 等の大型マスクをマルチヘッドのパラレル露光により、高速・高精度...


新着

株式会社エイチ・ティー・エル

フォトマスク描画装置 マスク描画装置 StarkR6

最新の閲覧: 10時間前

V-Technology グループのナノシステムソリューションが提供するLSI 2層目専用のマスク描画装置です。高精度・高信頼性の本装置は、効率...


新着

株式会社エイチ・ティー・エル

フォトマスク描画装置 マスク描画装置 StarkSHR

最新の閲覧: 4時間前

V-Technology グループのナノシステムソリューションが提供するLSIマスク汎用描画装置です。多くの描画装置製造の実績をベースに、LSIマ...


新着

株式会社エイチ・ティー・エル

フォトマスク描画装置 フォトマスク描画装置 LW405D

最新の閲覧: 1日前

Microtechは幅広い用途に対応した柔軟性の高い構成を可能にする装置をお届けします。LW405Dマスク描画装置は複数の露光波長を選択構成可...


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