半導体露光装置
メーカー17社【2025年】

半導体露光装置についての概要、用途、原理などをご説明します。また、半導体露光装置のメーカー17社一覧や企業ランキングも掲載しております。半導体露光装置関連企業の2025年2月注目ランキングは1位:インテックス株式会社、2位:株式会社オーク製作所、3位:長浜キヤノン株式会社となっています。

半導体露光装置とは？
半導体露光装置のメーカー17社
半導体露光装置32製品

半導体露光装置とは

半導体露光装置

半導体露光装置は、半導体製造工程の内、シリコンウェーハに回路パターンを描写するための装置になります。回路パターンの原型となるフォトマスクに強力な紫外光を透過させ、フォトレジストを塗布したシリコンウェーハに回路パターンを転写します。近年では、細かい回路パターンを微細化するためにEUVと呼ばれる波長が13nmのレーザーを使用する装置もあります。位置決めなどが非常に高精度で要求されるため、装置の値段が高価です。

半導体露光装置の使用用途

半導体露光装置は、MOS(金属酸化物半導体)-FET(電界効果トランジスタ)などの半導体素子を含むIC(集積回路)の製造工程における露光工程で使用されます。

ICの製造工程では、シリコンウェーハ上においてフォトリソグラフィおよびエッチングのサイクルを順次回繰り返し、シリコン酸化物や金属などのレイヤ(層)を所定のパターンに積層および加工する過程で、半導体素子として必要な特性を持つような処理が行われます。一例としてn型MOS(NMOS)の場合、p型のシリコン基板上のゲート領域にシリコンの酸化膜とその上にゲート金属を形成し、ドレインおよびソース領域には高濃度の不純物をイオン注入することで、n型(n+型)のMOSを形成します。このような一連のプロセスにおけるフォトリソグラフィおよびエッチングの各工程は、図のように構成されます(成膜工程S1~レジスト剥離工程S6)。

半導体露光装置

このうち、露光工程(S3)が、半導体露光装置を用いて行われる工程です。回路パターンの寸法や半導体素子の精度によって、露光装置の波長が使い分けられています。

半導体露光装置の原理

半導体露光装置は、光源、コンデンサレンズ、フォトマスク、投影レンズ、ステージで構成されています。光源から発生した紫外光がコンデンサレンズによって、同じ方向を向くように調整されます。その後、回路パターンを構成する1つのレイヤの原型となるフォトマスクを紫外光が通過して、投影レンズで光が縮小され、シリコンウェーハ上に半導体素子の回路パターン(の1つのレイヤ)を転写します。ステッパのような露光装置では、1回転写が終われば、ステージによってシリコンウェーハが移動し、シリコンウェーハ上の別の位置に同じ回路パターンを転写します。フォトマスクを取り換えることで、半導体素子の回路パターンの別のレイヤの転写が可能になります。

光源には、248nmの波長のKrFエキシマレーザーや、193nmの波長のArFエキシマレーザー、13nmの波長のEUV光源などが使用されます。

最新の半導体製造工程のデザインルール(最小加工寸法)は、3～5nm程度まで微細化が進んでいるので、コンデンサレンズやフォトマスク、投影レンズ、ステージすべてに、ナノ単位の高精度が要求されています。また、積層化も進んでいるので、露光は回路パターンを変えて1つの半導体ができるまでに何回も行われます。

半導体露光装置のその他情報

半導体露光装置の市場規模とシェア

世界の電子機器市場は拡大を継続しており、それを支える半導体産業の重要性はますます重要になっています。世界の半導体市場は2019年にマイナス成長になりましたが、過去もリーマンショックなどを経験しながらも拡大を継続しています。近年メモリは微細化から3D化へ技術開発が変化しておりエッチング技術の重要性が高くなってきています。

半導体露光装置の市場規模は、2018年時点で1兆852億円です。
消費地域別のシェアは、1位韓国36%、2位台湾19%、3位中国18%、4位米国14%、5位日本7%と続きます。半導体露光装置のベンダ国籍別シェア(2018年)は、欧州(84%)、日本(14%)、米国(2%)で、欧州・日本でほぼ寡占されています。

EUV露光装置について

EUV（Extreme Ultravioletの略）露光装置とは、極端紫外線と呼ばれる非常に短い波長の光を用いた半導体露光装置です。従来のArFエキシマレーザ光を用いた露光装置では加工が難しいより微細な寸法の加工が可能となります。

半導体の微細化は、ムーアの法則(半導体集積回路は３年で４倍の高集積化，高機能化が実現される)に従い微細化されてきています。これまでにもステッパーと呼ばれる縮小投影露光技術や露光波長の短波長化や液浸露光技術の開発により、解像度を飛躍的に向上させてきています。

微細化はウェーハに焼き付けることのできる最小加工寸法が小さくなることであり、その最小加工寸法Rは以下のレイリーの式で表されます。
　R＝k・λ/NA　※kは比例定数，λは露光波長，N.A.は露光光学系の開口数

これまでも様々な技術開発により、kを小さくしたりλを小さくしたりNAを大きくすることで、微細化を実現してきています。
EUV露光装置は、露光波長の短波長化によりこれまでの限界を突破できる技術とされ、近年量産化がされています。

半導体露光装置の価格について

半導体露光装置は、現在半導体を効率的に量産するのに欠かすことのできない装置ですが、史上最も精密な機械といわれており、価格は高価になります。

半導体露光装置で利用する光源波長が短いほど、微細なパターンが形成できる上、露光装置の価格も高くなるとされています。波長ごとに、i線が約4億円、KrFが約13億円、ArFドライが約20億円、ArF液浸が約60億円、EUVが約200憶円規模といわれています。

回路が微細になればなるほど信号伝達の高速化や省エネ化などを図ることができますが、近年半導体露光装置の価格も含め微細化によるプロセスコストの増大が無視できなくなってきています。

また半導体露光装置に求められる性能として、半導体製造するコスト面から半導体露光装置のスループットも重要な指標になります。スループットとは、どれだけ高速に回路パターンを露光できるかを示す性能で、スループットが上昇するとシリコンダイ1枚当たりの製造コスト(ランニングコスト)は低下します。半導体チップの量産時に重要視されます。

参考文献
https://www.jstage.jst.go.jp/article/sicejl1962/41/1/41_1_8/_pdf
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jjspe1986/57/4/57_4_615/_pdf
https://www.meti.go.jp/meti_lib/report/2019FY/000182.pdf
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jspf/79/3/79_3_221/_pdf
http://koueki.jiii.or.jp/innovation100/innovation_detail.php?eid=00064&test=open&age=

半導体露光装置のカタログ7件を掲載中

半導体露光装置メーカー 17社

*一部商社などの取扱い企業なども含みます。

半導体工場用照明注目製品
インテックス株式会社

・フォトレジストを使用する工程用のLED照明　防爆仕様も用意
・４４０nm以下をカットする「ニューイエロー」は従来のイエロー蛍光管の代替品
・500nm以下をカットする「ニューホワイト」「ピュアホワイト」はｉ-線露光工程用
・高い視認性を持ちクリ-ンルーム等での使用にも最適です

【半導体露光装置】EUV・DUV装置向け高屈曲ケーブル注目製品
日本ゴア合同会社

・低発塵・低アウトガス設計で、露光装置の高クリーンプロセス、EUV真空プロセスで使用可能
・EUVを含む半導体露光装置で豊富な使用実績があり、アプリケーション知識も蓄積
・ケーブル高速動作時の発塵を低減し、装置スループットが向上
・高耐久性を持つPTFEケーブル材料の使用により、装置メンテナンス頻度を低減

- - インテックス株式会社
    半導体工場用ランプシリーズ
  - 会社サイト創業: 2004年会社詳細
  - 住所: 東京都東京都千代田区内神田1-5-1　トライエム大手町ビル 9F
- 現地テスト可能です専門家が検討・製造 LEDのご相談受付中
  
  高演色LEDランプを始め、半導体工場照明用LEDランプ、UV-LEDランプ等を自社内で開発設計。生産は台湾・中国大手企業と業務提携・業務委託を実施。少量から中量産までを国内提携工場・海外提携工場にて生産委託し販売。
- - 日本ゴア合同会社
    リソグラフィ向けゴア® 高屈曲ケーブル＆アセンブリ
  - 会社サイト会社詳細
  - 住所: 東京都港区港南1-8-15 Wビル14F
- グローバル企業高品質経験豊富なスタッフ
  
  ゴアは、業界へ変革をもたらすことで人々の生活の向上に尽力する、材料科学に強みを持つグローバルカンパニーです。
- - 長浜キヤノン株式会社メーカー
    半導体露光装置ユニット
  - 会社サイト創業: 1988年従業員数: 1,242人資本金: 80,000,000円会社詳細
  - 住所: 滋賀県長浜市国友町1280番地
- - 株式会社ニコンメーカー
    半導体露光装置
  - 会社サイト上場(東証プライム) 創業: 1917年従業員数: 4,174人会社詳細
  - 住所: 東京都港区港南2-15-3品川インターシティC棟
- - 株式会社オーク製作所メーカー
    半導体用露光装置一覧
  - 会社サイト創業: 1968年従業員数: 474人資本金: 588,400,000円会社詳細
  - 住所: 東京都町田市小山ヶ丘3-9-6
- - 株式会社SCREENホールディングスメーカー
    大型パネル用直接描画装置 LeVina
  - 会社サイト創業: 1943年従業員数: 6,074人会社詳細
  - 住所: 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る四丁目天神北町1番地の1
- - 日本電波工業株式会社メーカー
    半導体露光装置（ステッパー）
  - 会社サイト上場(東証プライム) 創業: 1948年従業員数: 674人資本金: 5,596,000,000円会社詳細
  - 住所: 東京都渋谷区笹塚1-47-1メルクマール京王笹塚
- - ウシオ電機株式会社メーカー
    分割投影露光装置一覧
  - 会社サイト上場(東証プライム) 創業: 1964年従業員数: 1,697人会社詳細
  - 住所: 東京都千代田区丸の内1-6-5
- - 株式会社昭和サイエンス
    マニュアルマスクアライナ
  - 会社サイト創業: 1974年従業員数: 40人会社詳細
  - 住所: 東京都品川区東大井5丁目12番10号
- - 株式会社川崎製作所
    半導体露光装置
  - 会社サイト創業: 1978年資本金: 40,000,000円会社詳細
  - 住所: 茨城県ひたちなか市新光町552-71
- - 株式会社大日本科研
    化合物半導体用露光装置(マスクアライナ)
  - 会社サイト創業: 1967年従業員数: 148人資本金: 50,000,000円会社詳細
  - 住所: 京都府向日市寺戸町久々相1番地
- - 株式会社協同インターナショナル
    微細加工装置（加工機）一覧
  - 会社サイト創業: 1970年従業員数: 80人会社詳細
  - 住所: 神奈川県川崎市宮前区宮崎2-10-9 オーミヤ宮崎台ビル
- - 株式会社ナノテック
    マスクアライナー一覧
  - 会社サイト創業: 1988年資本金: 23,000,000円会社詳細
  - 住所: 神奈川県大和市中央林間4-2-17 CRビル2階
- - 株式会社ナノシステムソリューションズ
    マスクレス露光装置
  - 会社サイト創業: 2004年資本金: 90,000,000円会社詳細
  - 住所: 沖縄県うるま市勝連南風原5192-8
- - 株式会社サーマプレシジョン
    半導体後工程・電子部品用 8インチ一括投影露光装置MRS
  - 会社サイト創業: 1976年従業員数: 43人資本金: 100,000,000円会社詳細
  - 住所: 東京都江東区冬木16-1
- - 株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ
    後工程用露光装置一覧
  - 会社サイト創業: 2006年資本金: 310,000,000円会社詳細
  - 住所: 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る四丁目天神北町1番地の1
- - ネオアーク株式会社
    露光装置／描画装置一覧
  - 会社サイト創業: 1976年従業員数: 50人会社詳細
  - 住所: 東京都八王子市中野町2062-21

半導体露光装置 2025年2月のメーカーランキング

*一部商社などの取扱い企業なども含みます

2025年2月の注目ランキングベスト10

順位	会社名	クリックシェア
1	インテックス株式会社	18.7%
2	株式会社オーク製作所	14.6%
3	長浜キヤノン株式会社	12.3%
4	株式会社ニコン	8.7%
5	株式会社川崎製作所	6.8%
6	ウシオ電機株式会社	5.9%
7	日本電波工業株式会社	5.5%
8	株式会社SCREENホールディングス	5.0%
9	ネオアーク株式会社	4.1%
10	日本ゴア合同会社	3.7%