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半導体露光装置のメーカー17社一覧や企業ランキングを掲載中!半導体露光装置関連企業の2025年3月注目ランキングは1位:インテックス株式会社、2位:長浜キヤノン株式会社、3位:株式会社ニコンとなっています。 半導体露光装置の概要、用途、原理もチェック!
半導体露光装置は、半導体製造工程の内、シリコンウェーハに回路パターンを描写するための装置になります。回路パターンの原型となるフォトマスクに強力な紫外光を透過させ、フォトレジストを塗布したシリコンウェーハに回路パターンを転写します。近年では、細かい回路パターンを微細化するためにEUVと呼ばれる波長が13nmのレーザーを使用する装置もあります。位置決めなどが非常に高精度で要求されるため、装置の値段が高価です。
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*一部商社などの取扱い企業なども含みます。
順位 | 会社名 | クリックシェア |
---|---|---|
1 | インテックス株式会社 |
18.3%
|
2 | 長浜キヤノン株式会社 |
12.8%
|
3 | 株式会社ニコン |
9.8%
|
4 | 株式会社オーク製作所 |
8.5%
|
5 | 日本電波工業株式会社 |
7.3%
|
6 | 株式会社SCREENホールディングス |
6.7%
|
7 | 株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ |
6.1%
|
8 | 株式会社ナノテック |
4.9%
|
9 | ネオアーク株式会社 |
4.3%
|
10 | 株式会社川崎製作所 |
4.3%
|
キヤノン電子株式会社
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■概要 お客様のご要望にお応え出来る露光機を各社取り揃えております
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■特長 ・L/S=1.4/1.4um量産プロセスに対応 ・650×550mmのフルパネル量産に対応 ・ダイバイダイアライメン&グローバルアライメント方式...
株式会社サーマプレシジョン
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特長 ・8インチ以下は「一括露光方式」、12インチor□300mm基板は「ステップ&リピート露光方式」の選択が可能 ・露光エリアが広い為、高...
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V-Technology グループのナノシステムソリューションが提供するLSIマスク汎用描画装置です。多くの描画装置製造の実績をベースに、LSIマ...
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