全てのカテゴリ
閲覧履歴
CMP装置のメーカー8社一覧や企業ランキングを掲載中!CMP装置関連企業の2025年4月注目ランキングは1位:北川グレステック株式会社、2位:株式会社東精エンジニアリング、3位:株式会社荏原製作所となっています。 CMP装置の概要、用途、原理もチェック!
CMP装置は、シリコンウェーハを研磨する装置になります。CMPは、Chemical Mechanical Polishingの略で、化学機械研磨のことです。半導体は、非常に小さいスケールで作られているので、均一で高精度な研磨が求められるうえ、異なる硬さの層がいくつも積み重なっており、それぞれ適切な圧力や研磨剤、薬品を使用して研磨する必要があります。研磨の際は、それぞれの半導体の層の構成に応じて、表面や凹凸を化学反応をさせ、サンドペーパーなどで機械的に除去しています。
関連キーワード
2025年4月の注目ランキングベスト8
順位 | 会社名 | クリックシェア |
---|---|---|
1 | 北川グレステック株式会社 |
31.7%
|
2 | 株式会社東精エンジニアリング |
15.9%
|
3 | 株式会社荏原製作所 |
13.0%
|
4 | ラップジャパン株式会社 |
10.1%
|
5 | 株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ |
10.1%
|
6 | 日の本研磨材株式会社 |
7.7%
|
7 | テクノライズ株式会社 |
7.7%
|
8 | Applied Materials, Inc. |
3.8%
|
東京計装株式会社
30人以上が見ています
最新の閲覧: 3時間前
返信の早い企業
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
6.9時間 返答時間
■概要 UCF006はコンパクトモデルの超音波流量モニタです。流量測定部をストレート構造にすることで、半導体プロセスにおいて問題であっ...
ラップジャパン株式会社
120人以上が見ています
最新の閲覧: 19時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
23.2時間 返答時間
研究/開発/生産用途に最適な高機能モデル卓上式小型CMP装置から大型CMP装置まで用意しております。 又、卓上式小型CMP装置は中型・大...
東京計装株式会社
50人以上が見ています
最新の閲覧: 10時間前
返信の早い企業
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
6.9時間 返答時間
■概要 UCUF-02M/SFC-010Lは液体用超音波流量計です。純水、超純水や各種薬液などの微小流量を高精度測定できます。測定管路の口径は2.5m...
東京計装株式会社
60人以上が見ています
最新の閲覧: 9時間前
返信の早い企業
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
6.9時間 返答時間
■概要 UCUF-Eシリーズ液体用超音波流量計は超純水や各種薬液などの小流量計測用に設計された流量計で、UCUF-E形検出器と、SFC形変換器で...
ハイソル株式会社
330人以上が見ています
最新の閲覧: 19分前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
27.0時間 返答時間
■特徴 ・COF (摩擦係数) やパッド表面温度、研磨液の温度、装置内の室温などをモニターしており、これらのパラメーターで上限値を設定出...
2種類の品番
東京計装株式会社
50人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の早い企業
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
6.9時間 返答時間
■概要 UCUF-Kシリーズ液体用超音波流量計は超純水や各種薬液などの小流量計測用に設計された流量計で、UCUF-K形検出器と、SFC形変換器で...
株式会社エクシール
360人以上が見ています
最新の閲覧: 20分前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
12.3時間 返答時間
ソフトクッションシートは優れた弾性と衝撃吸収性で、仮固定やすべり止めに最適なウレタンゲル製シートです。緩衝性・仮固定性を求めら...
3種類の品番
東京計装株式会社
30人以上が見ています
最新の閲覧: 15時間前
返信の早い企業
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
6.9時間 返答時間
■概要 UCUF-Mシリーズ液体用超音波流量計は超純水や各種薬液などの小流量計測用に設計された流量計で、UCUF-M形検出器と、SFC形変換器で...
芝浦メカトロニクス株式会社
10人以上が見ています
100.0% 返答率
81.3時間 返答時間
■次世代・先端半導体に対応したグローバルニッチトップ製品の開発を推進 半導体デバイスの微細化が進んでおり、これに対応した装置の開...
ハイソル株式会社
290人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
27.0時間 返答時間
PM6/LP70は、ラッピング (粗研磨) とポリッシングを1台で行うことが出来る精密研磨装置です。耐薬品モデルを使用することにより、CMP (...
ブルカージャパン株式会社
220人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
24.5時間 返答時間
■CMPプロセス・材料特性評価システム TriboLab CMPは高い堅牢性を備えたブルカーの摩擦摩耗試験機UMT TriboLabをベースに開発された、CM...
ムサシノ電子株式会社
370人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信のとても早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
4.5時間 返答時間
精密研磨装置による自動研磨作業には、試料ホルダーを保持する試料保持ユニットが必要となります。 使用する試料ホルダーに合わせた試...
3種類の品番
株式会社渡辺商行
180人以上が見ています
100.0% 返答率
37.2時間 返答時間
シリコンウエハ製造のラッピング、ポリッシング工程でのウエハホルダーとして使用するキャリアをお客様のニーズに合わせて製作致します...
株式会社エクシール
400人以上が見ています
最新の閲覧: 10分前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
12.3時間 返答時間
ソフトクッションシートは優れた弾性と衝撃吸収性で、仮固定やすべり止めに最適なウレタンゲル製シートです。片面にアクリル系粘着材が...
3種類の品番
北川グレステック株式会社
130人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
■製品情報 試験・量産用のCMP装置を、ウェハサイズに合わせてご案内しております。また、お客様のご要望に応じたオーダーメイドも承って...
ムサシノ電子株式会社
710人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信のとても早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
4.5時間 返答時間
大型のパネル型サンプル (ガラス等) の表面CMP研磨に最適です。上部揺動ユニットのフレキシブルパッドにてサンプル表面を一様に研磨す...
ハイソル株式会社
270人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
27.0時間 返答時間
PM6/LP70は、ラッピング (粗研磨) とポリッシングを1台で行うことが出来る精密研磨装置です。耐薬品モデルを使用することにより、CMP (...
株式会社くまさんメディクス
690人以上が見ています
最新の閲覧: 18時間前
ウェハーワックス貼り付け工程は、ウェハーの研磨状態や厚み精度を大きく左右する重要な工程です。高品質な研削・研磨工程を実現する、...
テクノマシナリー株式会社
20人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
■概要 CMPパッドに溝、孔加工をするマシンです。パッド意匠は、同心円、XY、放射、パーフォレートが出来ます。 ■特徴 ・吸着は真空ポン...
泉谷機械工業株式会社
360人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
各種ワーク形状に合わせた研磨装置を設計・制作させて頂きます。 ※こちらは受注生産の製品です。
北川グレステック株式会社
90人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
■製品情報 試験・量産用のCMP装置を、ウェハサイズに合わせてご案内しております。また、お客様のご要望に応じたオーダーメイドも承って...
ムサシノ電子株式会社
320人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
返信のとても早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
4.5時間 返答時間
電解研磨用の特注アタッチメントです。Siウェハーを電解研磨するために設計されたものです。 ■特徴 eタイプ (MA-200e、MA-300e、MA-40...
テクノマシナリー株式会社
10人以上が見ています
最新の閲覧: 13時間前
■概要 CMPパッドの表面、溝をクリーニングするマシンです。 ■特徴 ・吸着は真空ポンプ ・回転ブラシによる加工クズ除去 ・強力ブロアー...
ハイソル株式会社
120人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
27.0時間 返答時間
研磨業界において50年以上の歴史を持つ、ロジテック社 (英国) が提供するウエハーボンダーが研磨の問題を解決します。 研磨の前に行う...
ムサシノ電子株式会社
260人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信のとても早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
4.5時間 返答時間
ロードセル (荷重変換器) を用いた研磨抵抗測定システムです。 ■特徴 eタイプ (MA-200e、MA-300e、MA-400e) の精密研磨装置に搭載...
北川グレステック株式会社
120人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
■製品情報 試験・量産用のCMP装置を、ウェハサイズに合わせてご案内しております。また、お客様のご要望に応じたオーダーメイドも承って...
ムサシノ電子株式会社
180人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信のとても早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
4.5時間 返答時間
■CMP (科学機械研磨) 工程で使用する研磨用品 ・アルミ盤 (ツバ付き) に貼ることで、CMP溶液で満たした盤中で液中研磨を行うことが...
ハイソル株式会社
90人以上が見ています
最新の閲覧: 17時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
27.0時間 返答時間
研磨業界において50年以上の歴史を持つ、ロジテック社 (英国) が提供するウエハーボンダーが研磨の問題を解決します。 研磨の前に行う...
北川グレステック株式会社
190人以上が見ています
最新の閲覧: 17分前
■製品情報 試験・量産用のCMP装置を、ウェハサイズに合わせてご案内しております。また、お客様のご要望に応じたオーダーメイドも承って...
ムサシノ電子株式会社
480人以上が見ています
最新の閲覧: 13時間前
返信のとても早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
4.5時間 返答時間
■CMP (科学機械研磨) 工程で使用する研磨用品 ・アルミ盤 (ツバ付き) に貼ることで、CMP溶液で満たした盤中で液中研磨を行うことが...
検索結果 42件 (1ページ/2ページ)
CMP装置は、シリコンウェーハを研磨する装置になります。CMPは、Chemical Mechanical Polishingの略で、化学機械研磨のことです。半導体は、非常に小さいスケールで作られているので、均一で高精度な研磨が求められるうえ、異なる硬さの層がいくつも積み重なっており、それぞれ適切な圧力や研磨剤、薬品を使用して研磨する必要があります。研磨の際は、それぞれの半導体の層の構成に応じて、表面や凹凸を化学反応をさせ、サンドペーパーなどで機械的に除去しています。
CMP装置は半導体の製造工程において主に使用されます。半導体プロセスにおける、エッチングを行い、酸化膜の生成やイオンの拡散などを行った後に、それらの工程によって生じた表面の凹凸を平坦化する際に使用されます。CMPによって、非常に高精度の平坦化を行え、平坦化した表面の上にさらに積層を行えやすくなります。CMP装置の選定の際には、平坦化の精度、使用する薬液や化学薬品、シリコンウェーハの処理スピードなどを考慮する必要があります。
CMP装置の動作原理を説明します。CMP装置は一般的には、一度に多くのシリコンウェーハを高速で処理するため、大型の装置になることが多いです。構成要素としては、回転ステージ、薬液や化学薬品を塗布するためにノズル、サンドペーパーなどが付いている研磨部で、そのほかにも、シリコンウェーハ輸送用のロボットや研磨後の洗浄部、以上検知部などが付属されています。
基本的な動作は、薬液や化学薬品をノズルからシリコンウェーハ上に散布し、その上からサンドペーパーなどを押し当てて、回転ステージを高速で回転させることによって研磨します。化学研磨の対象としては、酸化膜、タングステン配線、銅配線になります。酸化膜の場合は、酸化膜をアルカリ溶液で溶かし、同じ組成の酸化ケイ素で研磨します。タングステン配線の場合は、タングステンの表面部分を酸化させ、その表面を酸化ケイ素などで研磨します。銅配線の場合は、銅を酸化させた後、錯体にし、酸化ケイ素などで研磨します。
参考文献
https://www.jstage.jst.go.jp/article/electrochemistry/74/12/74_12_971/_pdf
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jjspe/83/3/83_220/_pdf
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jjspe/84/3/84_239/_pdf