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CVD装置のメーカー28社一覧や企業ランキングを掲載中!CVD装置関連企業の2025年6月注目ランキングは1位:ジャパンクリエイト株式会社、2位:株式会社天谷製作所、3位:株式会社フェローテックマテリアルテクノロジーズとなっています。 CVD装置の概要、用途、原理もチェック!
CVD (英: Chemical Vapor Deposition) 装置とは、薄膜の成長や表面処理に使用される装置です。
CVDは、化学反応を利用して気相中の化学物質を固体表面に沈着させるプロセスです。CVD装置は、基板や基材を加熱し、その表面に気相中の反応性ガスまたは蒸気を供給します。基板上の反応物質は化学反応を起こし、膜や被覆物を形成します。
このプロセスによって、さまざまな種類の薄膜や被覆物を作ることが可能です。CVDは高い制御性と再現性を持つため、高品質な薄膜を成長させることができます。膜の厚さや均一性、結晶性など、制御が必要な特性を制御することが可能です。ただし、使用するガスは有毒性が高いものが多く、取り扱いには注意が必要になります。
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2025年6月の注目ランキングベスト10
順位 | 会社名 | クリックシェア |
---|---|---|
1 | ジャパンクリエイト株式会社 |
17.7%
|
2 | 株式会社天谷製作所 |
7.1%
|
3 | 株式会社フェローテックマテリアルテクノロジーズ |
6.2%
|
4 | 大陽日酸株式会社 |
5.3%
|
5 | LAM RESEARCH CORPORATION |
5.3%
|
6 | 北野精機株式会社 |
5.3%
|
7 | 入江株式会社 |
4.4%
|
8 | 大村技研株式会社 |
4.4%
|
9 | テルモセラ・ジャパン株式会社 |
3.5%
|
10 | 神港精機株式会社 |
3.5%
|
ジャパンクリエイト株式会社
660人以上が見ています
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ジャパンクリエイト株式会社
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129.3時間 返答時間
■特徴 ・2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現 ・優れた膜厚分布および再現性を実現 ・特殊表面処理によるメタルコ...
ジャパンクリエイト株式会社
470人以上が見ています
最新の閲覧: 10時間前
5.0 会社レビュー
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当社が得意といたします、プラズマCVDプロセス技術を応用し、樹脂容器材質として一般的に普及しております「PETボトル」へのDLCコーティ...
アリオス株式会社
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■概要 本装置は、ダイヤモンド生産用のマイクロ波プラズマCVD装置です。当社独自のプラズマ技術を駆使し、大面積かつ高速成長を実現しま...
株式会社MPS
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■概要 RF (13.56MHz) を使用したプラズマCVD装置です。絶縁物でもDLCの成膜が可能です。
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32.7時間 返答時間
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320人以上が見ています
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量産向け NSG (SiO2) /PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (8インチウェハまで対応) 「AMAX」シリーズは、層間絶...
株式会社MPS
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■概要 直流の高電圧パルス放電を利用したダイヤモンドライクカーボン用プラズマCVD装置です。原料ガスはメタンまたはアセチレンを選択で...
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■概要 実験用の熱フィラメントCVD装置です。貴社のご要望に応じて装置を設計します。
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株式会社渡辺商行
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結晶Si太陽電池セル量産用 NSG (SiO2) /PSG/BSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD (APCVD) 装置 AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績を...
株式会社マイクロフェーズ
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炭化水素ガス (CH4やC2H2) を用いたCVD法で触媒基板 (Ni、Cuなど) にグラフェン膜を成長するには、 基板の急冷が重要要素の一つと言われ...
XQ Instruments
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■特徴 ・パワーレベルに比例したイオンエネルギーの上昇が無い為、基板ダメージが少ない ・適用真空範囲が、1x10-4から1x10-1 mbarと...
北野精機株式会社
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■特徴 本装置は、タングステンフィラメントを使用したホットワイヤー型CVD装置で、プラズマ損傷の無い大面積と高純度薄膜成形の特徴を持...
株式会社渡辺商行
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FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 ■基本情報 成膜有効幅760mmのガスヘッド2基を搭載し...
株式会社マイクロフェーズ
240人以上が見ています
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粉体表面へのカーボンコート/各種熱処理などに ■目的 Siや黒鉛負極粉末試料の表面にカーボン膜をCVDコートするための回転型管状炉CVD...
株式会社マイクロフェーズ
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ガスのイオン化や前駆体の分解を促進 ■概要 ・横型管状炉熱CVD装置の上流側に、高周波誘導プラズマを発生させることにより、入力ガスあ...
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レーザー描画によるパターン成膜が可能 ■概要 ・市販のファイバーレーザー加工機の試料室に、反応性ガス (炭化水素ガスやアンモニアガ...
株式会社マイクロフェーズ
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連続処理による生産量の大幅向上 ■目的 当社が考案した量産用連続CVD処理方式です。十分長い反応管に処理する試料を縦列に並べて置き、...
入江株式会社
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■概要 グラフェンなど炭化水素系化合物での各種材料開発に適した、管状炉式の高温熱CVD装置です。 ■特徴 大学・研究機関でグラフェンな...
株式会社マイクロフェーズ
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MPCNT-Basicバージョンを拡張し、フィラメント加熱機構やマルチガス導入機構など、 優れた機能を追加した小型CNT合成装置です。 エタノ...
新明和工業株式会社
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■ダイヤモンドコーティングとは ダイヤモンドは、現存する物質で最も硬い材料として、機械的、電気的、化学的、熱伝導特性において非常...
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