アッシング装置についての概要、用途、原理などをご説明します。また、アッシング装置のメーカー7社一覧や企業ランキングも掲載しておりますので是非ご覧ください。アッシング装置関連企業の2024年3月注目ランキングは1位:神港精機株式会社、2位:株式会社アルバック、3位:サムコ株式会社となっています。
アッシング装置は半導体製造などで使用されているレジストなどを除去する装置です。アッシングは灰にするという意味があり、文字通りプラズマやオゾンなどを使用してレジストなどを灰にして取り払ってしまいます。
半導体製造におけるレジストとは保護膜のことであり、シリコンウェハ表面に塗布された後に特定の部分のみ感光されて微細構造が作られます。そして、役目が終わった後には取り去れらます。
半導体製造ではアッシング装置はシリコンウェハの処理に使用しますので、シリコンウェハが搬送可能な大掛かりな装置になっています。
アッシング装置は半導体製造工程におけるイオンインプラントの剥離やレジストなどのポリマーの除去、CCDを製造する際のカラーフィルターの除去などに使用されています。
アッシング方法には二種類あり、プラズマを用いてアッシングするプラズマアッシングとオゾンを用いて炭化水素と反応させてアッシングするオゾンアッシングがあります。メジャーな方法は酸素をプラズマ上にして反応性を高めることによりアッシング効果が高くなるプラズマアッシングです。
プラズマは電離したガスであり、高い反応性を有しています。酸素をプラズマ状にすると、炭素や水素と非常によく反応しますので、酸素プラズマ中に炭化水素のポリマー、例えばプラスチックなどを入れておくと見る見るうちに消えていきます。
純粋な炭化水素は炭素と水素のみで構成されてていますので、酸素と反応した後は水と二酸化炭素が放出され、反応後には何も残りません。半導体製造用のレジストは炭化水素のポリマーで出来ていますが、その中には添加剤や溶剤、感光剤などが含まれていますので、これをアッシングする場合はレジストに合わせた最適なプラズマの条件が必要になります。
オゾンアッシングは酸素分子をプラズマにして活性化させるのではなく、酸素分子から反応性の高いオゾンを作り出して反応室に導入されます。この際、紫外線を照射することでオゾンからさらに反応性の高い酸素ラジカルと呼ばれる原子状の酸素を作り出してレジストと反応させています。
酸素プラズマと酸素ラジカルの違いですが、酸素プラズマは酸素原子がある割合で陽イオンになっていますが、酸素ラジカルは電気的に中性ですので酸素プラズマの方が反応性は高くなります。
参考文献
https://www.ulvac.co.jp/products/ashing_system/luminous_na_series/index.html
https://www.screen.co.jp/spe/technical/guide/resist
*一部商社などの取扱い企業なども含みます。
2024年3月の注目ランキングベスト7
注目ランキング導出方法順位 | 会社名 | クリックシェア |
---|---|---|
1 | 神港精機株式会社 |
20.0%
|
2 | 株式会社アルバック |
20.0%
|
3 | サムコ株式会社 |
12.5%
|
4 | ヤマト科学株式会社 |
8.8%
|
5 | 株式会社モリエンジニアリング |
6.3%
|
6 | アペックス株式会社 |
6.3%
|
7 | ヤマトマテリアル株式会社 |
6.3%
|
注目ランキング導出方法について
注目ランキングは、2024年3月のアッシング装置ページ内でのクリックシェアを基に算出しています。クリックシェアは、対象期間内の全企業の総クリック数を各企業のクリック数で割った値を指します。社員数の規模
設立年の新しい会社
歴史のある会社
2 点の製品がみつかりました
ジャパンクリエイト株式会社
180人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
■概要 最大8インチ基板を全自動で連続処理することが可能な量産装置です。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、ア...
株式会社魁半導体
130人以上が見ています
最新の閲覧: 16時間前
100.0% 返答率
■製品概要 ・ハンディタイプで扱いが容易 ・コントロールボックスは卓上タイプの省スペース ・使用するガスによって 親水化 ・空気でプ...