アッシング装置メーカー6社

アッシング装置のメーカー6社一覧や企業ランキングを掲載中！アッシング装置関連企業の2025年9月注目ランキングは1位:神港精機株式会社、2位:アペックス株式会社、3位:サムコ株式会社となっています。アッシング装置の概要、用途、原理もチェック！

アッシング装置とは

アッシング装置は半導体製造などで使用されているレジストなどを除去する装置です。アッシングは灰にするという意味があり、文字通りプラズマやオゾンなどを使用してレジストなどを灰にして取り払ってしまいます。

半導体製造におけるレジストとは保護膜のことであり、シリコンウェハ表面に塗布された後に特定の部分のみ感光されて微細構造が作られます。そして、役目が終わった後には取り去れらます。

半導体製造ではアッシング装置はシリコンウェハの処理に使用しますので、シリコンウェハが搬送可能な大掛かりな装置になっています。

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6社アッシング装置メーカー

- - 神港精機株式会社メーカー
    アッシング装置一覧
  - 会社サイト創業: 1949年従業員数: 194人資本金: 375,000,000円会社詳細
  - 住所: 兵庫県神戸市西区高塚台3丁目1番35号
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- - ミヤ通信工業株式会社メーカー
    枚葉アッシング装置
  - 会社サイト創業: 1969年従業員数: 116人会社詳細
  - 住所: 山梨県上野原市上野原8154-36
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- - JAPAN BLUE株式会社メーカー
    半導体洗浄装置
  - 会社サイト創業: 2008年会社詳細
  - 住所: 京都府木津川市吐師中ノ中条52番地
  まとめて問合せ・見積
- - サムコ株式会社メーカー
    ドライ洗浄装置一覧
  - 会社サイト上場(東証プライム) 創業: 1979年従業員数: 173人資本金: 1,663,687,000円会社詳細
  - 住所: 京都府京都市伏見区竹田藁屋町36番地
- - アペックス株式会社メーカー商社・代理店
    自動制御機器(半導体製造装置)一覧
  - 会社サイト創業: 1975年従業員数: 132人会社詳細
  - 住所: 東京都港区西麻布3-23-7
  まとめて問合せ・見積
- - ヤマト科学株式会社商社・代理店
    PBシリーズ
  - 会社サイト創業: 1889年従業員数: 745人資本金: 100,000,000円会社詳細
  - 住所: 東京都中央区晴海1-8-11晴海トリトンスクエアＹ棟36階

アッシング装置 2025年9月のメーカーランキング

2025年9月の注目ランキングベスト6

順位	会社名	クリックシェア
1	神港精機株式会社	26.7%
2	アペックス株式会社	20.0%
3	サムコ株式会社	16.7%
4	ミヤ通信工業株式会社	13.3%
5	JAPAN BLUE株式会社	13.3%
6	ヤマト科学株式会社	10.0%

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📔 アッシング装置の基礎知識

アッシング装置とは

半導体製造ではアッシング装置はシリコンウェハの処理に使用しますので、シリコンウェハが搬送可能な大掛かりな装置になっています。

アッシング装置の使用用途

アッシング装置は半導体製造工程におけるイオンインプラントの剥離やレジストなどのポリマーの除去、CCDを製造する際のカラーフィルターの除去などに使用されています。

アッシング方法には二種類あり、プラズマを用いてアッシングするプラズマアッシングとオゾンを用いて炭化水素と反応させてアッシングするオゾンアッシングがあります。メジャーな方法は酸素をプラズマ上にして反応性を高めることによりアッシング効果が高くなるプラズマアッシングです。

アッシング装置の原理

プラズマは電離したガスであり、高い反応性を有しています。酸素をプラズマ状にすると、炭素や水素と非常によく反応しますので、酸素プラズマ中に炭化水素のポリマー、例えばプラスチックなどを入れておくと見る見るうちに消えていきます。

純粋な炭化水素は炭素と水素のみで構成されてていますので、酸素と反応した後は水と二酸化炭素が放出され、反応後には何も残りません。半導体製造用のレジストは炭化水素のポリマーで出来ていますが、その中には添加剤や溶剤、感光剤などが含まれていますので、これをアッシングする場合はレジストに合わせた最適なプラズマの条件が必要になります。

オゾンアッシングは酸素分子をプラズマにして活性化させるのではなく、酸素分子から反応性の高いオゾンを作り出して反応室に導入されます。この際、紫外線を照射することでオゾンからさらに反応性の高い酸素ラジカルと呼ばれる原子状の酸素を作り出してレジストと反応させています。

酸素プラズマと酸素ラジカルの違いですが、酸素プラズマは酸素原子がある割合で陽イオンになっていますが、酸素ラジカルは電気的に中性ですので酸素プラズマの方が反応性は高くなります。

参考文献
https://www.ulvac.co.jp/products/ashing_system/luminous_na_series/index.html
https://www.screen.co.jp/spe/technical/guide/resist

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6社アッシング装置メーカー

神港精機株式会社 メーカー アッシング装置一覧

ミヤ通信工業株式会社 メーカー 枚葉アッシング装置

JAPAN BLUE株式会社 メーカー 半導体洗浄装置

サムコ株式会社 メーカー ドライ洗浄装置 一覧

アペックス株式会社 メーカー 商社・代理店 自動制御機器(半導体製造装置)一覧

ヤマト科学株式会社 商社・代理店 PBシリーズ

アッシング装置 2025年9月のメーカーランキング

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ウェーハ自動剥離装置（剥離洗浄機）PWD2020

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TPH 基板レジスト剥離装置 SLS-300

📔 アッシング装置の基礎知識

アッシング装置とは

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アッシング装置の原理

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