制御・計測・センシング
駆動・機械要素・電子制御部品
産業別カテゴリ
電源・エネルギー・熱処理機器
安全・保護・環境対策
材料・素材・ケミカル
電気・電子部品
構造部品・締結要素
ソフトウェア・ネットワーク
サービス
その他
全てのカテゴリ
閲覧履歴
基板ドラムサイズ
φ1,800 x 1,500mm
ラジカル源
ICP RFラジカル源 x3基
スパッタ源
Dual Cathode 68″ Rotary cathode
排気システム
【CH-1】あらびきユニット 【CH-2】14 インチTMP x 6、マイスナトラップ、あらびきユニット
型番
RAS-2200取扱企業
株式会社シンクロンカテゴリ
もっと見る
スパッタリング装置の製品120点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
| 商品画像 | 価格 (税抜) | 基板ドラムサイズ | ラジカル源 | スパッタ源 | 排気システム | オプション |
|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
要見積もり | φ1,800 x 1,500mm | ICP RFラジカル源 x3基 | Dual Cathode 68″ Rotary cathode | 【CH-1】あらびきユニット 【CH-2】14 インチTMP x 6、マイスナトラップ、あらびきユニット |
AFS機構・CH-2、基板加熱機構・CH-1 |
スパッタリング装置の中でこの商品と同じ値をもつ製品
スパッタ方式がRFスパッタ型の製品
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800
