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基板ドラムサイズ
Φ1,100mm×230mm
ラジカル源
ICP RF電源
スパッタ源
Dual cathode・18”×5”Planer cathode
排気システム
【CH-1】あらびきユニット 【CH-2】14インチTMP×2 マイスナトラップ あらびきユニット
型番
RAS-1100C取扱企業
株式会社シンクロンカテゴリ
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スパッタリング装置の製品120点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 基板ドラムサイズ | ラジカル源 | スパッタ源 | 排気システム | オプション |
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要見積もり | Φ1,100mm×230mm | ICP RF電源 | Dual cathode・18”×5”Planer cathode | 【CH-1】あらびきユニット 【CH-2】14インチTMP×2 マイスナトラップ あらびきユニット |
OPM-Z1/Rotary cathode/CH-1ターゲット/CH-1 AFS機構/CH-1 高真空排気系/遊星回転基板ドラム |
スパッタリング装置の中でこの商品と同じ値をもつ製品
スパッタ方式がRFスパッタ型の製品
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800
