半導体製造

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株式会社トゥーリーズ

XCSW製化合物・半導体結晶 Si結晶基板・シリコンウェハ

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■XCSW社 XCSW社は1990年中国アモイで設立した化合物半導体材料企業です。Ga,Al,In,As,PをベースにしたⅢ-Ⅴ族シリコンドープn型半導体上に、第1世代Geウェハ、...

2種類の品番

株式会社トゥーリーズ

XCSW製化合物・半導体結晶 FZ法シリコンウェハ

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Semi Next株式会社

LD (レーザーダイオード) COCバーンイン装置

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■生産効率大幅アップ。治具ごとに自由にバーンイン条件を設定でき、研究開発にも便利『LD (レーザーダイオード) COC バーンイン装置』は、チャンバー式では...

ハイソル株式会社

卓上型マニュアルディープアクセスウエッジボンダー MODEL-7476D (7600D仕様)

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■概要モデル7476D (7600D仕様) は卓上型のマニュアルウエッジワイヤーボンダーです。新機構X-Y-Z 3軸マニピュレーター (特許) を標準装備しておりますので...

株式会社トゥーリーズ

XCSW製化合物・半導体結晶 CZ法シリコンウェハ

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XCSW製化合物・半導体結晶エッチングシリコンウェハ

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株式会社ファイコーポレーション

ウエットライン装置メッキ後処理ライン

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■装置概要メッキ後のワークを防錆処理し、水洗・乾燥を行う装置です。薄いワーク・厚いワークを両方流すため、タッチパネルの切り替えによってポンプの吐出...

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株式会社電子技研

枚葉エッチング装置

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■概要 LCD等の基板を水平搬送にて、エッチング／シャワー洗浄／乾燥処理を行います。 ■特徴・ディップ、スプレー及び揺動機能方式エッチングによる均一なプ...

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株式会社アドテックエンジニアリング

PCB製造関連装置ナーリングレスオートピーラー

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■製品概要特許出願中の新技術で、ドライフィルムソルダーレジストやABF、ドライフィルムレジスト等の難剥離フィルムの自動剥離が可能です。 ■様々なワーク...

株式会社八光電機

熱風工具基板レジスト乾燥炉

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■特徴・バッチ式で均熱乾燥ができます。・タイマー機能により、昇温、乾燥、冷却、停止の全行程が自動運転で行えます。・ワーク用台車が直接入れられ、作...

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神港精機株式会社

薄膜形成装置マルチチャンバスパッタリング装置

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Siウェハ・ガラス・セラミックス等基板・用途を問わず柔軟に対応可能な最新型スパッタリング装置です。 1991年に発表されたR&D用マルチチャンバスパッタリン...

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株式会社ピーエムティー

マスクレス露光装置 DMDの高速時間変調で256階調のグレースケール露光が可能マスクレス露光装置 D-light DL-1000

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マスクレス露光装置 D-Light DL-1000 は、露光によって半導体ウェハなどにパターンを描画する装置です。DMD (Digital Micromirror Device) と呼ばれる表示素...

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株式会社東京ウエルズ

テストハンドラー MMVH

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主に半導体デバイスに対して、電気や光といった機能が正常に働くか性能を評価し、良否判定するための装置です。対象となる製品の特性に合わせ、幅広い検査項...

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株式会社八光電機

均熱加熱工具熱板式リフロー半田付装置

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■特徴・冷却ユニット付き連続リフロー炉・治具を使用して多量の半田付けを行います。・4つの均熱板と、1つの冷却ゾーンを持つリフロー半田付け装置です。 ...

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株式会社信光社

薄膜成長用酸化物基板酸化チタン (ルチル)

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■弊社は1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板としてSrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けています。エピタキシャル成長...

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