XCSW製 化合物・半導体結晶 エッチングシリコンウェハ 株式会社トゥーリーズ
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この製品について
■XCSW社
XCSW社は1990年中国アモイで設立した化合物半導体材料企業です。Ga,Al,In,As,PをベースにしたⅢ-Ⅴ族シリコンドープn型半導体上に、第1世代Geウェハ、第2世代ガリウムひ素を基板成長エピタキシャル技術を開発しました。現在はMBE又はMOCVDによってLED,パワーデバイス用SiCやGaNを取り扱っております。■特徴
・粗さを低く抑えつつ、良好な光沢及び低コストを特徴としたシリコンウェハです。価格を抑えるために研磨ウェハやエピタキシャルウェハの代用品として活用されます。低ラフネス、低反射率、高反射率などいくつかのエッチングウェハがございます。 ・エッチングウェハーは低粗さ、良好な表面光沢、低コストを有したSiウェハーです。電子素子や部品を製造時に使用する研磨ウェハやエピタキシャルウェハの試験的代替品として有効です。-
シリーズ
XCSW製 化合物・半導体結晶 エッチングシリコンウェハ
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取扱企業
株式会社トゥーリーズ
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XCSW製 化合物・半導体結晶 エッチングシリコンウェハ 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) |
|---|---|---|
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FZ-Siエッチングウェハ |
要見積もり |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
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