半導体製造

■半導体向け/ASTE (アステ) エッチング後のポリマ除去/ウェハ上の異物除去に有効 ■高価なアミン系剥離剤がいらない アミン系剥離剤の代わりに蒸気を使うこ...

2種類の品番

• 半導体製造

• 洗浄装置

■レジスト剥離/AURORA (オーロラ) 硫酸、有機溶剤などの危険な化学薬品をなくすことが可能 ■硫酸がいらない 高ドーズイオン注入後のレジスト剥離が危険な薬...

2種類の品番

• 半導体製造

• 洗浄装置

ALDER-800Pはプラスチック基板への光学多層成膜を可能としたプラズマALD装置です。 ■特長 ・レンズ全周や3D構造物へのコンフォーマル成膜 ・Al2O3、TiO2、Si...

2種類の品番

• 半導体製造

• ALD装置

ALDER-800T (A800T) は大容量ロードロック機構を有し、高いスループット、高い均一性、優れた再現性を実現するサーマルモードALD装置です。 ■特長 ・LED用途...

2種類の品番

• 半導体製造

• ALD装置

ALDER-1000は従来の成膜手法では成しえなかった光学特性を実現します。立体形状への成膜が可能で、カメラレンズへのAR膜はゴースト・フレアの消えた鮮明な映...

2種類の品番

• 半導体製造

• ALD装置

■複雑な形状の基板への成膜に最適 ALD (AtomicLayerDeposition) 法は従来のCVD,PVDに比べ「ピンホールフリー」、「段差被覆性」、「精密な膜厚制御性」、「膜...

• 半導体製造

• ALD装置

コーティングスプレーバルブSV01Sは、30,000mPa・s程度までの高粘度液剤のスプレー塗布が可能です。 これまで飛散抑制が困難であったシリコン・UV・グリスと...

3種類の品番

• 半導体製造

• スプレー塗布装置

■装置概要 本装置は、4/5/6及び8インチ・ウェハーに対応しており、プラズマCVD法によってウェハーに酸化シリコン膜及び窒化シリコン膜を形成するものです。基...

2種類の品番

• 半導体製造

• プラズマCVD装置

■概要 何十年も放置されてきたSRDの弱点に注目し、SRDをより使いやすいものにしたのがRENAのCOMPASSです。実績豊富なIDXソフトウェアを掲載したCOMPASSは工場...

• 半導体製造

• 半導体洗浄装置

■概要 Solanoは標準的なすべてのタイプのFOUPとFOSBのパーティクルを除去するセミオートクリーナーです。回転式カルーセルを搭載したHOT DIWスプレークリーニ...

• 半導体製造

• 半導体洗浄装置

■概要 省スペースながら精密なパフォーマンス。Advancerシリーズは、モジュール式で設置が容易なロボット搬送の半自動ウェットプロセッサーです。 ■生産性 ...

• 半導体製造

• 半導体洗浄装置

■概要 省スペースなマルチステップ ウェットプロセッサー。RENAのマルチステップウェットプロセッサー、Revolutionは回転式ロボット設計と精密工学を採用し、...

• 半導体製造

• 半導体洗浄装置

■概要 GaSonics製 アッシング装置

• 半導体製造

• アッシング装置

■概要 Inception 枚葉式スピンプロセッサー。 特長 ■R＆Dからパイロット生産への移行に適切なInception ・量産ベースとなるプロセス開発に安定したプロセス...

• 半導体製造

• 半導体洗浄装置

■概要 早くて正確な半導体製造プロセス。柔軟度が高く正確なプロセスコントロール。200mmもしくは300mmウェハー用の自動ウェットプロセシングシステムである...

• 半導体製造

• 半導体洗浄装置