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株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ

豊富な実績を誇るSSシリーズの安定性・信頼性を継承した先進のスピンスクラバ スピンスクラバ SS-80EX

20人以上が見ています

特長 ■高生産性 長年にわたるスピンスクラバ技術を踏襲しながら、機能性をさらに向上。最大毎時160枚 (弊社現行機比111%) ※の高速処理を可能にしました。※シ...

2種類の品番

豊富な実績を誇るSSシリーズの安定性・信頼性を継承した先進のスピンスクラバ スピンスクラバ SS-80EX
豊富な実績を誇るSSシリーズの安定性・信頼性を継承した先進のスピンスクラバ スピンスクラバ SS-80EX

株式会社弘輝

ギ酸還元真空リフロー用ソルダーペースト E14シリーズ

電子・電気機器業界用 航空・宇宙業界用 自動車・輸送用機器業界用

20人以上が見ています

最新の閲覧: 18時間前

超低ボイド、かつ無残渣を実現したギ酸リフロー用のソルダーペーストであり、はんだ箔の代替が可能です。 リフロー後のフラックスは無残渣となり、ワイヤーボ...

3種類の品番

ギ酸還元真空リフロー用ソルダーペースト E14シリーズ
ギ酸還元真空リフロー用ソルダーペースト E14シリーズ
ギ酸還元真空リフロー用ソルダーペースト E14シリーズ

株式会社トラスト

真空リフロー RNV152M-512-LE

10人以上が見ています

■特徴 ・はんだボイドを大幅に削減 ・量産に最適な連続投入インライン搬送 ・上下熱風循環加熱方式 ・環境にやさしい超低消費電力、高断熱仕様 (約40%省エネ)...

3種類の品番

真空リフロー RNV152M-512-LE
真空リフロー RNV152M-512-LE
真空リフロー RNV152M-512-LE

株式会社トラスト

高性能N2リフロー装置 RN152LL-102

10人以上が見ています

■特徴 ・驚異的なフラックス回収性能 ・フラックス付着垂れ問題を飛躍的に低減 ・新型ノズルによる温度均一性の向上 ・簡単なラビリンスの高さ調整 ・環境と...

3種類の品番

高性能N2リフロー装置 RN152LL-102
高性能N2リフロー装置 RN152LL-102
高性能N2リフロー装置 RN152LL-102

株式会社テクノビジョン

洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TWE-200

40人以上が見ています

■製品概要 フォトマスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件。半導体製造工程で使用されるパターンをガラス等に形成し原版とするフォトマスクには、...

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洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TWE-200
洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TWE-200

株式会社トラスト

真空リフロー RNV152M-612-WD

10人以上が見ています

■特徴 ・はんだボイドを大幅に削減 ・量産に最適な連続投入インライン搬送 ・上下熱風循環加熱方式 ・環境にやさしい超低消費電力、高断熱仕様 (約40%省エネ)...

3種類の品番

真空リフロー RNV152M-612-WD
真空リフロー RNV152M-612-WD
真空リフロー RNV152M-612-WD

株式会社トラスト

N2リフロー装置 NJ0611M-82

10人以上が見ています

■特徴 ・精細で高品質な加熱性能 ・低消費電力 (従来機の40%減) ・大容量、高効率フラックス回収 ・作業環境に配慮した断熱設計

3種類の品番

N2リフロー装置 NJ0611M-82
N2リフロー装置 NJ0611M-82
N2リフロー装置 NJ0611M-82

株式会社テクノビジョン

洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TW-300

30人以上が見ています

■製品概要 フォトマスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件。半導体製造工程で使用されるパターンをガラス等に形成し原版とするフォトマスクには、...

2種類の品番

洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TW-300
洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TW-300

株式会社トラスト

真空リフロー RNV152M-612-LE

10人以上が見ています

■特徴 ・はんだボイドを大幅に削減 ・量産に最適な連続投入インライン搬送 ・上下熱風循環加熱方式 ・環境にやさしい超低消費電力、高断熱仕様 (約40%省エネ)...

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真空リフロー RNV152M-612-LE
真空リフロー RNV152M-612-LE
真空リフロー RNV152M-612-LE

株式会社トラスト

N2リフロー装置 NJ0611M-102

10人以上が見ています

■特徴 ・精細で高品質な加熱性能 ・低消費電力 (従来機の40%減) ・大容量、高効率フラックス回収 ・作業環境に配慮した断熱設計

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N2リフロー装置 NJ0611M-102
N2リフロー装置 NJ0611M-102
N2リフロー装置 NJ0611M-102

株式会社テクノビジョン

洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TW-700

20人以上が見ています

最新の閲覧: 21時間前

■製品概要 フォトマスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件。半導体製造工程で使用されるパターンをガラス等に形成し原版とするフォトマスクには、...

2種類の品番

洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TW-700
洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TW-700

エルテック株式会社

全自動ワイヤーボンダー 超音波自動ボンダー M17シリーズ

30人以上が見ています

超音波ワイヤーボンダーM17シリーズは、高度で進化する様々な技術要求にも対応できる様、装置に柔軟性を持たせ、低コストでアップグレードや改造ができること...

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全自動ワイヤーボンダー 超音波自動ボンダー M17シリーズ
全自動ワイヤーボンダー 超音波自動ボンダー M17シリーズ

株式会社トラスト

真空リフロー RSV152M-512-WD

10人以上が見ています

■特徴 ・はんだボイドを大幅に削減 ・量産に最適な連続投入インライン搬送 ・上下熱風循環加熱方式 ・環境にやさしい超低消費電力、高断熱仕様 (約40%省エネ)...

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真空リフロー RSV152M-512-WD
真空リフロー RSV152M-512-WD
真空リフロー RSV152M-512-WD

株式会社トラスト

N2リフロー装置 NJ0611L-82

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■特徴 ・精細で高品質な加熱性能 ・低消費電力 (従来機の40%減) ・大容量、高効率フラックス回収 ・作業環境に配慮した断熱設計

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N2リフロー装置 NJ0611L-82
N2リフロー装置 NJ0611L-82
N2リフロー装置 NJ0611L-82

株式会社テクノビジョン

洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TW-1000

30人以上が見ています

■製品概要 フォトマスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件。半導体製造工程で使用されるパターンをガラス等に形成し原版とするフォトマスクには、...

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洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TW-1000
洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TW-1000

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