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成膜装置 メーカー32社

成膜装置のメーカー32社一覧企業ランキングを掲載中!成膜装置関連企業の2025年6月注目ランキングは1位:ジャパンクリエイト株式会社、2位:長州産業株式会社、3位:株式会社TMEICとなっています。 成膜装置の概要、用途、原理もチェック!

32成膜装置メーカー

成膜装置 2025年6月のメーカーランキング


144 点の製品がみつかりました

144 点の製品

1

ナノテック株式会社

DLC成膜装置<NANOCOATシリーズ>

840人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

ダイヤモンドの性質に近い高硬度 (マイクロビッカース硬度2,000~4, 000) 、低摩擦係数 (μ=0.2以下) 、表面平滑性及び耐溶着性・離...

3種類の品番

NANOCOAT-500-DLC成膜装置<NANOCOATシリーズ>
NANOCOAT-800-DLC成膜装置<NANOCOATシリーズ>
NANOCOAT-1000-DLC成膜装置<NANOCOATシリーズ>

2

ナノテック株式会社

ICF成膜装置

790人以上が見ています

最新の閲覧: 18分前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

DLCを含む高機能性を持つカーボン膜による超鏡面性,導電性,耐熱性,撥水性,アルミニウム合金用,光学用,絶縁性,環境調和型を付与したコー...

3種類の品番

ICF-500-ICF成膜装置
ICF-800-ICF成膜装置
ICF-1000-ICF成膜装置

3

ナノテック株式会社

PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>

780人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

イオン化蒸着法によるDLC成膜を基本として、幅広いアプリケーションに対応すべく新開発のPSII電源を標準で搭載し、その放電パラーメータ...

3種類の品番

NPS-500-PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>
NPS-800-PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>
NPS-1000-PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>

4

ナノテック株式会社

マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>

710人以上が見ています

最新の閲覧: 19時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

16.8時間 返答時間

低摩擦係数で高硬度を持つダイヤモンド・ライク・カーボン (DLC) 膜の生成をベースに各種蒸発源を併用することによりDLC膜の密着力の...

3種類の品番

DASH-500-マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>
DASH-800-マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>
DASH-1000-マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>

5

協和界面科学株式会社

学生実習用のコンパクトなLB膜作製装置 LB膜作製装置・塗布油量計 HBM-ED

550人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信のとても早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

4.8時間 返答時間

■学生実習用のコンパクトなLB膜作製装置 不溶性単分子の表面膜圧 (π‐A曲線) ・累積膜の実習を通じ、目に見えない分子を身近に感じ、分...


6

ハイソル株式会社

卓上型真空ベーク・HMDS蒸着装置 310TA

520人以上が見ています

最新の閲覧: 20時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

本装置はHMDS (ヘキサメチルジシラザン) の蒸着成膜 (ベーパープライミング) に特化しており、装置の各種パラメータはあらかじめHMDS専...


7

ハイソル株式会社

卓上型シランCVD成膜装置 EcoCoat (エココート)

460人以上が見ています

最新の閲覧: 13時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

プラズマ洗浄~ワーク脱水 (デハイドレーション) ~シランCVD~ガス排出までチャンバー内で自動一括処理できる、R&D向けの卓上型シランC...


8

ジャパンクリエイト株式会社

圧電膜形成スパッタリング装置

化学業界用 電子・電気機器業界用

410人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

129.3時間 返答時間

■特徴 ・単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜が可能 ・プラズマエミッションモニターを搭載により圧電特性低下に寄与...


9

アリオス株式会社

ダイヤモンド合成用MP-CVD装置 DCVD-301B/601B

390人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.4時間 返答時間

■概要 本装置は、ダイヤモンド生産用のマイクロ波プラズマCVD装置です。当社独自のプラズマ技術を駆使し、大面積かつ高速成長を実現しま...


10

アルバック販売株式会社

有機EL成膜装置 SOLCIET,SATELLA,ZELDAシリーズ

390人以上が見ています

最新の閲覧: 6時間前

100.0% 返答率

239.7時間 返答時間

■概要 アルバックは、有機ELに向けた材料開発用実験システムから量産用クラスターシステム、インラインシステムをラインアップしており...


11

アリオス株式会社

小型スパッタ装置 SS-DC RF301

340人以上が見ています

最新の閲覧: 33分前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.4時間 返答時間

■概要 小型スパッタ装置 SS-DC RF301 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色...


12

北野精機株式会社

有機EL試作用デバイス製造装置 有機EL成膜・評価装置Ⅰ OED R&D SystemⅠ

330人以上が見ています

最新の閲覧: 15時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.8時間 返答時間

■特徴 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1~3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド...


13

ハイソル株式会社

卓上型真空ベーク・HMDS蒸着装置 58TA

320人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.3時間 返答時間

本装置はHMDS (ヘキサメチルジシラザン) の蒸着成膜 (ベーパープライミング) に特化しており、装置の各種パラメータはあらかじめHMDS専...


14

北野精機株式会社

薄膜作製装置 マグネトロン・スパッタリング蒸着装置

310人以上が見ています

最新の閲覧: 37分前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.8時間 返答時間

■特徴 本装置はDCマグネトロンスパッタ源を用いたブレーナー型マグネトロンスパッタリング超高真空薄膜作製装置です。均一な成膜が可能...


15

株式会社エピクエスト

MBE装置 小型研究用 RC1100

310人以上が見ています

最新の閲覧: 9時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

18.7時間 返答時間

パーソナルユースに。低価格、省スペース、しかも高性能を実現した研究用MBE装置です。小型機ながら本格的な研究が可能です。STMなどの...


16

北野精機株式会社

薄膜作製装置 PVD装置 ハイブリッド蒸着装置

310人以上が見ています

最新の閲覧: 9時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.8時間 返答時間

■特徴 本装置はPVD手法からなるマグネトロンスパッタ源4個とEB蒸着源2個とMBE用K-CELL装備したハイブリッド型蒸着装置です。高融点材料...


17

アリオス株式会社

ダイヤモンド合成用HF-CVD装置 HFCVDシリーズ

300人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.4時間 返答時間

■概要 本装置は、ダイヤモンド合成を本格的に行うためのホットフィラメント型CVD装置です。基本システムに加え各種オプションを選択する...


18

アリオス株式会社

粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置

300人以上が見ています

最新の閲覧: 6時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.4時間 返答時間

■概要 本装置は、試料の表面に均一に成膜させるため、ドラム型の試料ホルダに試料を入れ、回転させながら成膜を行います。試料ホルダの...


19

北野精機株式会社

有機EL試作用デバイス製造装置 有機薄膜簡易蒸着装置 OTFS R&D System

300人以上が見ています

最新の閲覧: 22分前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.8時間 返答時間

■特徴 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1~3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド...


20

アリオス株式会社

プラズマCVD実験装置 PCVD-R100

290人以上が見ています

最新の閲覧: 14時間前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

2.4時間 返答時間

■概要 CVDとは、Chemical Vapor Deposition (化学蒸着装置) の略称で、ガスで原料を供給し、これをプラズマや熱などで分解し、その成分...


21

株式会社MPS

熱フィラメントCVD装置

290人以上が見ています

最新の閲覧: 22時間前

100.0% 返答率

57.6時間 返答時間

■概要 実験用の熱フィラメントCVD装置です。貴社のご要望に応じて装置を設計します。


22

北野精機株式会社

有機EL試作用デバイス製造装置 有機材料開発用成膜装置 KVD-OLED Evo.Cluster

280人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.8時間 返答時間

■用途 ・有機EL材料開発 ・高分子材料開発 ・燐光材料開発 ・有機薄膜太陽電池開発 ・有機電子デバイス開発など ■特徴 ・3軸ロボット機...


23

北野精機株式会社

有機EL試作用デバイス製造装置 有機材料開発用成膜装置 KVD-OLED Evo.3

280人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.8時間 返答時間

■用途 ・有機EL材料開発 ・高分子材料開発 ・燐光材料開発 ・有機薄膜太陽電池開発 ・有機電子デバイス開発など ■特徴 ・有機材料と金...


24

北野精機株式会社

薄膜作製装置 4元マグネトロンスパッタリング装置

270人以上が見ています

最新の閲覧: 7時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.8時間 返答時間

本装置はDCマグネトロンスパッタ源を用いたブレーナー型マグネトロンスパッタリング装置です。弊社独自のロードロック室を設けた、超高...


25

北野精機株式会社

有機EL試作用デバイス製造装置 有機EL成膜・評価装置Ⅱ OED R&D SystemⅡ

270人以上が見ています

最新の閲覧: 18時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.8時間 返答時間

■特徴 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1~3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド...


26

北野精機株式会社

有機EL試作用デバイス製造装置 有機材料開発用成膜装置 KVD-OLED Evo.2

260人以上が見ています

最新の閲覧: 15時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.8時間 返答時間

■用途 ・有機EL材料開発 ・高分子材料開発 ・燐光材料開発 ・有機薄膜太陽電池開発 ・有機電子デバイス開発など ■特徴 ・有機材料と金...


27

北野精機株式会社

薄膜作製装置 電子ビーム蒸着装置 大型EB蒸着装置

260人以上が見ています

最新の閲覧: 5時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.8時間 返答時間

■特徴 本装置は電子ビーム (EB) を用いた高融点金属蒸着装置です。本装置には高い材料使用効率と高い膜特性を実現するために自転・公転...


28

北野精機株式会社

有機EL試作用デバイス製造装置 UHV対応型有機EL成膜・評価装置Ⅲ OED R&D SystemⅢ

250人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.8時間 返答時間

■蒸着室/特徴 ・超高真空蒸着 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大9本取付可能 ・基盤サイズ1~3インチと幅広く選択が可能 ・...


29

北野精機株式会社

有機EL試作用デバイス製造装置 有機材料開発用成膜装置 KVD-OLED Evo.1

250人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.8時間 返答時間

■用途 ・有機EL材料開発 ・高分子材料開発 ・燐光材料開発 ・有機薄膜太陽電池開発 ・有機電子デバイス開発など ■特徴 ・搬送機構にて...


30

ユーケーテック株式会社

自動倣い機能付きバーコーター

250人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

0.3時間 返答時間

■詳細 ・被塗布材の起伏が原因で塗膜厚の一定が保たれない問題はありませんか。 ・弊社バーコーターは被塗布材の起伏に追従する機能を装...


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