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成膜装置のメーカー32社一覧や企業ランキングを掲載中！成膜装置関連企業の2025年7月注目ランキングは1位:ジャパンクリエイト株式会社、2位:新明和工業株式会社、3位:ジオマテック株式会社となっています。 成膜装置の概要、用途、原理もチェック！
成膜装置とは、その名の通り膜を作成するための装置のことです。
薄膜の厚さや純度、有機物・無機物に応じて、さまざまな種類の成膜装置が開発されており、例えば半導体関連の材料のように高純度で均一な膜が必要な場合は、高真空の成膜装置が利用されます。
一方、フィルムのような大面積で大量生産が求められる製品に対しては、ロールトゥロール式やバッチ式などの方法が選択されます。また、溶液を乾燥させて成膜する際には、スピンコート式やインクジェット式といった装置が活用され、溶液を塗布した後、乾燥させて成膜を行うことが可能です。
成膜装置は、用途や条件に応じて適切なタイプを選択することが重要です。その選択によって、より効率的で高品質な製品の開発が可能となります。
2025年7月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | ジャパンクリエイト株式会社 |
18.5%
|
| 2 | 新明和工業株式会社 |
11.8%
|
| 3 | ジオマテック株式会社 |
9.2%
|
| 4 | 住友精密工業株式会社 |
5.9%
|
| 5 | 長州産業株式会社 |
5.0%
|
| 6 | JSWアフティ株式会社 |
5.0%
|
| 7 | 株式会社オプトラン |
4.2%
|
| 8 | 株式会社シンクロン |
4.2%
|
| 9 | 大亜真空株式会社 |
3.4%
|
| 10 | 株式会社トヤマ |
3.4%
|
項目別
使用用途
#半導体製造
#光学部品製造
#太陽電池製造
#ディスプレイ製造
#電池材料開発
#センサ開発
#薄膜トランジスタ開発
#表面改質
#機能性材料研究
#MEMS製造
#医療機器製造
#材料評価
到達圧力 Pa
0 - 0.01
0.01 - 1
1 - 10
基板サイズ mm
25 - 50
50 - 100
100 - 150
150 - 200
200 - 300
300 - 400
400 - 500
500 - 650
設置面積 m²
1 - 5
5 - 10
10 - 20
所要電力 kVA
10 - 15
15 - 20
20 - 25
25 - 30
30 - 35
真空槽 mm
500 - 800
800 - 1,000
基板バイアス V
0 - 5,000
5,000 - 25,000
ナノテック株式会社
920人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
16.8時間 返答時間
ダイヤモンドの性質に近い高硬度 (マイクロビッカース硬度2,000～4, 000) 、低摩擦係数 (μ＝0.2以下) 、表面平滑性及び耐溶着性・離...
3種類の品番
ナノテック株式会社
900人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
16.8時間 返答時間
DLCを含む高機能性を持つカーボン膜による超鏡面性,導電性,耐熱性,撥水性,アルミニウム合金用,光学用,絶縁性,環境調和型を付与したコー...
3種類の品番
ナノテック株式会社
860人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
16.8時間 返答時間
イオン化蒸着法によるDLC成膜を基本として、幅広いアプリケーションに対応すべく新開発のPSII電源を標準で搭載し、その放電パラーメータ...
3種類の品番
ナノテック株式会社
780人以上が見ています
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
16.8時間 返答時間
低摩擦係数で高硬度を持つダイヤモンド・ライク・カーボン (DLC) 膜の生成をベースに各種蒸発源を併用することによりDLC膜の密着力の...
3種類の品番
ハイソル株式会社
600人以上が見ています
最新の閲覧: 14時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.5時間 返答時間
本装置はHMDS (ヘキサメチルジシラザン) の蒸着成膜 (ベーパープライミング) に特化しており、装置の各種パラメータはあらかじめHMDS専...
協和界面科学株式会社
590人以上が見ています
最新の閲覧: 22時間前
返信のとても早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
4.4時間 返答時間
■学生実習用のコンパクトなLB膜作製装置 不溶性単分子の表面膜圧 (π‐A曲線) ・累積膜の実習を通じ、目に見えない分子を身近に感じ、分...
ハイソル株式会社
550人以上が見ています
最新の閲覧: 13時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.5時間 返答時間
プラズマ洗浄～ワーク脱水 (デハイドレーション) ～シランCVD～ガス排出までチャンバー内で自動一括処理できる、R&D向けの卓上型シランC...
アリオス株式会社
490人以上が見ています
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返信のとても早い企業
100.0% 返答率
2.4時間 返答時間
■概要 本装置は、ダイヤモンド生産用のマイクロ波プラズマCVD装置です。当社独自のプラズマ技術を駆使し、大面積かつ高速成長を実現しま...
ジャパンクリエイト株式会社
440人以上が見ています
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
129.3時間 返答時間
■特徴 ・単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜が可能 ・プラズマエミッションモニターを搭載により圧電特性低下に寄与...
アリオス株式会社
420人以上が見ています
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100.0% 返答率
2.4時間 返答時間
■概要 小型スパッタ装置 SS-DC RF301 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色...
北野精機株式会社
410人以上が見ています
最新の閲覧: 10時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
■用途 ・有機EL材料開発 ・高分子材料開発 ・燐光材料開発 ・有機薄膜太陽電池開発 ・有機電子デバイス開発など ■特徴 ・3軸ロボット機...
株式会社エピクエスト
400人以上が見ています
最新の閲覧: 19時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
18.7時間 返答時間
パーソナルユースに。低価格、省スペース、しかも高性能を実現した研究用MBE装置です。小型機ながら本格的な研究が可能です。STMなどの...
北野精機株式会社
400人以上が見ています
最新の閲覧: 3時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
■特徴 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1～3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド...
北野精機株式会社
390人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
■特徴 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1～3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド...
アリオス株式会社
380人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
2.4時間 返答時間
■概要 本装置は、試料の表面に均一に成膜させるため、ドラム型の試料ホルダに試料を入れ、回転させながら成膜を行います。試料ホルダの...
北野精機株式会社
380人以上が見ています
最新の閲覧: 20時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
■特徴 本装置はPVD手法からなるマグネトロンスパッタ源4個とEB蒸着源2個とMBE用K-CELL装備したハイブリッド型蒸着装置です。高融点材料...
ハイソル株式会社
370人以上が見ています
最新の閲覧: 19時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.5時間 返答時間
本装置はHMDS (ヘキサメチルジシラザン) の蒸着成膜 (ベーパープライミング) に特化しており、装置の各種パラメータはあらかじめHMDS専...
北野精機株式会社
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返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
■特徴 本装置はDCマグネトロンスパッタ源を用いたブレーナー型マグネトロンスパッタリング超高真空薄膜作製装置です。均一な成膜が可能...
アリオス株式会社
370人以上が見ています
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100.0% 返答率
2.4時間 返答時間
■概要 本装置は、ダイヤモンド合成を本格的に行うためのホットフィラメント型CVD装置です。基本システムに加え各種オプションを選択する...
アリオス株式会社
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100.0% 返答率
2.4時間 返答時間
■概要 CVDとは、Chemical Vapor Deposition (化学蒸着装置) の略称で、ガスで原料を供給し、これをプラズマや熱などで分解し、その成分...
北野精機株式会社
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返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
■用途 ・有機EL材料開発 ・高分子材料開発 ・燐光材料開発 ・有機薄膜太陽電池開発 ・有機電子デバイス開発など ■特徴 ・有機材料と金...
北野精機株式会社
360人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
■用途 ・有機EL材料開発 ・高分子材料開発 ・燐光材料開発 ・有機薄膜太陽電池開発 ・有機電子デバイス開発など ■特徴 ・有機材料と金...
北野精機株式会社
350人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
■特徴 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1～3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド...
北野精機株式会社
330人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
■特徴 本装置は電子ビーム (EB) を用いた高融点金属蒸着装置です。本装置には高い材料使用効率と高い膜特性を実現するために自転・公転...
株式会社MPS
330人以上が見ています
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100.0% 返答率
57.6時間 返答時間
■概要 実験用の熱フィラメントCVD装置です。貴社のご要望に応じて装置を設計します。
北野精機株式会社
330人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
本装置はDCマグネトロンスパッタ源を用いたブレーナー型マグネトロンスパッタリング装置です。弊社独自のロードロック室を設けた、超高...
テルモセラ・ジャパン株式会社
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返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
29.2時間 返答時間
■MiniLab ʻPlug & Playʼ 感覚でコンポーネントを組合せるモジュラーデザイン。必要な成膜条件を満たす専用機のセミカスタムメイドが可能...
北野精機株式会社
320人以上が見ています
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100.0% 返答率
25.1時間 返答時間
■用途 ・有機EL材料開発 ・高分子材料開発 ・燐光材料開発 ・有機薄膜太陽電池開発 ・有機電子デバイス開発など ■特徴 ・搬送機構にて...
北野精機株式会社
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■蒸着室/特徴 ・超高真空蒸着 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大9本取付可能 ・基盤サイズ1～3インチと幅広く選択が可能 ・...
株式会社C&Vテクニクス
310人以上が見ています
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100.0% 返答率
75.6時間 返答時間
■C&Vテクニクスの成膜装置ロールコーターとは ロールコーターとは、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に表面処理する装置の...
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