ICF-500 | ICF成膜装置
ナノテック株式会社
価格 (税抜)
ナノテック株式会社の対応状況
返答率
100.0%
平均返答時間
9.9時間
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冷却水
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所要電力
排気系
排気速度
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有効エリア(mm)
真空槽(mm)
装置制御
設置面積(Ｍ)
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型番
ICF-500
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シリーズ
ICF成膜装置
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取扱企業
ナノテック株式会社
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ICF成膜装置 ICF-500の性能表
| 商品画像 | 価格 (税抜) | 冷却水 | 到達圧力 | 圧縮空気 | 基板バイアス | 基板ホルダー | 基板加熱機構 | 所要電力 | 排気系 | 排気速度 | 搭載放電システム | 有効エリア(mm) | 真空槽(mm) | 装置制御 | 設置面積(Ｍ) |
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要見積もり | 3kgf/cm220~40L/min | 6.7E-4Pa以下 | 6kgf/cm2以上 | MAX3,000V500mA | 自公転式(製品形状に応じて特注製作可能) | オプション(シースヒーター、ランプヒーター等) | 3φ200V10kVA | ターボ分子ポンプ＋ロータリーポンプ | 6.7E-3Pa以下まで30分以内 | DLCイオン源(イオン化蒸着源) | φ200×200L | 500W×500W×600H | レシピ画面設定による完全自動運転 | 2.5W×3.0D×2.5H |
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のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
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