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半導体製造に含まれる33カテゴリ一覧です。半導体露光装置・半導体製造装置・露光装置など幅広く、製品・メーカー・代理店を探すことができます。
1,217 点の製品中 7ページ目
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ミヤ通信工業株式会社
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■概要 半導体ウェーハプロセスにおいてウェーハ上に回路を作るマスクとして使用するフォトレジストを剥離する装置です。用途に合わせてお選びいただけます。...
2種類の品番
ミヤ通信工業株式会社
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■概要 半導体ウェーハプロセスにおいてウェーハ上に回路を作るマスクとして使用するフォトレジストを剥離する装置です。用途に合わせてお選びいただけます。...
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ミヤ通信工業株式会社
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■概要 半導体ウェーハプロセスにおいてウェーハ上に回路を作るマスクとして使用するフォトレジストを剥離する装置です。用途に合わせてお選びいただけます。...
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株式会社山縣機械
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■主な用途 ・工業高校などのプリント基板制作実習 ・プリント基板の試作・小ロット生産 ・その他さまざまな露光テストなど ■特長 ・瞬時点灯式メタルハライ...
株式会社エイチ・ティー・エル
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テーブルトップのコンパクトサイズながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。直径200mm、高さ約25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ (CNT) やグラフェンに...
株式会社エイチ・ティー・エル
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スタンダードなサーマル式卓上型ALD装置。幅広い材料で高品質な成膜、高いステップカバレージの成膜が可能。 ■特長 ・小型でコンパクトな卓上タイプのALD装...
株式会社エイチ・ティー・エル
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最新の閲覧: 1日前
後付けでプラズマユニットオプション搭載ができるサーマル式卓上ALD装置。 ■特長 ・小型でコンパクトな卓上タイプのALD装置です。プラズマユニットを装備、...
株式会社エイチ・ティー・エル
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Wayland Additive社 (英国) の電子ビーム・パウダベッド方式金属3Dプリンタです。次世代の電子ビーム金属積層造形装置が、応力のかからない大きな部品の造形...
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株式会社エイチ・ティー・エル
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ブイ・テクノロジー社のレーザーマスク描画装置です。LCD TFT、OLED 等の大型マスクをマルチヘッドのパラレル露光により、高速・高精度描画を可能にしました...
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株式会社エイチ・ティー・エル
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V-Technology グループのナノシステムソリューションが提供するLSI 2層目専用のマスク描画装置です。高精度・高信頼性の本装置は、効率良く低コストでマスク...
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株式会社エイチ・ティー・エル
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V-Technology グループのナノシステムソリューションが提供するLSIマスク汎用描画装置です。多くの描画装置製造の実績をベースに、LSIマスクを高精度で効率良...
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株式会社エイチ・ティー・エル
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Microtechは幅広い用途に対応した柔軟性の高い構成を可能にする装置をお届けします。LW405Dマスク描画装置は複数の露光波長を選択構成可能で、基板のサイズや...
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株式会社エイチ・ティー・エル
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AM-OLED用高精度大型フォトマスク・ハーフトーンマスク対応の最新モデル ■特長 ・部分真空システムによる装置設置面積の縮小化を実現 ・部分真空システムに...
株式会社エイチ・ティー・エル
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■特長 ・高精度で白黒欠陥やハーフトーン欠陥等の多彩な修正が可能 ・独自開発の光学系を使用。アパーチャビームによる高速大面積の欠陥修正とスポットビーム...
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