制御・計測・センシング
駆動・機械要素・電子制御部品
産業別カテゴリ
電源・エネルギー・熱処理機器
安全・保護・環境対策
材料・素材・ケミカル
電気・電子部品
構造部品・締結要素
ソフトウェア・ネットワーク
サービス
その他
全てのカテゴリ
閲覧履歴
レジストのメーカー22社一覧や企業ランキングを掲載中！レジスト関連企業の2025年7月注目ランキングは1位:株式会社シミズ、2位:JSR株式会社、3位:ナガセケムテックス株式会社となっています。 レジストの概要、用途、原理もチェック！
レジストはエッチングやはんだ付けなどの工程で基板の特定箇所を保護するために用いる材料です。一般的には半導体プロセスで用いられる「フォトレジスト」を単に「レジスト」と呼んでいます。
フォトレジストは特定の波長の光を吸収すると化学構造が変化して洗浄液、現像液に対する溶解性も変わります。そのため、基板にレジストを塗布した後に、回路パターンを描いたマスク越しに基板へ光を照射することで、一部のレジストのみを可溶化、もしくは不溶化させることが可能です。この状態で現像液を用いて基板を洗浄すると可溶なレジストのみが溶出し、基板の一部だけがレジストに保護された状態を作り出すことができます。
なお、レジストには光が照射された部位が現像液に溶解する「ポジ型レジスト」と、光が照射された部位が不溶化する「ネガ型レジスト」があります。
2025年7月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | 株式会社シミズ |
25.0%
|
| 2 | JSR株式会社 |
10.4%
|
| 3 | ナガセケムテックス株式会社 |
8.3%
|
| 4 | 東京応化工業株式会社 |
7.3%
|
| 5 | 日本ゼオン株式会社 |
6.8%
|
| 6 | 日本カンタム・デザイン株式会社 |
6.3%
|
| 7 | オプトシリウス株式会社 |
6.3%
|
| 8 | 信越化学工業株式会社 |
5.7%
|
| 9 | 富士フイルム エレクトロニクスマテリアルズ株式会社 |
4.7%
|
| 10 | 互応化学工業株式会社 |
3.6%
|
株式会社三明
360人以上が見ています
最新の閲覧: 17時間前
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
85.5時間 返答時間
■立体・曲面構造物への塗布 微細粒子化が可能なスプレーノズルにより、サブストレート上の傾斜面、キャビティ、トレンチ構造部分など、...
アロー産業株式会社
410人以上が見ています
最新の閲覧: 11時間前
100.0% 返答率
46.4時間 返答時間
近年、UVLEDのハイパワー化、波長の種類が増えた事などで、UVランプからUVLEDへの置き換えが増えてきました。 また、新型コロナウイル...
株式会社菱光社
180人以上が見ています
最新の閲覧: 5時間前
返信の比較的早い企業
4.7 会社レビュー
100.0% 返答率
23.9時間 返答時間
■概要 レジスト剥離を始めとする、有機剥離洗浄を行う装置 ■特長 ・メンテナンス性に優れた、背面上部搬送機タイプ。 ・超音波は、低周...
株式会社八光電機
240人以上が見ています
最新の閲覧: 17時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
5.9時間 返答時間
■特徴 ・バッチ式で均熱乾燥ができます。 ・タイマー機能により、昇温、乾燥、冷却、停止の全行程が自動運転で行えます。 ・ワーク用台...
ナガセケムテックス株式会社
760人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
92.9時間 返答時間
めまぐるしく進展する昨今の超微細半導体やフラットパネル製造の世界において、その製造プロセスも多様化が進み、適用可能材料の迅速な...
オプトシリウス株式会社
380人以上が見ています
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
13.7時間 返答時間
■粉体のレジストならではの特徴 ・⾧期間の保管が可能です …1年間の保管期間 ・いつも同じ粘度で使えます …使用前に溶媒と混合して使う...
株式会社BuhinDana
70人以上が見ています
返信の比較的早い企業
4.0 会社レビュー
100.0% 返答率
23.3時間 返答時間
■エアゾール・化学製品 / 補修剤 頑固な油汚れやニコチン汚れ洗浄剤の定番、ハヤトールをはじめ接点に付着したカーボンや汚れを除去し、...
株式会社イワキ
690人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の早い企業
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
6.4時間 返答時間
■高精度 フォトレジストをはじめ、薬液を精度良く計量・分注します。レジスト滴下量の最適化のため、1ショット当たりの分注精度を高め、...
株式会社ミノグループ
100人以上が見ています
返信の早い企業
4.0 会社レビュー
100.0% 返答率
8.4時間 返答時間
■デッド・オン・システムによるレジストレーション レジストピンによる位置固定・製版位置の絶対精度を併せ持ち、パッド印刷での版交換...
株式会社トリコ
40人以上が見ています
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
81.6時間 返答時間
■特質 ・無色透明 7PH ・生分解される ・シリコン・ウエハーに使用可能 ■特長 TFD Wは液晶画面 (LCD) の製造の第一工程で、フォトレジ...
株式会社ファイコーポレーション
440人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
20.8時間 返答時間
■特徴 ・塗着効率が約2倍に ・着面の仕上りが向上 ・少量多品種にも細かく対応 ・操作性向上
2種類の品番
ナガセケムテックス株式会社
810人以上が見ています
最新の閲覧: 12時間前
100.0% 返答率
92.9時間 返答時間
めまぐるしく進展する昨今の超微細半導体やフラットパネル製造の世界において、その製造プロセスも多様化が進み、適用可能材料の迅速な...
ナガセケムテックス株式会社
530人以上が見ています
最新の閲覧: 17時間前
100.0% 返答率
92.9時間 返答時間
めまぐるしく進展する昨今の超微細半導体やフラットパネル製造の世界において、その製造プロセスも多様化が進み、適用可能材料の迅速な...
株式会社ファイコーポレーション
520人以上が見ています
最新の閲覧: 11時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
20.8時間 返答時間
■特徴 ・装置概要 本装置は、X・Y・Z・θ軸を有する移動可能な ハンガーアームに、ワークを垂直状態でクランプし、 ワーク表裏の位置関係...
ナガセケムテックス株式会社
1080人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
92.9時間 返答時間
超微細化する半導体デバイスや、高精細・高機能化が進むフラットパネルディスプレイ。めまぐるしく進展する半導体やフラットパネル製造...
5種類の品番
株式会社ファイコーポレーション
450人以上が見ています
最新の閲覧: 20時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
20.8時間 返答時間
■特徴 ・膜厚均一性が高い ・両面同時塗布 ・塗布効率が向上 ・薄い基板に塗布できる
新電子株式会社
370人以上が見ています
最新の閲覧: 5時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
24.5時間 返答時間
ガラス上に多層フォトレジスト加工された微細パターン (パターン幅3μ) を画像検査します。
株式会社シミズ
290人以上が見ています
100.0% 返答率
50.3時間 返答時間
■主な用途 めっき、エッチング用マスキングレジスト 部分メッキやエッチング用マスキング ■機能 電着レジスト ■特徴 ・3次元のパター...
株式会社オーエステック
190人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
■ネガティブフォトレジストの特徴 各種用途に設計された各種ネガティブフォトレジストシリーズ ・ 従来のパターン転写 ・リフトオフプロ...
株式会社オーエステック
190人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
■ポジ型フォトレジストの独特の特徴 ・g-line、i-lineまたは広帯域露光に対する感度 ・露光後ベークなし ・容易な除去 ・各種粘性にすぐ...
株式会社タートル工業
170人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
2.6時間 返答時間
電圧レベルオフセット等、多用途OPAMP増幅器回路基板です。計測や制御機器、システムの製作で、｢ちょっと利得が足りない｣｢機器の都合で...
アイクレックス株式会社
180人以上が見ています
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
1.9時間 返答時間
■端子付プリント基板の概要・特長 端子の後付け工程の削減が可能な製品です。 ・あらかじめ端子を付けたプリント基板を製作します。 ・...
4種類の品番
株式会社タートル工業
180人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
2.6時間 返答時間
フィードバック等、多用途OPAMP増幅器回路基板です。計測や制御機器、システムの製作で、｢ちょっと利得が足りない｣｢機器の都合でインピ...
株式会社タートル工業
120人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
2.6時間 返答時間
電源基板です。計測や制御機器、システムの製作で、｢ちょっと利得が足りない｣｢機器の都合でインピーダンスを変換したい｣等の場面がよく...
株式会社タートル工業
190人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
2.6時間 返答時間
入力抵抗増大、雑音減少用入力バッファ付き増幅回路基板です。計測や制御機器、システムの製作で、｢ちょっと利得が足りない｣｢機器の都合...
株式会社タートル工業
160人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
2.6時間 返答時間
出力電流増強用出力バッファ付き増幅回路基板です。計測や制御機器、システムの製作で、｢ちょっと利得が足りない｣｢機器の都合でインピー...
芝浦メカトロニクス株式会社
50人以上が見ています
最新の閲覧: 13時間前
100.0% 返答率
87.8時間 返答時間
■新型・次世代ディスプレイ製品の開発を推進 有機EL (OLED) ・液晶のフラットパネルディスプレイ (FPD) においては、主要サプライヤとし...
株式会社タートル工業
150人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
2.6時間 返答時間
12dB又は18dB/OCTのLPF又はHPF基板です。計測や制御機器、システムの製作で、｢ちょっと利得が足りない｣｢機器の都合でインピーダンスを変...
株式会社ユニクラフト
1110人以上が見ています
最新の閲覧: 22時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
0.2時間 返答時間
■プリント基板をご提供するサービスです。 ・個人のお客様の電子工作、法人のお客様の試作・量産基板の製作などにご活用ください。 ・価...
検索結果 54件 (1ページ/2ページ)
レジストはエッチングやはんだ付けなどの工程で基板の特定箇所を保護するために用いる材料です。一般的には半導体プロセスで用いられる「フォトレジスト」を単に「レジスト」と呼んでいます。
フォトレジストは特定の波長の光を吸収すると化学構造が変化して洗浄液、現像液に対する溶解性も変わります。そのため、基板にレジストを塗布した後に、回路パターンを描いたマスク越しに基板へ光を照射することで、一部のレジストのみを可溶化、もしくは不溶化させることが可能です。この状態で現像液を用いて基板を洗浄すると可溶なレジストのみが溶出し、基板の一部だけがレジストに保護された状態を作り出すことができます。
なお、レジストには光が照射された部位が現像液に溶解する「ポジ型レジスト」と、光が照射された部位が不溶化する「ネガ型レジスト」があります。
レジストとはエッチングやはんだ付けなどの工程において特定の場所を保護する材料です。半導体プロセスにおける感光剤である「フォトレジスト」のことを単に「レジスト」と呼ぶことが多いので、本記事でもフォトレジストについて紹介します。
フォトレジストは光を照射することで化学構造が変化し、耐薬品性を発現したり逆に現像液に溶解したりする性質があります。この性質を利用し、シリコンウェハ上に塗布されたレジストに対して所定のパターンを描いたマスク越しに光を照射し、最後に現像液で洗浄することでレジストが無い加工部分とレジストに保護された非加工部分を基板上に作り出すことができます。このようなレジストは高集積化、微細化された半導体集積回路の製造には欠かせない材料の一つです。
図1. レジストの使用方法
半導体製造工程ではシリコンウェハーをエッチング処理によって削り取り、細かな凹凸を作ります。このエッチング処理において基板を選択的に保護するものがレジストです。
まず基板上にレジストを均一に塗布した後、レジストへIC回路を描いたマスク越しに光を照射します。このとき、光が照射された場所のレジストは光を吸収して化学構造が変化するため、光照射の有無によって現像液に対するレジストの溶解性を変えることが可能です。「ポジ型レジスト」と呼ばれるレジストでは光照射された場所が可溶になり、「ネガ式レジスト」では光照射されなかった場所が可溶となります。
このように基板上にレジストが選択的に残存した状態でエッチングすることでレジストがない領域だけ選択的に基板を削り取ることができます。そしてエッチング後に基板に残存したレジストを除去、洗浄することで基板のパターン形成が完了となります。
図2. レジストと液晶ディスプレイ
レジストには、顔料などの色材を入れたインクであるカラーレジストと呼ばれるものがあります。ガラス基板上に塗布されたカラーレジストは紫外線などの光を照射することで硬化するため、光照射後のレジストは現像液に流されることがありません。
液晶ディスプレイは赤・青・緑の三原色でパターンが形成されており、ここにカラーレジストが使われています。まず赤色のカラーレジストを塗布、所定の位置だけを光硬化させた後に現像液で洗浄、次いで青・緑のカラーレジストについても同様の操作を行うことで赤・青・緑のパターンを形成することができます。
図3. レジストの種類
レジスト材料は「ポジ型」「ネガ型」という分類のほか、吸収する光の波長ごとにも分類できます。半導体製造プロセスにおける露光装置ではg線(波長436nm)、i線(365nm)、KrFエキシマレーザー(248nm)、ArFエキシマレーザー(193nm)が用いられており、それぞれの波長を吸収する構造を有したレジストが販売されています。
例えばg線、i線用のポジ型レジストではノボラック樹脂と1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル(NQD)系化合物から成る化合物が用いられています。この化合物はNQDが疎水性であり、通常はアルカリ水溶液に不溶です。
しかし、g線かi線を照射するとNQD部位が分解し、親水性の化合物へと変化します。その結果、照射後のレジストはアルカリ性の現像液に溶解させることができます。その他、KrFレーザー用のポジ型レジストでは露光によって酸を発生させ、その酸の触媒反応によって露光部位のレジストの変化を促進させる化学増幅型フォトレジストが使われています。
