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レジストのメーカー22社一覧や企業ランキングを掲載中！レジスト関連企業の2025年8月注目ランキングは1位:株式会社シミズ、2位:東京応化工業株式会社、3位:日本ゼオン株式会社となっています。 レジストの概要、用途、原理もチェック！
レジストはエッチングやはんだ付けなどの工程で基板の特定箇所を保護するために用いる材料です。一般的には半導体プロセスで用いられる「フォトレジスト」を単に「レジスト」と呼んでいます。
フォトレジストは特定の波長の光を吸収すると化学構造が変化して洗浄液、現像液に対する溶解性も変わります。そのため、基板にレジストを塗布した後に、回路パターンを描いたマスク越しに基板へ光を照射することで、一部のレジストのみを可溶化、もしくは不溶化させることが可能です。この状態で現像液を用いて基板を洗浄すると可溶なレジストのみが溶出し、基板の一部だけがレジストに保護された状態を作り出すことができます。
なお、レジストには光が照射された部位が現像液に溶解する「ポジ型レジスト」と、光が照射された部位が不溶化する「ネガ型レジスト」があります。
2025年8月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | 株式会社シミズ |
17.7%
|
| 2 | 東京応化工業株式会社 |
9.1%
|
| 3 | 日本ゼオン株式会社 |
8.6%
|
| 4 | JSR株式会社 |
7.6%
|
| 5 | ナガセケムテックス株式会社 |
7.1%
|
| 6 | 富士フイルム エレクトロニクスマテリアルズ株式会社 |
7.1%
|
| 7 | 信越化学工業株式会社 |
6.1%
|
| 8 | 日本カンタム・デザイン株式会社 |
5.6%
|
| 9 | オプトシリウス株式会社 |
5.6%
|
| 10 | 互応化学工業株式会社 |
4.5%
|
株式会社三明
390人以上が見ています
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
85.5時間 返答時間
■立体・曲面構造物への塗布 微細粒子化が可能なスプレーノズルにより、サブストレート上の傾斜面、キャビティ、トレンチ構造部分など、...
株式会社菱光社
200人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
4.7 会社レビュー
100.0% 返答率
22.6時間 返答時間
■概要 レジスト剥離を始めとする、有機剥離洗浄を行う装置 ■特長 ・メンテナンス性に優れた、背面上部搬送機タイプ。 ・超音波は、低周...
株式会社八光電機
250人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
5.6時間 返答時間
■特徴 ・バッチ式で均熱乾燥ができます。 ・タイマー機能により、昇温、乾燥、冷却、停止の全行程が自動運転で行えます。 ・ワーク用台...
ナガセケムテックス株式会社
790人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
92.9時間 返答時間
めまぐるしく進展する昨今の超微細半導体やフラットパネル製造の世界において、その製造プロセスも多様化が進み、適用可能材料の迅速な...
オプトシリウス株式会社
490人以上が見ています
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
13.7時間 返答時間
■粉体のレジストならではの特徴 ・⾧期間の保管が可能です …1年間の保管期間 ・いつも同じ粘度で使えます …使用前に溶媒と混合して使う...
株式会社BuhinDana
70人以上が見ています
返信の比較的早い企業
4.0 会社レビュー
100.0% 返答率
23.3時間 返答時間
■エアゾール・化学製品 / 補修剤 頑固な油汚れやニコチン汚れ洗浄剤の定番、ハヤトールをはじめ接点に付着したカーボンや汚れを除去し、...
株式会社ミノグループ
120人以上が見ています
返信の早い企業
4.0 会社レビュー
100.0% 返答率
8.4時間 返答時間
■デッド・オン・システムによるレジストレーション レジストピンによる位置固定・製版位置の絶対精度を併せ持ち、パッド印刷での版交換...
株式会社トリコ
50人以上が見ています
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
81.6時間 返答時間
■特質 ・無色透明 7PH ・生分解される ・シリコン・ウエハーに使用可能 ■特長 TFD Wは液晶画面 (LCD) の製造の第一工程で、フォトレジ...
株式会社ファイコーポレーション
480人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
20.8時間 返答時間
■特徴 ・塗着効率が約2倍に ・着面の仕上りが向上 ・少量多品種にも細かく対応 ・操作性向上
2種類の品番
ナガセケムテックス株式会社
830人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
100.0% 返答率
92.9時間 返答時間
めまぐるしく進展する昨今の超微細半導体やフラットパネル製造の世界において、その製造プロセスも多様化が進み、適用可能材料の迅速な...
ナガセケムテックス株式会社
550人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
92.9時間 返答時間
めまぐるしく進展する昨今の超微細半導体やフラットパネル製造の世界において、その製造プロセスも多様化が進み、適用可能材料の迅速な...
株式会社ファイコーポレーション
550人以上が見ています
最新の閲覧: 9時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
20.8時間 返答時間
■特徴 ・装置概要 本装置は、X・Y・Z・θ軸を有する移動可能な ハンガーアームに、ワークを垂直状態でクランプし、 ワーク表裏の位置関係...
ナガセケムテックス株式会社
1130人以上が見ています
最新の閲覧: 12時間前
100.0% 返答率
92.9時間 返答時間
超微細化する半導体デバイスや、高精細・高機能化が進むフラットパネルディスプレイ。めまぐるしく進展する半導体やフラットパネル製造...
5種類の品番
株式会社ファイコーポレーション
480人以上が見ています
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
20.8時間 返答時間
■特徴 ・膜厚均一性が高い ・両面同時塗布 ・塗布効率が向上 ・薄い基板に塗布できる
株式会社シミズ
290人以上が見ています
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
26.3時間 返答時間
■主な用途 めっき、エッチング用マスキングレジスト 部分メッキやエッチング用マスキング ■機能 電着レジスト ■特徴 ・3次元のパター...
芝浦メカトロニクス株式会社
60人以上が見ています
100.0% 返答率
87.8時間 返答時間
■新型・次世代ディスプレイ製品の開発を推進 有機EL (OLED) ・液晶のフラットパネルディスプレイ (FPD) においては、主要サプライヤとし...
株式会社ユニクラフト
1190人以上が見ています
最新の閲覧: 11時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
0.2時間 返答時間
■プリント基板をご提供するサービスです。 ・個人のお客様の電子工作、法人のお客様の試作・量産基板の製作などにご活用ください。 ・価...
株式会社カワサカプロセス
480人以上が見ています
最新の閲覧: 20時間前
弊社では試作基板、量産基板を基板設計から部品実装まで幅広くお客様のご要望に承りしております。試作に関しましては基板設計から部品...
5種類の品番
OKIサーキットテクノロジー株式会社
1030人以上が見ています
最新の閲覧: 23時間前
100.0% 返答率
68.5時間 返答時間
FiTT (Fine pitch Through via Technology) 工法により0.35mmピッチ、1,000ピンBGA対応 32層プリント配線板を実現 特長 ・狭ピッチ、...
株式会社ユニクラフト
390人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
0.2時間 返答時間
■「基板の名刺」について ・「基板の名刺」はその名の通りプリント基板でできた名刺です。 ■インパクト抜群 ・光沢ある緑色の表面に金...
伊原電子工業株式会社
480人以上が見ています
最新の閲覧: 22時間前
100.0% 返答率
39.4時間 返答時間
非貫通スルーホール (IVH・BVH) の採用により、基板の高密度化・小型化が可能となります。
アイクレックス株式会社
190人以上が見ています
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
1.9時間 返答時間
■端子付プリント基板の概要・特長 端子の後付け工程の削減が可能な製品です。 ・あらかじめ端子を付けたプリント基板を製作します。 ・...
4種類の品番
伊原電子工業株式会社
410人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
39.4時間 返答時間
体層を1層ずつ積み上げてレーザーVIAで層間接続を取るビルドアップ構造により、VIAによる配線スペースの占有を大幅に少なくできます。配...
伊原電子工業株式会社
450人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
39.4時間 返答時間
スルーホールに専用の樹脂や金属ペーストを埋め込み、その上に蓋めっきをしてパッドを設けることによって配線スペースの節約が可能とな...
共立電子産業株式会社
10人以上が見ています
■概要 ポジ型フォトレジスト (感光剤) で、耐酸性に優れ高解像度が得られプリント基板の製造などに適しています。容量：500mL、ガラス瓶...
レジストはエッチングやはんだ付けなどの工程で基板の特定箇所を保護するために用いる材料です。一般的には半導体プロセスで用いられる「フォトレジスト」を単に「レジスト」と呼んでいます。
フォトレジストは特定の波長の光を吸収すると化学構造が変化して洗浄液、現像液に対する溶解性も変わります。そのため、基板にレジストを塗布した後に、回路パターンを描いたマスク越しに基板へ光を照射することで、一部のレジストのみを可溶化、もしくは不溶化させることが可能です。この状態で現像液を用いて基板を洗浄すると可溶なレジストのみが溶出し、基板の一部だけがレジストに保護された状態を作り出すことができます。
なお、レジストには光が照射された部位が現像液に溶解する「ポジ型レジスト」と、光が照射された部位が不溶化する「ネガ型レジスト」があります。
レジストとはエッチングやはんだ付けなどの工程において特定の場所を保護する材料です。半導体プロセスにおける感光剤である「フォトレジスト」のことを単に「レジスト」と呼ぶことが多いので、本記事でもフォトレジストについて紹介します。
フォトレジストは光を照射することで化学構造が変化し、耐薬品性を発現したり逆に現像液に溶解したりする性質があります。この性質を利用し、シリコンウェハ上に塗布されたレジストに対して所定のパターンを描いたマスク越しに光を照射し、最後に現像液で洗浄することでレジストが無い加工部分とレジストに保護された非加工部分を基板上に作り出すことができます。このようなレジストは高集積化、微細化された半導体集積回路の製造には欠かせない材料の一つです。
図1. レジストの使用方法
半導体製造工程ではシリコンウェハーをエッチング処理によって削り取り、細かな凹凸を作ります。このエッチング処理において基板を選択的に保護するものがレジストです。
まず基板上にレジストを均一に塗布した後、レジストへIC回路を描いたマスク越しに光を照射します。このとき、光が照射された場所のレジストは光を吸収して化学構造が変化するため、光照射の有無によって現像液に対するレジストの溶解性を変えることが可能です。「ポジ型レジスト」と呼ばれるレジストでは光照射された場所が可溶になり、「ネガ式レジスト」では光照射されなかった場所が可溶となります。
このように基板上にレジストが選択的に残存した状態でエッチングすることでレジストがない領域だけ選択的に基板を削り取ることができます。そしてエッチング後に基板に残存したレジストを除去、洗浄することで基板のパターン形成が完了となります。
図2. レジストと液晶ディスプレイ
レジストには、顔料などの色材を入れたインクであるカラーレジストと呼ばれるものがあります。ガラス基板上に塗布されたカラーレジストは紫外線などの光を照射することで硬化するため、光照射後のレジストは現像液に流されることがありません。
液晶ディスプレイは赤・青・緑の三原色でパターンが形成されており、ここにカラーレジストが使われています。まず赤色のカラーレジストを塗布、所定の位置だけを光硬化させた後に現像液で洗浄、次いで青・緑のカラーレジストについても同様の操作を行うことで赤・青・緑のパターンを形成することができます。
図3. レジストの種類
レジスト材料は「ポジ型」「ネガ型」という分類のほか、吸収する光の波長ごとにも分類できます。半導体製造プロセスにおける露光装置ではg線(波長436nm)、i線(365nm)、KrFエキシマレーザー(248nm)、ArFエキシマレーザー(193nm)が用いられており、それぞれの波長を吸収する構造を有したレジストが販売されています。
例えばg線、i線用のポジ型レジストではノボラック樹脂と1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル(NQD)系化合物から成る化合物が用いられています。この化合物はNQDが疎水性であり、通常はアルカリ水溶液に不溶です。
しかし、g線かi線を照射するとNQD部位が分解し、親水性の化合物へと変化します。その結果、照射後のレジストはアルカリ性の現像液に溶解させることができます。その他、KrFレーザー用のポジ型レジストでは露光によって酸を発生させ、その酸の触媒反応によって露光部位のレジストの変化を促進させる化学増幅型フォトレジストが使われています。
