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ガス発生装置についての概要、用途、原理などをご説明します。また、ガス発生装置のメーカー48社一覧や企業ランキングも掲載しております。ガス発生装置関連企業の2025年2月注目ランキングは1位:大陽日酸株式会社、2位:エア・ウォーター株式会社、3位:渡辺パイプ株式会社となっています。
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ガス発生装置 (英: gas generator) とは、各種ガスを発生させる装置です。
ガスは、家庭用や製造業など使用用途によってさまざまな供給方法あります。オンサイトでの供給方法の1つが、ガス発生装置によるものです。ガスの使用量や必要圧力など使用条件はさまざまです。
従って、装置自体もコンパクトなものから設備的なものまで幅広くあります。例えば、酸素の場合、希望の使用量に応じて、シリンダ・低温液化ガス容器・コールドエバボレーターCEへの液化ガスローリー供給、深冷空気分離装置や酸素PSAなどのガス発生装置によるパイピング供給などの供給手段が選択できます。
継続的に安定した流量で少ない量を使用する場合などは、電源を確保するだけで使用可能な小規模ガス発生装置が便利です。半導体を搭載しているパソコンなどの製品は、製造過程で窒素や多様な電子材料ガスが必要です。
各種ガスの発生装置は、製造法が大きく異なり、原理に差異があります。
PSA式の酸素ガス発生装置は、高純度の酸素を効率的に得るために、合成ゼオライトなどの吸着剤の窒素と酸素の平衡吸着量が、加圧下で大きく異なることを利用して、空気中の窒素を吸着除去します。この方法は、圧力スイング吸着法PSA式と呼ばれます。
窒素ガス発生装置は、空気中より酸素や水分を取り除いて、高純度の窒素を発生させます。主に3つの方式が使われています。
PSA式
分子の違いを利用して、ゼオライトや活性炭などの微多孔の吸着剤を用いて窒素分子と酸素分子を分離します。吸着塔は2つ用意し、交互に吸着と再生を繰り返すことで、連続して窒素を取り出すことが可能です。高純度窒素の利用に便利です。
ガス分離膜方式
一般的に中空糸が使用され、空気中の窒素より酸素を透過しやすい性質を利用します。分子の通過速度の違いを使って分離します。低純度窒素の利用に便利です。
深冷式
空気中の成分を沸点の違いにより分離する方法です。液体が気体になる温度の沸点は、酸素が-183.0℃、窒素が-195.8℃であり、この差を利用して分離します。
水素ガスの製造は、種々の方法があります。化石燃料を改質する方法、化学プラントなどから副次的に発生する水素を回収・精製する方法、水の電気分解による方法などが実用されています。
石炭や石油などの化石燃料を高温で分解・改質して水素を製造する方法は、製造時にCO2を排出する短所があります。また、発生したCO2を回収して地中に貯留したり、利用したりする技術を使えば、CO2の排出量を削減可能です。
水の電気分解法は、再生エネルギーの利用により、CO2排出量は0になります。電極にプラチナ触媒などを用いることにより、高い純度の水素を製造できます。
水素/一酸化炭素ガス発生装置があります。天然ガス、二酸化炭素、酸素を原料に使い、H2/CO ＝ 1 : 1の混合ガスを発生させます。
さらに、H2/COガスを特殊吸着剤を使用して精製すれば高純度一酸化炭素ガスが製造可能です。H2/COガスの用途は、金属の還元剤、メタン、メタノールを原料とする化学合成、天然ガスを原料とするナフサ・灯油・軽油の製造などです。
参考文献
https://shinko-airtech.com/equip_o2.html
https://www.awi.co.jp/business/industrial/gas/supply.html?pi=supplyOnsite
https://www.anest-iwata.co.jp/compressor/nitrogen/index.html
*一部商社などの取扱い企業なども含みます。
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | 大陽日酸株式会社 |
13.6%
|
| 2 | エア・ウォーター株式会社 |
9.1%
|
| 3 | 渡辺パイプ株式会社 |
9.1%
|
| 4 | 株式会社エスワン |
4.5%
|
| 5 | 石井理化 |
4.5%
|
| 6 | 株式会社タムラ製作所 |
4.5%
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| 7 | ウインテック株式会社 |
4.5%
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| 8 | 大幸薬品株式会社 |
4.5%
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| 9 | サンファーネス株式会社 |
4.5%
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| 10 | 株式会社旭ケミカルス |
4.5%
|
140,000 円
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Metoreeに登録されているガス発生装置243製品の2025年3月31日時点での価格データを元に算出しています。
