薄膜形成装置研究開発用スパッタリング装置

薄膜形成装置研究開発用スパッタリング装置品番6件

フィルター

品番	価格 (税抜)	処理基板 ¢180mm x 1枚 ¢200mm x 1枚 ¢100mm ¢190mm ¢280mm	ターゲット / カソードタイプ	ターゲット / サイズx個数 ¢75m x 3ヶ ¢100mm x 3ヶ ¢75m x 5ヶ ¢75m x 1ヶ	スパッタ方向アップダウン	基板台 / 回転機構 ◯	基板台 / 基板加熱基板台で300℃ 基板台で700℃ 基板台で200℃	基板台 / 膜厚分布 ±5%以内 (¢50) ±10%以内 (¢180) ±10%以内 (¢200) ±10%以内 (¢50) ±5%以内 (¢180) ±5%以内 (¢200)	基板台 / 搬送方法トランスファーロッド多段式ロッド	排気系 / 到達压力 8.0 x 10-⁵Pa以下 5.0 x 10-⁴Pa以下	排気系 / 排気時間 5.0 x 10-⁴Paまで25分以内 5.0 x 10-⁴Paまで20分以内 9.9 x 10-⁴Paまで20分以内	排気系 / 主ポンプターボ分子ポンプ油拡散ポンプターボケヱポンプ	操作方法 / 排気動作自動手動	操作方法 / 搬送操作手動自動	操作方法 / 成膜動作半自動 (タイマー式) 自動手動 (タイマー式)	スパッタ電源 / RF 500W オプション 1kW	スパッタ電源 / DC オプション 3kW	ガス導入系 2系統 1系統	ターゲット / サイズ x 個数 ¢100mm x 3ヶ
SRL3320	要見積もり	¢180mm x 1枚	プレーナマグネトロン	¢75m x 3ヶ	アップ	◯	基板台で300℃	±5%以内 (¢50)	トランスファーロッド	8.0 x 10-⁵Pa以下	5.0 x 10-⁴Paまで25分以内	ターボ分子ポンプ	自動	手動	半自動 (タイマー式)	500W	オプション	2系統	-
SDL4320	要見積もり	¢200mm x 1枚	プレーナマグネトロン	¢100mm x 3ヶ	アップ	◯	基板台で300℃	±10%以内 (¢180)	トランスファーロッド	8.0 x 10-⁵Pa以下	5.0 x 10-⁴Paまで20分以内	ターボ分子ポンプ	自動	手動	半自動 (タイマー式)	オプション	3kW	2系統	-
STL5520	要見積もり	¢200mm x 1枚	プレーナマグネトロン	¢75m x 5ヶ	アップ	◯	基板台で700℃	±10%以内 (¢200)	多段式ロッド	8.0 x 10-⁵Pa以下	5.0 x 10-⁴Paまで20分以内	ターボ分子ポンプ	自動	自動	自動	500W	3kW	2系統	-
SRV3100	要見積もり	¢100mm	プレーナマグネトロン	¢75m x 1ヶ	アップ	-	基板台で200℃	±10%以内 (¢50)	-	5.0 x 10-⁴Pa以下	9.9 x 10-⁴Paまで20分以内	油拡散ポンプ	手動	-	手動 (タイマー式)	500W	オプション	1系統	-
SRV3300	要見積もり	¢190mm	プレーナマグネトロン	¢75m x 3ヶ	ダウン	◯	基板台で300℃	±5%以内 (¢180)	-	5.0 x 10-⁴Pa以下	9.9 x 10-⁴Paまで20分以内	油拡散ポンプ	手動	-	手動 (タイマー式)	500W	オプション	2系統	-
SRV4320	要見積もり	¢280mm	プレーナマグネトロン	-	アップ	◯	基板台で300℃	±5%以内 (¢200)	-	5.0 x 10-⁴Pa以下	9.9 x 10-⁴Paまで20分以内	ターボケヱポンプ	手動	-	手動 (タイマー式)	1kW	オプション	2系統	¢100mm x 3ヶ