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シリーズ
薄膜形成装置 バッチスパッタリング装置取扱企業
神港精機株式会社カテゴリ
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スパッタリング装置の製品119点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 処理基板 | ターゲット / カソードタイプ | ターゲット / サイズx個数 | スパッタ方向 | 基板台 / 回転機構 | 基板台 / 基板加熱 | 基板台 / 膜厚分布 | 排気系 / 到達压力 | 排気系 / 排気時間 | 排気系 / 主ポンプ | 操作方法 / 排気動作 | 操作方法 / 成膜動作 | スパッタ電源 / RF | スパッタ電源 / DC | ガス導入系 | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
SRV4310 |
要見積もり |
¢320mm |
プレーナマグネトロン |
¢100mm x 3ヶ |
アップ |
◯ |
基板台で300℃ |
±10%以内 (¢210) |
6.0 x 10-⁵Pa以下 |
9.9 x 10-⁴Paまで10分以内 |
クライオポンプ |
自動 |
半自動 (タイマー式) |
500W |
オプション |
2系統 |
|
SRV6310 |
要見積もり |
¢320mm |
プレーナマグネトロン |
¢150mm x 3ヶ |
アップ |
◯ |
基板台で300℃ |
±10%以内 (¢300) |
6.0 x 10-⁵Pa以下 |
9.9 x 10-⁴Paまで10分以内 |
クライオポンプ |
自動 |
半自動 (タイマー式) |
1kW |
オプション |
2系統 |
||
SRV7310 |
要見積もり |
¢520mm |
RMC |
¢200mm x 3ヶ |
アップ |
◯ |
基板台で300℃ |
±10%以内 (¢420) |
6.0 x 10-⁵Pa以下 |
9.9 x 10-⁴Paまで10分以内 |
クライオポンプ |
自動 |
半自動 (タイマー式) |
3kW |
オプション |
2系統 |
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800
