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RASシリーズ最高の生産性を誇る最新機種 大型基板用スパッタ装置 RAS-2200取扱企業
株式会社シンクロンカテゴリ
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スパッタリング装置の製品119点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 基板ドラムサイズ | ラジカル源 | スパッタ源 | 排気システム | オプション |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
RAS-2200 |
要見積もり |
φ1,800 x 1,500mm |
ICP RFラジカル源 x3基 |
Dual Cathode 68″ Rotary cathode |
【CH-1】あらびきユニット 【CH-2】14 インチTMP x 6、マイスナトラップ、あらびきユニット |
AFS機構・CH-2、基板加熱機構・CH-1 |
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800
