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材料探索向けスパッタ装置の最高峰 研究開発向け小型多元スパッタ装置 P-RAS取扱企業
株式会社シンクロンカテゴリ
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スパッタリング装置の製品120点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 装置構成 | 基板台 | カソード | ガス導入 | 基板加熱 | 所用電力 | 据付⾯積 | 総重量 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
P-RAS |
要見積もり |
成膜室 予備室 基板自動搬送 |
2インチ (最大4インチ) 、20rpm、上下20mm |
2インチ (最大4カソード) |
スパッタガス (Ar) 反応ガス (O2、N2) |
カーボンヒーター (最高 600℃) |
1f 100V±10％ 4Kw (最大) |
W1,500 mm × D900 mm × H1,400 mm |
450Kg |
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800
